[發明專利]一種用于轉化涂布含鋅金屬基底的組合物及其處理方法和該處理過的含鋅金屬基底及其用途

有效

• 申請號: 200810096526.9
• 申請日: 2008-05-12
• 公開（公告）號: CN101580654A
• 公開（公告）日: 2009-11-18
• 發明（設計）人: 西提才·觸-庵派;洪靜嫻
• 申請（專利權）人: 漢高兩合股份公司
• 主分類號: C09D1/00
• 分類號: C09D1/00;B05D7/14
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司
• 代理人: 薛 琦;朱水平

1.?一種用于轉化涂布含鋅金屬基底的組合物，其特征在于，其為水性 無鉻溶液，包含組分：(a)磷酸，(b)氟鈦絡合物和(c)釩離子源；所述各 組分的含量分別為：由釩離子源提供的釩離子(c)在該組合物中的濃度為 1g/L～20g/L，釩離子(c)與由磷酸提供的磷酸根離子(a)在該組合物中的摩爾 比為1∶4～1∶2，同時釩離子(c)與氟鈦絡合物(b)在該組合物中的摩爾比 為3∶2～3∶1。

2.?如權利要求1所述的組合物，其中，所述的釩離子(c)與磷酸根離子 (a)的摩爾比為1∶3～1∶2。

3.?如權利要求1所述的組合物，其特征在于，所述的釩離子(c)與氟鈦 絡合物(b)的摩爾比為3∶2～2∶1。

4.?如權利要求1所述的組合物，其特征在于，還含有成分(d)，其選自 硼和/或硅的氟復合物。

5.?如權利要求4所述的組合物，其特征在于，所述的硼和/或硅的氟 復合物為四氟硼酸鈉、氟硼酸銨、六氟硅酸或六氟硅酸鈉。

6.?如權利要求4所述的組合物，其特征在于，釩離子(c)與選自硼和/ 或硅的氟復合物的成分(d)的摩爾比為1∶1～4∶1。

7.?如權利要求6所述的組合物，其特征在于，釩離子(c)與選自硼和/ 或硅的氟復合物的成分(d)的摩爾比為3∶2～4∶1。

8.?如權利要求1所述的組合物，其特征在于，所述的釩離子源為釩原 子氧化數大于+III價的釩酸鹽。

9.?如權利要求1所述的組合物，其特征在于，所述的釩離子源選自二 氧化釩、五氧化二釩、偏釩酸鈉和偏釩酸銨。

10.?如權利要求1所述的組合物，其特征在于，所述的由釩離子源提 供的釩離子(c)在該組合物中的濃度為6g/L～14g/L。

11.?如權利要求10所述的組合物，其特征在于，所述的由釩離子源提 供的釩離子(c)在該組合物中的濃度為10g/L～14g/L。

12.?如權利要求1所述的組合物，其特征在于，所述的組合物的pH為 1～4.3。

13.?如權利要求12所述的組合物，其特征在于，所述的組合物的pH 為2～4.3。

14.?如權利要求13所述的組合物，其特征在于，所述的組合物的pH 為最佳的為3～4.3。

15.?一種通過用水將其稀釋從而形成權利要求1～14任一項所述的組 合物的配制組合物，其特征在于，其為水性無鉻溶液，包含組分：(a)磷酸， (b)氟鈦絡合物和(c)釩離子源；上述各組分的含量分別為：由釩離子源提 供的釩離子(c)在該配制組合物中的濃度為20g/L～85g/L，釩離子(c)與由磷 酸提供的磷酸根離子(a)在該配制組合物中的摩爾比為1∶4～1∶2，同時釩 離子(c)與氟鈦絡合物(b)在該配制組合物中的摩爾比為3∶2～3∶1。

16.?如權利要求15所述的配制組合物，其特征在于，釩離子與磷酸根 離子的摩爾比為1∶3～1∶2，同時釩離子與氟鈦絡合物的摩爾比為3∶2～ 2∶1。

17.?如權利要求15所述的配制組合物，其特征在于，該配制組合物與 水的稀釋比例為≥1∶10。

18.?如權利要求17所述的配制組合物，其特征在于，該配制組合物與 水的稀釋比例為≥1∶4。

19.?一種在含鋅金屬基底上形成轉化涂層的方法，其特征在于，將含 鋅金屬基底與一種權利要求1～14中任一項所述的組合物接觸。

20.?如權利要求19所述的方法，其特征在于，所述的含鋅金屬基底與 所述的組合物接觸后，將粘附于該含鋅金屬基底表面的組合物濕膜立即烘 干。