[發(fā)明專利]用于增加藍(lán)光透光率的抗反射涂層結(jié)構(gòu)及其制作方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200810096128.7
• 申請日: 2008-04-29
• 公開（公告）號: CN101571602A
• 公開（公告）日: 2009-11-04
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張正杰;劉秀鳳;郭璧瑞
• 申請（專利權(quán)）人: 智盛全球股份有限公司
• 主分類號: G02B1/11
• 分類號: G02B1/11
• 代理公司: 北京律誠同業(yè)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 梁 揮;祁建國

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種涂層結(jié)構(gòu)及其制作方法，特別是涉及一種用于增加藍(lán)光透光率的低電阻光衰減抗反射涂層結(jié)構(gòu)及其制作方法。

背景技術(shù)

現(xiàn)有的抗反射光學(xué)涂層的多層系統(tǒng)皆利用一通則，該通則為該光學(xué)涂層的表層的物質(zhì)具有一低折射率，例如SiO₂，折射率為1.46，或MgF₂，折射率為1.38。然而，當(dāng)將該抗反射涂層運(yùn)用于顯示器工業(yè)時，例如具抗靜電效果的計算機(jī)屏幕或用于液晶顯示器或電漿顯示器的低反射玻璃時，在大量生產(chǎn)的過程中，存在一些瓶頸，其原因是該光學(xué)涂層結(jié)構(gòu)的導(dǎo)電層由一絕緣層(例如SiO₂或MgF₂)所燒制而成。

一抗反射涂層的基本設(shè)計規(guī)則為，布置于一基板表面的第一層為具高折射率的物質(zhì)所構(gòu)成(標(biāo)示為H)，其后接著一具低折射率的物質(zhì)所構(gòu)成(標(biāo)示為L)的第二層，因此，現(xiàn)有的抗反射涂層的多層結(jié)構(gòu)的規(guī)則為HLHL或HLHLHL，以高折射率(H)的物質(zhì)為ITO而低折射率(L)的物質(zhì)為SiO₂為例子，該四層結(jié)構(gòu)分別為Glass/ITO/SiO₂/ITO/SiO₂。因?yàn)镮TO是一透明的導(dǎo)電物質(zhì)，該多層結(jié)構(gòu)的涂層的導(dǎo)電性低于每平方100奧姆(Ω)，而且當(dāng)該導(dǎo)電涂層連結(jié)至地時，可用于電磁干擾(EMI)頻障或靜電放電。然而，問題是該現(xiàn)有的光學(xué)多層結(jié)構(gòu)的表面物質(zhì)為SiO₂，且其厚度為1000埃該SiO₂的物質(zhì)特性為高密度、具有惰性和一良好的電絕緣層，在運(yùn)用傳統(tǒng)的抗反射涂層于顯示器工業(yè)的過程中，電性接觸由外部的SiO₂層所隔離的該燒制的ITO層是困難的，在使一金屬接觸該ITO層的接地過程中，需要使用一超音波焊接方法去打破該SiO₂層，以確保錫球與該ITO層產(chǎn)生良好接觸，此一方法為大量生產(chǎn)抗反射涂層的瓶頸。

另一方面，由于液態(tài)錫和超音波的曝露能量的緣故，該超音波焊接方法產(chǎn)生微細(xì)的污染物，此外，該超音波焊接方法亦會于每一匯流線上產(chǎn)生非持久性的接觸阻抗，這是因?yàn)槌舨ê附臃椒o法保證能夠均勻的以相同的深度打破該絕緣層而得到一均勻的接觸阻抗。

上述的缺點(diǎn)會降低在運(yùn)用現(xiàn)有的抗電磁干擾和抗反射涂層的制作過程的合格率和可靠度。

再者，請參考圖1A所示，其為現(xiàn)有光線穿過未加工的玻璃的透光率(lighttransmittance)與光波長(light?wavelength)的特性曲線圖。由圖中可知，當(dāng)光線穿過未加工的玻璃時(玻璃上沒有成形任何的涂層)，不同的光波長皆具有約92％相同的光穿透率。

另外，請參閱圖1B所示，其為現(xiàn)有光線穿過已加工的玻璃的透光率(lighttransmittance)與光波長(light?wavelength)的特性曲線圖。由圖中可知，當(dāng)光線穿過已加工的玻璃時(玻璃上已成形有一預(yù)定的防電磁干擾(EMI)涂層)，不同的光波長具有不同百分比的光穿透率。尤其是針對偏藍(lán)光(最左邊區(qū)域)及偏紅光(最右邊區(qū)域)的光波長，其透光率皆明顯的降低至10％左右。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的主要目的是提供一種用于增加藍(lán)光透光率的低電阻光衰減抗反射涂層結(jié)構(gòu)，該低電阻光衰減抗反射涂層可運(yùn)用于半導(dǎo)體、光學(xué)頭、液晶顯示器、陰極射線管、建筑玻璃、觸控式傳感器、屏幕濾波器、塑料網(wǎng)板涂層等工業(yè)。

本發(fā)明的另一目的是提供一種用于增加藍(lán)光透光率的低電阻光衰減抗反射涂層結(jié)構(gòu)，該低電阻光衰減抗反射涂層的表層的物質(zhì)為一可穿透的表面導(dǎo)電層，而該可穿透的表面導(dǎo)電層的光反射率低于0.5％，該低電阻光衰減抗反射涂層的阻抗介于每平方0.5Ω與0.7Ω之間，而其穿透率為55％至70％。

本發(fā)明的另一目的是提供一種用于增加藍(lán)光透光率的低電阻光衰減抗反射涂層結(jié)構(gòu)，本發(fā)明的涂層結(jié)構(gòu)其具有高導(dǎo)電性的特性，當(dāng)其運(yùn)用于電漿顯示器的制造時，其具有電磁干擾屏障、光學(xué)視角低反射、高表面硬度抗刮性、適度的光衰減效應(yīng)等優(yōu)點(diǎn)。例如，本發(fā)明的涂層結(jié)構(gòu)的表面阻抗介于每平方0.5Ω與0.7Ω之間，以及具有足夠硬度去通過軍事標(biāo)準(zhǔn)MIL-C-48497的耐刮測試。