[發明專利]容器消毒裝置、系統和方法

有效

• 申請號: 200810096018.0
• 申請日: 2008-04-21
• 公開（公告）號: CN101310773A
• 公開（公告）日: 2008-11-26
• 發明（設計）人: 休謨里·海因茨;克魯格·約恩;門茲·漢斯約根;福爾·埃伯哈德
• 申請（專利權）人: 克朗斯股份有限公司
• 主分類號: A61L2/08
• 分類號: A61L2/08
• 代理公司: 深圳市順天達專利商標代理有限公司
• 代理人: 高占元;李琴

1.一種容器(10)消毒裝置(1)，包括具有供電荷載體通過的出射窗(8)的處 理頭(5)、產生電荷載體的電荷載體產生源以及在出射窗(8)的方向上加速電荷 載體的加速設備(6)，其特征在于，所述處理頭(5)的橫截面具有使處理頭(5)能 穿過容器(10)的容器口的尺寸，加速設備(6)以從出射窗(8)射出的電荷載體能射 到容器(10)的內壁上的方式加速電荷載體；并且所述裝置(1)包括內殼(20)，其 中設置有所述加速設備(6)，且一外殼(16)將所述內殼(20)包圍；在所述外殼(16) 和內殼(20)之間形成有延伸到處理頭(5)的腔室(22)，氣體或液體介質通過所述 腔室(22)導入。

2.根據權利要求1所述的裝置(1)，其特征在于，所述出射窗(8)和加速設 備(6)設置在外殼(16)中，該外殼(16)具有使該外殼(16)能穿過容器(10)的容器口 的尺寸。

3.根據權利要求2所述的裝置(1)，其特征在于，所述裝置(1)由屏蔽設備 (18)包圍。

4.根據權利要求1所述的裝置(1)，其特征在于，所述腔室(22)包括一個 或多個供氣體或液體介質通過的通道(22a、22b)。

5.根據權利要求4所述的裝置(1)，其特征在于，所述氣體介質從一組氣 體介質中選出，包括氦氣、氮氣、氬氣、二氧化碳及其混合物。

6.根據權利要求4所述的裝置(1)，其特征在于，所述液體介質從一組液 體介質中選出，包括水、油、液氮。

7.根據權利要求1所述的裝置(1)，其特征在于，所述出射窗(8)由從一組 物質中選出的物質做成，包括鈦、石英玻璃、鉆石及其化合物。

8.根據權利要求7所述的裝置(1)，其特征在于，所述出射窗(8)具有3μm 到30μm之間的厚度。

9.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述裝置(1)包括用于使電 荷載體偏轉的偏轉設備(7)。

10.根據權利要求1所述的裝置(1)，其特征在于，所述處理頭(5)相對容 器(10)在容器(10)的軸向(L)上移動。

11.根據權利要求1所述的裝置(1)，其特征在于，所述處理頭(5)相對容 器(10)旋轉。

12.根據權利要求1所述的裝置(1)，其特征在于，所述處理頭(5)在容器 (10)的徑向上移動。

13.一種利用根據前述權利要求中任意一項所述的裝置(1)處理容器的系 統(30)。

14.根據權利要求13所述的系統(30)，其特征在于，所述系統(30)包括用 于填充容器(10)的設備(32)，且所述裝置(1)設置在該填充容器的設備(32)的上 游。

15.根據權利要求13所述的系統(30)，其特征在于，所述系統包括在容 器(10)的軸向上相對所述裝置(1)轉移容器的轉移設備(36)。

16.根據權利要求13-15中任意一項所述的系統(30)，其特征在于，所述 裝置(1)設置在容器膨脹設備(38)和填充容器的設備(32)之間。

17.根據權利要求13所述的系統(30)，其特征在于，所述系統(30)包括多 個依照權利要求1至13中任意一項所述的容器消毒裝置(1)，其中這些裝置(1) 沿圓形軌道設置。

18.根據權利要求13所述的系統，其特征在于，所述系統包括用于對容 器(10)的外壁進行消毒的進一步消毒裝置(1b)。

19.根據權利要求18所述的系統，其特征在于，所述進一步消毒裝置(1b) 設置在所述裝置(1)的上游。

20.根據權利要求18或19所述的系統，其特征在于，所述進一步消毒裝 置(1b)固定設置。