[發(fā)明專利]用于從逐塊存儲的參考圖像中檢索測試塊的方法和設(shè)備無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810095614.7 | 申請日: | 2008-04-29 |
| 公開(公告)號: | CN101299273A | 公開(公告)日: | 2008-11-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 馬爾特·博蘇姆;克勞斯·格德克;馬爾科·格奧爾基 | 申請(專利權(quán))人: | 湯姆森許可貿(mào)易公司 |
| 主分類號: | G06T7/20 | 分類號: | G06T7/20 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 | 代理人: | 羅松梅 |
| 地址: | 法國布洛涅*** | 國省代碼: | 法國;FR |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 存儲 參考 圖像 檢索 測試 方法 設(shè)備 | ||
1、一種用于從逐塊存儲的參考圖像中檢索測試塊(180)的方法,所述方法包括如下步驟:
-檢索參考塊(110),
-根據(jù)所述參考塊(110)產(chǎn)生第一光暈塊(130、140),以及
-通過使用所述參考塊(110)的子區(qū)域和所述第一光暈塊(130、140)的子區(qū)域來編制所述測試塊(180),其中,所述第一光暈塊(130、140)的子區(qū)域小于所述第一光暈塊(130、140)。
2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,還包括
-檢索與所述參考塊(110)相鄰的塊(120);
-根據(jù)所述相鄰塊(120)產(chǎn)生相鄰光暈塊(160、170),以及
-所述編制測試塊(180)的步驟包括:還使用所述相鄰塊的子區(qū)域以及所述相鄰光暈塊(160、170)的子區(qū)域。
3、根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其中
-產(chǎn)生第一光暈塊(140、160)的步驟包括:復(fù)制所述參考塊(110)的邊界列;以及
-產(chǎn)生相鄰光暈塊(140、160)的步驟包括:復(fù)制所述相鄰塊(120)的邊界列。
4、根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其中
-產(chǎn)生第一光暈塊(130、170)的步驟包括:復(fù)制所述參考塊(110)的邊界行;以及
-產(chǎn)生相鄰光暈塊(130、170)的步驟包括:復(fù)制所述相鄰塊(120)的邊界行。
5、根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,還包括
-根據(jù)所述參考塊(110)產(chǎn)生第二光暈塊(130、140)和拐角光暈塊(150),其中
-編制測試塊(180)的步驟包括:還使用所述第二光暈塊(130、140)的子區(qū)域和所述拐角光暈塊(150)的子區(qū)域。
6、根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,其中
-產(chǎn)生第一光暈塊(130、140)的步驟包括:復(fù)制所述參考圖像的邊界行,
-產(chǎn)生第二光暈塊(130、140)的步驟包括:復(fù)制所述參考圖像的邊界列,以及
-產(chǎn)生拐角光暈塊(150)的步驟包括:復(fù)制所述參考塊(110)的拐角像素,其中,所述拐角像素被包括在所述邊界行和所述邊界列中。
7、根據(jù)上述任意一項(xiàng)權(quán)利要求所述的方法,其中
-產(chǎn)生光暈塊(130、140、150、160、170)的步驟包括:并行地產(chǎn)生像素。
8、根據(jù)上述任意一項(xiàng)權(quán)利要求所述的方法,其中,針對運(yùn)動估計,把所述測試塊與來自另一圖像的塊進(jìn)行比較。
9、一種用于從逐塊存儲的參考圖像中檢索測試塊(180)的設(shè)備,所述設(shè)備包括:
-用于檢索塊(110、120)的裝置,
-用于根據(jù)所檢索的塊(110、120)產(chǎn)生光暈塊(130、140、160、170)的裝置,以及
-用于根據(jù)所檢索的塊(110)的子區(qū)域和所產(chǎn)生的光暈塊(130、140、160、170)的子區(qū)域來編制所述測試塊(180)的裝置,其中,所產(chǎn)生的光暈塊(130、140)的所述子區(qū)域小于所產(chǎn)生的光暈塊(130、140)。
10、根據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備,其中
-用于產(chǎn)生(30)光暈塊(130、140、150、160、170)的裝置適用于:通過復(fù)制所檢索的塊(110、120)的列、行或一個像素,并行地產(chǎn)生所述光暈塊(130、140、150、160、170)的像素。
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