[發(fā)明專利]狹縫式涂布機用預(yù)備排出裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200810095240.9
• 申請日: 2008-05-05
• 公開（公告）號: CN101303530A
• 公開（公告）日: 2008-11-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 鄭恩米;尹承韓
• 申請（專利權(quán)）人: K.C.科技股份有限公司
• 主分類號: G03F7/16
• 分類號: G03F7/16;B05C5/02
• 代理公司: 北京銘碩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 韓明星;金玉蘭

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種狹縫式涂布機用預(yù)備排出裝置，尤其涉及可以將用于清除涂布到滾輪表面的感光液的溶液均勻地供應(yīng)到滾輪表面的狹縫式涂布機用預(yù)備排出裝置。?

背景技術(shù)

通常，在半導(dǎo)體設(shè)備或者平板顯示器(FPD：flat?panel?display)的制造工程中，為了使在被處理基板(硅晶片或者玻璃基板)上執(zhí)行特定功能的薄膜，例如氧化薄膜、金屬薄膜、半導(dǎo)體薄膜等以所需的形狀圖案化(patterning)，進行將與光源產(chǎn)生反應(yīng)的感光液(sensitive?material)涂布到所述薄膜上面的工程。?

如上所述地為在被處理基板的薄膜上構(gòu)成預(yù)定的回路模式而涂布感光液形成感光膜，并對應(yīng)回路模式使所述感光膜曝光，然后對曝光的部位或者沒有曝光的部位進行顯影處理進而清除的一系列過程稱為影印工程或者光刻(Photolithography)工程。?

在所述影印工程中，感光膜的厚度應(yīng)以預(yù)定厚度均勻形成。例如，若感光膜厚度比基準(zhǔn)值厚，則薄膜中所需的部分就不會被蝕刻，而若感光膜厚度比基準(zhǔn)值薄，則薄膜的被蝕刻程度就會超過預(yù)期的蝕刻量。因此如果要在被處理基板上形成厚度均勻的感光膜，則應(yīng)首先在被處理基板上均勻地涂布感光液。?

玻璃基板主要使用利用平板(surface?plate)支撐基板的狀態(tài)下，使形成在橫跨基板方向排出感光液的狹縫(slit)的狹縫噴嘴沿著垂直于狹縫的形成方向在基板上移動的同時利用所述狹縫在基板表面涂布感光液的非旋轉(zhuǎn)式涂布(spinless?coating)法或者狹縫式涂布(slit?coating)法。?

圖1是采用非旋轉(zhuǎn)式涂布法的以往的感光液涂布裝置(狹縫式涂布機)的概略的立體圖。?

參照圖1可知，以往的狹縫式涂布機包含：平板10，裝載并支撐需要進行感光液處理的基板S；狹縫噴嘴20，在裝載于所述平面板10的基板S上面?涂布感光液。?

所述狹縫噴嘴20在其底端形成長度與基板S的寬度W對應(yīng)的狹縫(未圖示)。當(dāng)在基板S上面涂布感光液時，在平面板10的一側(cè)待機的狹縫噴嘴20朝基板S方向前移并通過所述狹縫在基板S表面涂布感光液，而當(dāng)感光液的涂布作業(yè)完成之后，后退至平面板10一側(cè)待機。?

另外，以往的狹縫式涂布機的狹縫噴嘴20在涂布完感光液之后，所述狹縫及所述狹縫周圍的兩側(cè)邊緣(lip)殘留著有機絕緣物質(zhì)或者部分感光液。在狹縫噴嘴20待機的時段所述殘留的感光液與外氣接觸后屬性會發(fā)生變化或者狹縫噴嘴20待機后再次進行涂布作業(yè)時會發(fā)生巨涌(surge)現(xiàn)象，因而對于在基板上面形成均質(zhì)的涂布膜造成不良影響。?

為解決上述問題，以往的狹縫式涂布機具備預(yù)備排出裝置30，以用于狹縫噴嘴20對基板S進行涂布之前清除殘留的涂布液或者在進行涂布時防止巨涌現(xiàn)象。?

圖2是圖1中示出的狹縫式涂布機用預(yù)備排出裝置的剖視圖。?

參照圖2可知，以往的狹縫式涂布機用預(yù)備排出裝置包含：滾輪31，以用于接收狹縫噴嘴20預(yù)備排出的排出液；收容部32，以用于可旋轉(zhuǎn)地支撐所述滾輪31并將滾輪31收容于內(nèi)部；清洗組件41、42、43、44、45、46，沿著所述滾輪的旋轉(zhuǎn)方向設(shè)置。?

具體說，滾輪31在收容部32內(nèi)部旋轉(zhuǎn)的同時從其上側(cè)的狹縫噴嘴20接收殘留于狹縫上的殘留液，而收容部32將滾輪31浸漬于儲存在下部的清洗液內(nèi)清除滾輪31外沿的排出液。而且，清洗組件31包含：第一噴嘴41，給滾輪31的表面供應(yīng)用于稀釋感光液的溶液，例如溶劑(solvent)；刮刀42，與滾輪31的外沿接觸而清除異物；第二噴嘴43，噴射清洗液；第三噴嘴44，在滾輪31浸漬于清洗液之后再次噴射清洗液；刮刀45，清除殘留清洗液；以及第四噴嘴46，用于噴射干燥空氣。?

根據(jù)如上構(gòu)成的以往的預(yù)備排出裝置執(zhí)行的預(yù)備排出裝置的清洗過程如下。狹縫噴嘴20預(yù)備排出藥液，例如感光液到朝一側(cè)方向旋轉(zhuǎn)的滾輪31表面，所述感光液被旋轉(zhuǎn)的滾輪31移送到收容部內(nèi)部。在這個過程中，感光液被第一噴嘴41噴射到滾輪31表面的溶液一次稀釋，而包含于該感光液內(nèi)的異物則通過刮刀42清除。?

接著，利用儲存于收容部32內(nèi)的清洗液清洗滾輪表面，并通過清洗液清?洗之后通過第三噴嘴44和刮刀45再次對滾輪表面進行清洗，最后利用第四噴嘴46對滾輪31表面進行干燥，由此完成清洗。以上的作業(yè)過程在藥液通過狹縫噴嘴預(yù)備排出的時間內(nèi)連續(xù)反復(fù)地進行。?