[發明專利]用于改進形狀記憶合金與聚合物之間粘附力的方法

有效

• 申請號: 200810095190.4
• 申請日: 2008-02-22
• 公開（公告）號: CN101260193A
• 公開（公告）日: 2008-09-10
• 發明（設計）人: L·G·小赫克托爾;A·M·曼斯;W·R·羅杰斯;P·D·扎瓦蒂里;D·A·奧康斯基;E·謝爾曼;W·巴沃薩－卡特
• 申請（專利權）人: 通用汽車環球科技運作公司
• 主分類號: C08J5/12
• 分類號: C08J5/12;C23F1/02;B29C70/70
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司
• 代理人: 周鐵;韋欣華

1.一種改進形狀記憶合金和聚合材料間粘附力的方法，包括：

使形狀記憶合金的表面與含有含磷化合物的溶液接觸；以及

將形狀記憶合金嵌入到聚合材料中。

2.根據權利要求1的方法，還包括在使形狀記憶合金表面與含有含磷化合物的溶液接觸前，用酸性溶液從該表面移除氧化物/氫氧化物層，并在形狀記憶合金表面上形成新的氧化物/氫氧化物層。

3.根據權利要求1的方法，其中含磷化合物包含反應性官能團。

4.根據權利要求3的方法，其中反應性官能團與聚合材料相互作用。

5.根據權利要求1的方法，其中含有含磷化合物的溶液包含單體膦酸、單體次膦酸、聚合的膦酸、或含上述酸中至少一種的混合物。

6.根據權利要求5的方法，其中單體膦酸通常定義為式R_m[PO(OH)]_n，其中R是總共具有1-30個碳原子的一個或多個自由基；m是分子中自由基的數目，其范圍是1-10；n是分子中膦酸基團的數目，其范圍是1-10。

7.根據權利要求5的方法，其中單體次膦酸通常定義為式R_mR’_o[PO(OH)]_n，其中R是總共具有1-30個碳原子的一個或多個自由基；m是分子中R自由基的數目，其范圍是1-10；R’可以是氫，還可以由含1-30個碳原子的自由基組成；o是R’自由基的數目，其范圍是1-10；n是分子中次膦酸基團的數目，其范圍是1-10。

8.根據權利要求1的方法，其中含有含磷化合物的溶液包括苯基膦酸的水溶液。

9.根據權利要求2的方法，其中酸溶液包含無機酸的水溶液。

10.根據權利要求1的方法，其中形狀記憶合金包括鎳鈦合金。

11.根據權利要求1的方法，進一步包括在形狀記憶合金表面與含有含磷化合物的溶液接觸前紋飾該表面。

12.一種改進形狀記憶合金和聚合材料間粘附力的方法，包括：

紋飾形狀記憶合金的表面；以及

將形狀記憶合金嵌入到聚合材料中。

13.根據權利要求12的方法，進一步包括在嵌入前使形狀記憶合金的表面與包含有機硅烷化合物的溶液接觸。

14.根據權利要求12的方法，其中紋飾所述表面包括形成峰和谷。

15.根據權利要求14的方法，其中在形狀記憶合金表面形成峰和谷包括掩蓋對應于峰的部分并刻蝕未掩蓋的部分以形成谷。

16.根據權利要求12的方法，其中紋飾所述表面包括通過使用掩模材料用氧化物蝕刻劑過刻蝕所述表面，使用掩模材料電化學刻蝕，使用反電極電化學刻蝕，機械加工，電弧放電加工，高強度超聲處理，以及它們的結合。

17.根據權利要求12的方法，其中紋飾包括塑性變形或永久變形至少一部分的形狀記憶合金以形成與聚合材料的機械互鎖。

18.一種改進形狀記憶合金和聚合材料間粘附力的方法，包括：

紋飾形狀記憶合金的表面以形成紋飾的表面；

使形狀記憶合金的紋飾表面與含有含磷化合物或硅烷偶聯劑的溶液接觸；以及

將形狀記憶合金嵌入到聚合材料中。

19.根據權利要求18的方法，還包括在使形狀記憶合金表面與含有含磷化合物的溶液接觸前，用酸性溶液從該表面移除氧化物/氫氧化物層，并在形狀記憶合金表面上形成新的氧化物/氫氧化物層。

20.根據權利要求18的方法，其中含有含磷化合物的溶液包含單體膦酸、單體次膦酸、聚合的膦酸、或含上述酸中至少一種的混合物。

21.根據權利要求18的方法，其中紋飾所述表面包括形成峰和谷。

22.根據權利要求21的方法，其中在形狀記憶合金表面形成峰和谷包括掩蓋對應于峰的部分并刻蝕未掩蓋的部分以形成谷。

23.根據權利要求17的方法，其中紋飾表面包括通過使用掩模材料用氧化物蝕刻劑過刻蝕該表面，使用掩模材料或反電極電化學刻蝕，機械加工，電弧放電加工，高強度超聲處理，以及它們的結合。