[發明專利]光刻設備和方法

有效

• 申請號: 200810094981.5
• 申請日: 2008-04-30
• 公開（公告）號: CN101299134A
• 公開（公告）日: 2008-11-05
• 發明（設計）人: 斯蒂芬·魯克斯
• 申請（專利權）人: ASML控股股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 王波波

1.一種適用于光刻設備中的投影系統，所述投影系統包括：

透射式光學元件；以及

熱分布修正器，所述熱分布修正器配置用于改變所述透射式光學元件 的熱分布，所述熱分布修正器包括傳遞部件和熱分布調節器，所述傳遞部 件可移至所述透射式光學元件附近和從所述透射式光學元件附近移開，以 將所需的熱分布從熱分布調節器傳遞給所述透射式光學元件，其中所述熱 分布調節器包括至少一個加熱板，

其中所述加熱板或每個加熱板包括可獨立尋址的電加熱器的陣列。

2.根據權利要求1所述的投影系統，其中所述熱分布調節器包括一對 加熱板，所述加熱板相互間隔地布置，以使得所述傳遞部件可以置于所述 加熱板之間。

3.根據權利要求1所述的投影系統，其中所述可獨立尋址的電加熱器 被布置用于將熱量傳遞給所述傳遞部件的選擇的離散區域。

4.根據權利要求3所述的投影系統，還包括控制器，所述控制器配置 用于選擇用于熱傳遞的所述離散區域。

5.根據權利要求4所述的投影系統，其中所述控制器配置用于相對于 圖案化的輻射束的相圖選擇用于熱傳遞的所述離散區域。

6.根據權利要求4所述的投影系統，其中所述控制器配置用于相對于 所述投影系統的模型選擇用于熱傳遞的所述離散區域。

7.根據權利要求4所述的投影系統，其中所述控制器被設置在所述熱 分布調節器中或與所述熱分布調節器相鄰的位置上。

8.根據權利要求1所述的投影系統，其中所述傳遞部件包括冷卻器。

9.根據權利要求1所述的投影系統，其中所述投影系統包括兩個透射 式光學元件。

10.根據權利要求9所述的投影系統，其中所述傳遞部件可移動到所 述兩個透射式光學元件之間的位置和從所述位置移開。

11.根據權利要求1所述的投影系統，其中所述傳遞部件可移動到與 所述透射式光學元件相關聯的光瞳平面上。

12.根據權利要求1所述的投影系統，還包括第二傳遞部件。

13.根據權利要求12所述的投影系統，其中所述傳遞部件和第二傳遞 部件可移至所述透射式光學元件附近和從所述透射式光學元件附近移開， 以將所需的熱分布從所述熱分布調節器傳遞到所述透射式光學元件中。

14.根據權利要求13所述的投影系統，其中所述傳遞部件和第二傳遞 部件可移至所述透射式光學元件附近和從所述透射式光學元件附近移開， 以使得當處于所述透射式光學元件附近時，所述透射式光學元件位于所述 傳遞部件和所述第二傳遞部件之間。

15.根據權利要求1所述的投影系統，其中所述透射式光學元件是透 鏡。

16.根據權利要求1所述的投影系統，其中所述透射式光學元件是對 一定波長的輻射透明的材料的扁平片。

17.一種光刻設備，所述光刻設備包括：

照射系統，所述照射系統配置用于調節輻射束；

支撐結構，所述支撐結構構建用于支撐圖案形成裝置，所述圖案形成 裝置能夠將圖案賦予經過調節的輻射束的橫截面，以形成圖案化的輻射 束；

襯底臺，所述襯底臺構建用于保持襯底；以及

投影系統，所述投影系統包括透射式光學元件，并配置用于將圖案化 的輻射束投影到襯底的目標部分上，所述投影系統包括：

熱分布修正器，所述熱分布修正器配置用于改變所述透射式光學元件 的熱分布，所述熱分布修正器包括傳遞部件和熱分布調節器，所述傳遞部 件可移至所述透射式光學元件附近和從所述透射式光學元件附近移開，以 將所需的熱分布從熱分布調節器傳遞給所述透射式光學元件；

其中所述熱分布調節器包括至少一個加熱板，所述加熱板或每個加熱 板包括可獨立尋址的電加熱器的陣列。