[發(fā)明專(zhuān)利]沉積設(shè)備

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200810094819.3
• 申請(qǐng)日: 2008-04-28
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101294271A
• 公開(kāi)（公告）日: 2008-10-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 西塔明;植竹猶基
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 索尼株式會(huì)社
• 主分類(lèi)號(hào): C23C14/24
• 分類(lèi)號(hào): C23C14/24;H05B33/10
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所
• 代理人: 彭久云

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明總體上涉及用于在基板上形成薄膜的沉積設(shè)備，特別是提供有線型蒸發(fā)源的沉積設(shè)備。

背景技術(shù)

在平面顯示裝置中，近些年采用有機(jī)電致發(fā)光元件(有機(jī)EL元件：EL代表電致發(fā)光)的顯示裝置已經(jīng)引起人們的關(guān)注。采用有機(jī)電致發(fā)光元件的顯示裝置(在下文，也稱(chēng)為“有機(jī)EL顯示器”)的優(yōu)點(diǎn)是例如寬視角和低功耗等，這是因?yàn)樗鼈兪前l(fā)光顯示器，即它們不需要背光。

有機(jī)EL顯示器中采用的有機(jī)電致發(fā)光元件通常構(gòu)造成在上電極和下電極(陽(yáng)極和陰極)之間設(shè)置由有機(jī)材料制造的有機(jī)層。正電壓和負(fù)電壓分別施加給陽(yáng)極和陰極，以分別從陽(yáng)極和陰極給有機(jī)層注入空穴和電子。因此，空穴和電子在有機(jī)層中彼此復(fù)合來(lái)發(fā)光。

有機(jī)電致發(fā)光元件的有機(jī)層是多層結(jié)構(gòu)，包括空穴注入層、空穴傳輸層、發(fā)射層和電荷注入層。形成各層的有機(jī)材料由于抗水性低而不能采用濕法工藝。因?yàn)檫@個(gè)原因，為了形成有機(jī)層，各層依次形成在有機(jī)電致發(fā)光元件的元件基板(通常為玻璃基板)上，以提供所要求的多層結(jié)構(gòu)。另外，為了色彩化處理，對(duì)應(yīng)于R(紅)、G(綠)和B(藍(lán))色彩成分的三種有機(jī)材料通過(guò)采用真空薄膜形成技術(shù)的真空沉積法沉積在各個(gè)不同的像素位置，由此形成有機(jī)層。

真空沉積設(shè)備用于形成有機(jī)層。真空室底層面積的增加導(dǎo)致真空沉積設(shè)備成本的劇增，并且增加設(shè)備的安裝面積，由此增加安裝成本。因此，從成本上看增加了負(fù)面因素。另外，真空室體積的增加，增加了抽真空的必要時(shí)間，因此傾向于降低生產(chǎn)效率。

為了應(yīng)對(duì)其上通過(guò)真空沉積形成膜并且具有多層有機(jī)層的基板(下文稱(chēng)為“待加工基板”)的擴(kuò)大，近些年已經(jīng)采用線型長(zhǎng)蒸發(fā)源。另外，提出了一種沉積設(shè)備，其中在真空室中提供要排列的多個(gè)這樣的蒸發(fā)源(見(jiàn)日本專(zhuān)利申請(qǐng)公開(kāi)2003-157973號(hào))。

發(fā)明內(nèi)容

如果多個(gè)線型蒸發(fā)源提供成如上所述的排列方式，則相鄰蒸發(fā)源之間的間隔減少，以使真空室的底層面積和安裝面積減小。然而，相鄰蒸發(fā)源之間的間隔減小和真空室的底層面積減小將減少在真空室中維護(hù)沉積設(shè)備的工作空間。沉積設(shè)備的維護(hù)工作的實(shí)例包括：蒸發(fā)材料填入蒸發(fā)源中的填充工作；膜厚度傳感器(其采用例如晶體振蕩器)的置換工作；以及粘合保護(hù)板和限制板的清洗工作，該粘合保護(hù)板適用于防止蒸發(fā)材料粘合到不需要蒸發(fā)材料的部分，該限制板適用于限制沉積范圍。

所希望的是提供一種沉積設(shè)備，該沉積設(shè)備能夠提供滿(mǎn)意的維護(hù)性能而不在線型蒸發(fā)源之間設(shè)定寬的安裝間隔。

根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，所提供的沉積設(shè)備包括：多個(gè)線型蒸發(fā)源，提供成排列在預(yù)定的方向上；和運(yùn)動(dòng)與支撐機(jī)構(gòu)，用于支撐該多個(gè)線型蒸發(fā)源以便在蒸發(fā)源的排列方向和/或縱向方向上可單獨(dú)運(yùn)動(dòng)。

在根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的沉積設(shè)備中，通過(guò)在其任何排列方向和縱向方向上運(yùn)動(dòng)蒸發(fā)源，在真空室中可以擴(kuò)大用于維護(hù)的空間。

根據(jù)本發(fā)明，通過(guò)在維護(hù)期間根據(jù)需要運(yùn)動(dòng)每個(gè)蒸發(fā)源可以保證維護(hù)所需的寬闊空間，而無(wú)需在真空室中的蒸發(fā)源之間設(shè)定寬的安裝間隔。

附圖說(shuō)明

圖1是圖示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的沉積設(shè)備的示范性構(gòu)造的示意圖；

圖2A和2B是圖示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的沉積設(shè)備主要部分的示意圖；

圖3通過(guò)實(shí)例的方式圖示了線型蒸發(fā)源的運(yùn)動(dòng)；

圖4通過(guò)另一個(gè)實(shí)例的方式圖示了線型蒸發(fā)源的運(yùn)動(dòng)；

圖5通過(guò)實(shí)例的方式圖示了典型蒸發(fā)源的構(gòu)造；

圖6A和6B圖示了線型蒸發(fā)源的第一構(gòu)造實(shí)例；

圖7A和7B圖示了線型蒸發(fā)源的第二構(gòu)造實(shí)例；

圖8A和8B圖示了線型蒸發(fā)源的第三構(gòu)造實(shí)例；

圖9A和9B圖示了線型蒸發(fā)源的第四構(gòu)造實(shí)例；

圖10圖示了坩堝單元(crucible?unit)的構(gòu)造實(shí)例；和

圖11A和11B圖示了線型蒸發(fā)源的第五構(gòu)造實(shí)例。

具體實(shí)施方式

在下文，將參照附圖詳細(xì)描述本發(fā)明的實(shí)施例。

圖1是圖示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的沉積設(shè)備的示范性構(gòu)造的示意圖。如圖所示的沉積設(shè)備1用于在采用例如有機(jī)電致發(fā)光元件制造顯示裝置中在由例如玻璃基板制造的待加工基板2上沉積有機(jī)層。

沉積設(shè)備1裝備有未示出的真空室。沉積設(shè)備1的真空室在內(nèi)部提供有適用于傳送待加工基板2的傳送裝置(未示出)和多個(gè)線型蒸發(fā)源3。傳送裝置通過(guò)在Y方向上運(yùn)動(dòng)待加工基板2(水平運(yùn)動(dòng))來(lái)在Y方向上相對(duì)運(yùn)動(dòng)待加工基板2和線型蒸發(fā)源3，而在相對(duì)于線型蒸發(fā)源3的位置上水平支撐待加工基板2。