[發明專利]勻光薄膜及其制作方法

無效

• 申請號: 200810094697.8
• 申請日: 2008-05-07
• 公開（公告）號: CN101576625A
• 公開（公告）日: 2009-11-11
• 發明（設計）人: 徐玉貞
• 申請（專利權）人: 徐玉貞
• 主分類號: G02B5/02
• 分類號: G02B5/02;B29C59/02
• 代理公司: 北京科龍寰宇知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 孫皓晨;費碧華

技術領域

本發明涉及一種勻光薄膜及其制作方法，特別是指一種無須使用散射粒子的勻光薄膜及其制作方法。

背景技術

勻光薄膜的功用是用來使通過的光線形成漫射來達到光線的均勻分布?，F有的勻光薄膜結構是如同圖1所示，主要是在透明基材10上涂布一添加有散射粒子12的樹脂層，并可利用滾筒對樹脂層進行滾壓，以形成特定凸紋，接續再通過烘烤使樹脂層揮發或者硬化，以形成一粗糙層14。光線在經過勻光薄膜時，會在粗糙層14內不斷地在散射粒子與樹脂間的兩個折射率不同的介質中進行許多次折射、反射與散射，來產生光線均勻分布的效果。但是流質狀態的樹脂層物質與固態物質的散射粒子在混煉過程上，固態物質在流質狀態中分布的單位密度控制極為不易，此外，涂布過程的取料、流質的流動狀態、速度等都會影響散射粒子的分布狀態，因此使得整個勻光薄膜的不可預測因素過多，造成整體厚度不均勻，與散射粒子分布不均，造成光線在粗糙層14中折射、反射與散射的勻光效果不易控制，因此形成量產上與使用上的瓶頸。

此外，現有的勻光薄膜的粗糙層都為凸紋，這樣的雖可增加勻光薄膜表面的粗糙度，但卻無法提高光線的聚光能力，而造成光線亮度上的損耗。

有鑒于此，本發明遂針對上述現有技術的缺失，提出一種勻光薄膜及其制作方法，以有效克服上述的所述的問題。

發明內容

本發明的一個主要目的在提供一種勻光薄膜及其制作方法，其是在勻光薄膜的粗糙層表面上形成規則或不規則排列的凹紋，如此達到聚光以及增加表面粗糙度的功效。

本發明的另一目的在提供一種勻光薄膜及其制作方法，其無須使用散射粒子。

本發明的再一目的在提供一種勻光薄膜及其制作方法，其利用模板壓紋的方式來形成規則或不規則排列的凹紋/凸紋粗糙層，以達到可維持凹紋/凸紋粗糙度性能的再現性，而可進行量產。

本發明的又一目的在提供一種勻光薄膜及其制作方法，其是在勻光薄膜的入光、出光粗糙層表面上各形成規則或不規則排列的凹紋、凸紋，如此達到聚光以及增加表面粗糙度的功效。

為實現上述目的，本發明采用的技術方案包括：

一種勻光薄膜，其特征包含：

一透明基材；以及

一粗糙層，其位于所述的透明基材的表面上，所述的粗糙層的表面具有凹紋。

其中：所述的透明基材的材質為聚對苯二甲酸乙二醇酯。

其中：所述的凹紋粗糙層的材質為熱固型樹脂。

其中：所述的凹紋粗糙層的凹紋是利用一表面具有凸紋的模板壓印而成。

其中：所述的模板上的凸紋是利用粒子堆疊而成。

其中：所述的模板上的凸紋和粗糙層的凹紋的尺寸為微米或納米級。

其中：所述的透明基材的另一表面上還設有另一粗糙層，所述的粗糙層的表面具有凸紋。

為實現上述目的，本發明采用的技術方案還包括：

一種勻光薄膜的制作方法，其特征是包含下列步驟：

提供一透明基材；

在所述的透明基材上形成膠體層；

利用一表面具有凸紋的模板對所述的膠體層進行滾壓，以使所述的膠體層的表面形成凹紋；以及

對所述的膠體層進行固化，以形成粗糙層。

其中：所述的透明基材的材質為聚對苯二甲酸乙二醇酯。

其中：所述的膠體層的材質為熱固型樹脂。

其中：所述的模板上的凸紋是利用粒子堆疊而成。

其中：所述的模板上的凸紋的尺寸為微米或納米級。

為實現上述目的，本發明采用的技術方案還包括：

一種勻光薄膜，其特征是包含有：

一透明基材；

一凹紋粗糙層，其是位于所述的透明基材的上表面上；以及

一凸紋粗糙層，其是位于所述的透明基材的下表面上。

其中：所述的凹紋粗糙層是利用一表面具有凸紋的模板壓印而成。

其中：所述的凸紋粗糙層是利用一表面具有凹紋的模板壓印而成。

其中：所述的模板的凸紋是利用粒子堆疊而成。

其中：所述的透明基材的材質為聚對苯二甲酸乙二醇酯。

其中：所述的凹紋粗糙層的材質為熱固型樹脂。

其中：所述的模板上的凹紋的尺寸為微米或納米級。

其中：所述的模板上的凸紋的尺寸為微米或納米級。

其中：所述的凹紋粗糙層是勻光薄膜的入光面，所述的凸紋粗糙層是勻光薄膜的出光面。

為實現上述目的，本發明采用的技術方案還包括：

一種勻光薄膜的制作方法，其特征是包含有下列步驟：

提供一透明基材；