[發明專利]清潔刮片

有效

• 申請號: 200810094506.8
• 申請日: 2008-04-18
• 公開（公告）號: CN101290500A
• 公開（公告）日: 2008-10-22
• 發明（設計）人: 望月健一;井上晶司;畑中拓
• 申請（專利權）人: 佳能化成株式會社
• 主分類號: G03G21/00
• 分類號: G03G21/00
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所
• 代理人: 劉新宇;李茂家

技術領域

本發明涉及安裝在采用靜電轉印方法的成像設備中的清潔刮片，其包括刮片構件和支撐構件以擦除殘留在設置于成像設備的感光鼓上的殘余調色劑。

背景技術

采用靜電轉印方法的成像設備，如電子照相復印機、激光光束打印機和傳真機，通過將調色劑粘附于在感光鼓上形成的靜電潛像，然后將該調色劑圖像轉印至復印紙進行復印和打印。作為在轉印調色劑圖像后除去殘留在感光鼓上的殘余調色劑的方法，采用具有由聚氨酯彈性體形成的刮片構件和支撐構件(支架)的清潔刮片的方法已經投入實際應用。

傳統上，作為形成此刮片構件的材料，已使用機械強度如耐磨性優良并且較不易蠕變(creep)(由于接觸應力而永久變形)的聚酯聚氨酯彈性體，尤其是熱固性聚氨酯彈性體。

上述聚酯聚氨酯彈性體通常使用多異氰酸酯、多元醇、擴鏈劑和催化劑通過預聚物法、半一步法、一步法等生產。在這樣的生產中，加入催化劑以縮短模塑周期并改進該刮片構件的生產效率。傳統上，作為此類催化劑已使用三亞乙基二胺(TEDA)，二甲基咪唑(DMI)等。然而，使用該催化劑生產的聚酯聚氨酯彈性體具有內部殘留的上述催化劑通過空氣中的水分或熱而蒸發，導致污染其他部件的問題。那么，作為其他部件被上述催化劑污染的結果，可能出現圖像缺陷。

作為解決該問題的手段，介紹了使用在一個分子中具有2或3個羥基的催化劑的情況(例如參見日本專利申請特開No.H07-290603)。當使用具有此特征的催化劑時，分子中包含的羥基與預聚物中包含的異氰酸酯反應。因此，可防止該催化劑從聚氨酯彈性體中滲出。然而，即使當催化劑分子中具有羥基時，并非所有羥基都與預聚物中的異氰酸酯反應。在此情況下，未反應的催化劑可能通過空氣中的水分或熱從聚氨酯彈性體中滲出。

由于隨著電子照相復印機或激光光束打印機的普及而帶來的成像設備小型化和圖像質量提高，與其他部件的位置關系比以前更接近，或者清潔刮片周圍的空間變小。因此，即使當通過空氣中的水分或熱而蒸發的催化劑的量很小時，其他部件也容易被污染，這導致容易出現圖像缺陷的情況。

發明內容

考慮到上述現有的情況進行了本發明，目的在于提供即使當將清潔刮片在高溫和高濕環境下長期貯藏也不造成其他部件污染的清潔刮片。

已解決上述問題的本發明是安裝在采用靜電轉印方法的成像設備中的清潔刮片，其包括刮片構件和支撐構件以擦除殘留在設置于成像設備的感光鼓上的殘余調色劑，其中用甲醇從清潔刮片提取的含氮化合物總量為在清潔刮片縱向方向每cm該清潔刮片12μg以下。

通過下列對示例實施方案的描述，本發明的進一步特征將變得顯而易見。

具體實施方式

本發明可提供其他構件不被未反應的催化劑污染的清潔刮片。

本發明的清潔刮片安裝在采用靜電轉印方法的成像設備中，并包括刮片構件和支撐構件以擦除殘留在設置于成像設備的感光鼓上的殘余調色劑。該清潔刮片具有以下特征：用甲醇從清潔刮片提取的含氮化合物總量為在清潔刮片縱向方向每cm該清潔刮片12μg以下。

本發明的清潔刮片的生產方法不限定于某特定方法，并且其可以用任意已知方法生產。例如，本發明的清潔刮片可如下生產。即，制備支撐構件，在支撐構件的一個端面施用粘結劑。然后，將涂有粘結劑的支撐構件放入例如由上模具和下模具形成的清潔刮片模塑模具中。在這種情況下，將支撐構件以以下狀態放入模塑模具中：將其上涂有粘結劑的端面伸入模腔中。隨后，將包含多異氰酸酯、多元醇、擴鏈劑、聚氨酯固化催化劑等的液體原料組合物注入清潔刮片模塑模具的模腔中，加熱以固化。接著，從模具中脫模固化材料，并切割成規定尺寸，從而生產刮片構件形成在支架構件上的清潔刮片。

在本發明的清潔刮片中，要求用甲醇從清潔刮片提取的含氮化合物總量為在清潔刮片縱向方向每cm該清潔刮片12μg以下。當用甲醇提取的含氮化合物總量大于在清潔刮片縱向方向每cm清潔刮片12μg時，可能污染其他部件，導致出現圖像缺陷。作為靠近清潔刮片布置的其他部件，可列舉例如感光鼓和充電輥。每個部件的縱向方向與清潔刮片的縱向方向都相同。因此，當其他部件被清潔刮片污染時，在清潔刮片縱向方向每cm清潔刮片滲出的含氮化合物總量成為重要指標。

此外，當由聚氨酯彈性體形成刮片構件時，用甲醇從聚氨酯彈性體中提取的含氮化合物總量優選等于或小于每g聚氨酯彈性體50μg。當將用甲醇提取的含氮化合物總量調整到等于或小于每g聚氨酯彈性體50μg時，可以防止上述其他部件的污染。