[發明專利]監控光刻工藝的方法與監控標記

有效

• 申請號: 200810093317.9
• 申請日: 2008-04-18
• 公開（公告）號: CN101561633A
• 公開（公告）日: 2009-10-21
• 發明（設計）人: 吳健民;陳建志
• 申請（專利權）人: 力晶半導體股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F1/14
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所
• 代理人: 陶鳳波

1.一種監控光刻工藝的方法，其包含：

(a)提供一光掩模，該光掩模上的圖案包含一監控標記，該監控標記包含至少一直線圖案以及一基準圖案，該直線圖案的一末端與該基準圖案具有一線距；

(b)提供一光刻系統，該光刻系統可進行一光刻工藝，以將該光掩模上的圖案轉移至一基底；

(c)提供該光刻工藝的一工藝條件數據庫，其包含該監控標記經過該光刻工藝后發生的直線末端緊縮尺寸與該光刻系統的對焦位置的一相對關系；

(d)進行一光刻工藝，以將該光掩模上的圖案轉移至一基底上而形成至少一光刻標記圖案對應于該監控標記；

(e)量測該光刻標記圖案的一直線末端緊縮尺寸，以得到一量測結果；以及

(f)將該量測結果與該工藝條件數據庫進行比對，以監控該光刻工藝的對焦位置是否發生偏差。

2.如權利要求1所述的方法，其中該工藝條件數據庫包含該光刻標記圖案的該線距相對該光刻系統的對焦位置變異的一曲線圖。

3.如權利要求1所述的方法，其中該基準圖案包含一基準直線圖案，垂直于該直線圖案。

4.如權利要求1所述的方法，其中該監控標記包含多組直線末端圖案，且這些直線末端圖案的這些直線圖案不互相平行。

5.如權利要求1所述的方法，其中該工藝條件數據庫包含該光刻系統在最佳對焦位置所對應的一直線末端緊縮尺寸，并且該直線末端緊縮尺寸具有一最小值。

6.如權利要求1所述的方法，其中該光掩模包含一產品圖案區域與一切割道區域，且該監控標記設于該切割道區域內。

7.如權利要求6所述的方法，其中該光掩模包含至少三監控標記設于該切割道區域內，以利用這些監控標記監控該光刻系統是否發生對焦平面偏差。

8.如權利要求1所述的方法，其另包含：

提供一工藝統計控制系統；以及

將該直線末端緊縮尺寸與該工藝條件數據庫的比對結果回傳至該工藝統計控制系統，當監控出該光刻工藝的對焦位置發生偏差時，即時調整該光刻工藝的工藝條件。

9.一種用于監控光刻工藝的監控標記，其具有至少一組直線末端圖案，其包含：

至少一直線圖案；以及

至少一基準圖案，設于該直線圖案的一末端的一側，該基準圖案距離該直線圖案的該末端具有一線距。

10.如權利要求9所述的監控標記，其中該基準圖案包含一基準直線圖案，垂直于該直線圖案，且該基準直線圖案與該直線圖案的距離為該線距。

11.如權利要求9所述的監控標記，其包含多組直線末端圖案，且這些直線末端圖案的這些直線圖案不互相平行。

12.如權利要求11所述的監控標記，其包含四組直線末端圖案，且這些直線末端圖案的這些直線圖案與一水平軸的夾角分別為0°、45°、90°與135°。

13.如權利要求12所述的監控標記，其中這些直線末端圖案的這些直線圖案相交于一交點。

14.如權利要求13所述的監控標記，其中該交點為這些直線圖案的一中點。

15.如權利要求13所述的監控標記，其中這些直線圖案呈一“米”字型排列。

16.如權利要求11所述的監控標記，其中各組直線末端圖案包含一直線圖案以及二基準圖案，在該直線圖案的兩個末端各設置一個對應的基準圖案。

17.如權利要求9所述的監控標記，其設于一光掩模的一切割道區域內，并且該監控標記與該光掩模上的一產品圖案經過一光刻工藝同時轉移至一基底上。