[發(fā)明專利]半導(dǎo)體芯片的接合方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810092994.9 | 申請日: | 2008-04-22 |
| 公開(公告)號: | CN101295654A | 公開(公告)日: | 2008-10-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉重希;余振華;米玉杰;孫元成 | 申請(專利權(quán))人: | 臺灣積體電路制造股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/50 | 分類號: | H01L21/50;H01L21/60 |
| 代理公司: | 隆天國際知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 陳晨;吳世華 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體 芯片 接合 方法 | ||
1.一種半導(dǎo)體芯片的接合方法,包括:
提供一真空環(huán)境于一真空環(huán)境處理室中;
在該真空環(huán)境處理室中執(zhí)行一處理,其包括在該半導(dǎo)體芯片上至少進行氫氣熱退火、氫氣等離子體處理與氨等離子體處理其中之一;以及
將該半導(dǎo)體芯片與另一半導(dǎo)體芯片接合。
2.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體芯片的接合方法,在接合前還包括將半導(dǎo)體芯片從該真空環(huán)境處理室移進一接合室。
3.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體芯片的接合方法,其中該另一半導(dǎo)體芯片為形成在一半導(dǎo)體晶片上的半導(dǎo)體芯片。
4.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體芯片的接合方法,在該處理前還包括一化學(xué)浸泡。
5.如權(quán)利要求4所述的半導(dǎo)體芯片的接合方法,其中該化學(xué)浸泡包括檸檬酸。
6.如權(quán)利要求4所述的半導(dǎo)體芯片的接合方法,其中該化學(xué)浸泡包括鹽酸。
7.一種半導(dǎo)體芯片的接合方法,包括:
形成多個芯片于一第一半導(dǎo)體晶片上;
形成多個第二芯片于一第二半導(dǎo)體晶片上;
放置該第二半導(dǎo)體晶片于一真空環(huán)境處理室中;
提供一真空于該真空環(huán)境處理室中;
執(zhí)行一處理于該真空環(huán)境處理室中,該處理包括在該第二半導(dǎo)體晶片上至少進行氫氣熱退火、氫氣等離子體處理與氨等離子體處理其中之一;
將該第二半導(dǎo)體晶片的芯片對齊于該第一半導(dǎo)體晶片的芯片;以及
將該第一半導(dǎo)體晶片和該第二半導(dǎo)體晶片進行加熱,且將該第一半導(dǎo)體晶片上的芯片與該第二芯片接合。
8.如權(quán)利要求7所述的半導(dǎo)體芯片的接合方法,在接合前還包括切割該第二晶片上的該第二芯片。
9.如權(quán)利要求8所述的半導(dǎo)體芯片的接合方法,還包括選擇良好的該第二芯片以進行接合。
10.如權(quán)利要求8所述的半導(dǎo)體芯片的接合方法,還包括將該第二芯片固定于一載體。
11.如權(quán)利要求7所述的半導(dǎo)體芯片的接合方法,還包括蝕刻該第二半導(dǎo)體晶片的接合面以提升欲接合的導(dǎo)體的輪廓。
12.如權(quán)利要求7所述的半導(dǎo)體芯片的接合方法,在該真空環(huán)境處理前還包括執(zhí)行一化學(xué)浸泡。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于臺灣積體電路制造股份有限公司,未經(jīng)臺灣積體電路制造股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200810092994.9/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





