[發明專利]一種制備聚合物光波導的方法

無效

• 申請號: 200810092900.8
• 申請日: 2006-08-07
• 公開（公告）號: CN101609180A
• 公開（公告）日: 2009-12-23
• 發明（設計）人: 曾曉雁;王澤敏;李祥友;李金洪;董林紅;朱大慶
• 申請（專利權）人: 華中科技大學
• 主分類號: G02B6/13
• 分類號: G02B6/13;G02B6/138
• 代理公司: 華中科技大學專利中心
• 代理人: 曹葆青

1.一種制備聚合物光波導的方法，其步驟包括：

(1)在Si襯底上旋涂厚度為5～8μm的聚合物材料作為下包層，或者在Si襯底上生長一層厚度為5～8μm的SiO₂作為下包層，聚合物材料的折射率為1.4～1.6；

(2)采用專用直寫裝置根據所設計的芯層圖案按照軌跡將另一種聚合物材料直寫在下包層上；所述專用直寫裝置的結構為：氣源通過氣管與壓力控制裝置相連，壓力控制裝置通過施壓氣管與微細筆相連，壓力控制裝置用于控制施壓氣管中氣流的通斷和調節氣壓大小，并向微細筆的儲料腔中的漿料提供所需的壓力；壓力控制裝置接通時，向微細筆的筆筒內施壓，使漿料從筆尖流出；斷開時泄掉微細筆筆筒內的壓力，由于筆尖的毛細作用而使漿料及時停止流出，當微細筆在基板上移動時，筆尖便在基板上寫下所需圖案和線寬的光波導；

(3)在真空條件下，將步驟(2)中的所述另一種聚合物材料加熱使其發生交聯反應，固化形成芯層；步驟(2)中的所述另一種聚合物材料的粘度范圍為2Pa·s～200Pa·s，其折射率大于下包層材料的折射率；

(4)采用空氣作為上包層，或以折射率低于芯層的材料在芯層上旋涂形成上包層。