[發(fā)明專利]光學掃描裝置和使用其的成像設備

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200810092838.2
• 申請日: 2008-05-04
• 公開（公告）號: CN101299094A
• 公開（公告）日: 2008-11-05
• 發(fā)明（設計）人: 富岡雄一
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G02B26/10
• 分類號: G02B26/10;G03G15/01;G03G15/00
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 柴毅敏

1.一種光學掃描裝置，包括：

光源裝置；

具有偏轉表面的偏轉裝置；

輸入光學系統(tǒng)，其構造成將光束從所述光源裝置引導到所述偏轉裝置的偏轉表面；和

成像光學系統(tǒng)，其構造成將由所述偏轉裝置的偏轉表面掃描偏轉的光束成像到被掃描表面上；

其中，在副掃描截面中，待入射到所述偏轉裝置的偏轉表面上的光束相對于所述成像光學系統(tǒng)的光軸從傾斜方向入射到所述偏轉表面上，

其中構造成阻擋重像光的遮光構件布置在所述偏轉表面和所述被掃描表面之間的光路上，并且

其中，當所述成像光學系統(tǒng)的光軸與所述遮光構件之間的交點表示為Y＝0，所述遮光構件上沿主掃描方向的任意位置表示為Y[mm]，所述遮光構件沿副掃描方向的端部與一個平面之間的間距表示為h(Y)[mm]，所述平面垂直于所述偏轉裝置的旋轉軸且包含在主掃描方向上的任意位置Y處入射到所述偏轉裝置的偏轉表面上的光束的軸向偏轉點，在主掃描方向上的位置Y＝0處的間距表示為h(0)[mm]，間距h(Y)相對于間距h(0)的差被取為所述遮光構件的彎曲量Δh(Y)，在副掃描截面內入射到所述偏轉裝置的偏轉表面上的光束與所述成像光學系統(tǒng)的光軸之間限定的入射角表示為α[rad]，并且在所述平面中從所述軸向偏轉點到所述遮光構件的距離表示為L[mm]時，在整個有效掃描區(qū)域中所述遮光構件的彎曲量Δh(Y)滿足以下條件表達式，

0.5≤Δh(Y)÷[tanα×L×{1COS{ATAN(|Y|L)}-1}]≤1.5........(1)]]>

Δh(Y)＝|h(Y)-h(0)|................(2)

2.如權利要求1所述的光學掃描裝置，其中，在主掃描方向上，所述遮光構件具有平面形狀。

3.一種光學掃描裝置，包括：

光源裝置；

具有偏轉表面的偏轉裝置；

輸入光學系統(tǒng)，其構造成將光束從所述光源裝置引導到所述偏轉裝置的偏轉表面；和

成像光學系統(tǒng)，其構造成將由所述偏轉裝置的偏轉表面掃描偏轉的光束成像到被掃描表面上；

其中，在副掃描截面中，待入射到所述偏轉裝置的偏轉表面上的光束相對于所述成像光學系統(tǒng)的光軸從傾斜方向入射到所述偏轉表面上，

其中構造成阻擋重像光的遮光構件布置在所述偏轉表面和所述被掃描表面之間的光路上，

其中所述遮光構件的形狀在主掃描截面中彎曲，以隨著從所述成像光學系統(tǒng)的光軸離開而變得更靠近所述偏轉裝置，并且

其中，在主掃描截面中，所述遮光構件的形狀繞圓心成弧形，所述圓心取作在主掃描方向上任意位置Y處入射到所述偏轉裝置的偏轉表面上的光束的軸向偏轉點。

4.如權利要求3所述的光學掃描裝置，其中所述遮光構件在副掃描方向上的端部具有直線形狀。

5.如權利要求1所述的光學掃描裝置，其中所述遮光構件在副掃描方向上的端部具有弧形形狀。