[發(fā)明專利]光學元件、靠模標準原器、樹脂靠模、樹脂模制品及模具無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810092611.8 | 申請日： | 2008-04-16 |
| 公開（公告）號： | CN101290359A | 公開（公告）日： | 2008-10-22 |
| 發(fā)明（設計）人： | 染矢和昭;前納良昭 | 申請（專利權）人： | 三洋電機株式會社;三洋光學設計株式會社 |
| 主分類號： | G02B5/00 | 分類號： | G02B5/00;B29C33/40;B29D11/00;B29K105/32 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人： | 李香蘭 |
| 地址： | 日本國*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光學 元件 標準 樹脂 制品 模具 | ||
1、一種光學元件，
在對象光所透過的面內具備以比所述對象光的波段小的間距形成的微細起伏構造，
在所述微細起伏構造的形成區(qū)域的一部分上，具有所述微細起伏構造的形成狀態(tài)與其他區(qū)域相比不同的識別圖案區(qū)域。
2、根據權利要求1所述的光學元件，其特征在于，
在所述識別圖案區(qū)域不存在所述微細起伏構造。
3、根據權利要求1所述的光學元件，其特征在于，
所述識別圖案區(qū)域中的所述微細起伏構造的高度與其他區(qū)域相比不同。
4、根據權利要求1所述的光學元件，其特征在于，
在所述識別圖案區(qū)域中混合存在著：所述微細起伏構造不存在的區(qū)域和所述微細起伏構造的高度與其他區(qū)域相比不同的區(qū)域。
5、根據權利要求1所述的光學元件，其特征在于，
所述間距方向上的所述識別圖案區(qū)域的寬度為所述對象光的波段以下。
6、根據權利要求1所述的光學元件，其特征在于，
所述間距方向上的所述識別圖案區(qū)域的寬度為100μm以下。
7、一種靠模標準原器，用于生成光學元件，
具備用于復制形成微細起伏構造的復制圖案，
對于所述微細起伏構造，
在所述光學元件中對象光所透過的面內具備以比所述對象光的波段小的間距形成的微細起伏構造，
在所述微細起伏構造的形成區(qū)域的一部分上，具有所述微細起伏構造的形成狀態(tài)與其他區(qū)域相比不同的識別圖案區(qū)域。
8、根據權利要求7所述的靠模標準原器，其特征在于，
在所述識別圖案區(qū)域不存在所述微細起伏構造。
9、根據權利要求7所述的靠模標準原器，其特征在于，
所述識別圖案區(qū)域中的所述微細起伏構造的高度與其他區(qū)域相比不同。
10、根據權利要求7所述的靠模標準原器，其特征在于，
在所述識別圖案區(qū)域中混合存在著：所述微細起伏構造不存在的區(qū)域和所述微細起伏構造的高度與其他區(qū)域相比不同的區(qū)域。
11、根據權利要求7所述的靠模標準原器，其特征在于，
所述間距方向上的所述識別圖案區(qū)域的寬度為所述對象光的波段以下。
12、根據權利要求7所述的靠模標準原器，其特征在于，
所述間距方向上的所述識別圖案區(qū)域的寬度為100μm以下。
13、一種樹脂靠模，用于生成光學元件，
具備用于復制形成微細起伏構造的復制圖案，
對于所述微細起伏構造，
在所述光學元件中對象光所透過的面內具備以比所述對象光的波段小的間距形成的微細起伏構造，
在所述微細起伏構造的形成區(qū)域的一部分上，具有所述微細起伏構造的形成狀態(tài)與其他區(qū)域相比不同的識別圖案區(qū)域。
14、根據權利要求13所述的樹脂靠模，其特征在于，
在所述識別圖案區(qū)域不存在所述微細起伏構造。
15、根據權利要求13所述的樹脂靠模，其特征在于，
所述識別圖案區(qū)域中的所述微細起伏構造的高度與其他區(qū)域相比不同。
16、根據權利要求13所述的樹脂靠模，其特征在于，
在所述識別圖案區(qū)域中混合存在著：所述微細起伏構造不存在的區(qū)域和所述微細起伏構造的高度與其他區(qū)域相比不同的區(qū)域。
17、根據權利要求13所述的樹脂靠模，其特征在于，
所述間距方向上的所述識別圖案區(qū)域的寬度為所述對象光的波段以下。
18、根據權利要求13所述的樹脂靠模，其特征在于，
所述間距方向上的所述識別圖案區(qū)域的寬度為100μm以下。
19、一種樹脂模制品，用于生成光學元件，
具備用于復制形成微細起伏構造的復制圖案，
對于所述微細起伏構造，
在所述光學元件中對象光所透過的面內具備以比所述對象光的波段小的間距形成的微細起伏構造，
在所述微細起伏構造的形成區(qū)域的一部分上，具有所述微細起伏構造的形成狀態(tài)與其他區(qū)域相比不同的識別圖案區(qū)域。
20、一種模具，用于生成光學元件，
具備用于復制形成微細起伏構造的復制圖案，
對于所述微細起伏構造，
在所述光學元件中對象光所透過的面內具有以比所述對象光的波段小的間距形成的微細起伏構造，
在所述微細起伏構造的形成區(qū)域的一部分上，具有所述微細起伏構造的形成狀態(tài)與其他區(qū)域相比不同的識別圖案區(qū)域。
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