[發明專利]涂布方法及固定治具

無效

• 申請號: 200810092419.9
• 申請日: 2008-04-09
• 公開（公告）號: CN101555582A
• 公開（公告）日: 2009-10-14
• 發明（設計）人: 張木財;陳富明
• 申請（專利權）人: 華碩電腦股份有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/34;C23C14/14
• 代理公司: 隆天國際知識產權代理有限公司
• 代理人: 潘培坤;鄭特強

1、一種固定治具，用于承載一物件，上述物件包含尖角以及涂布表面，其特征是，上述固定治具包含：

上模，包含第一側壁、第二側壁以及形成于上述第一側壁與上述第二側壁之間的凹陷部；以及

下模，與上述上模銜接以承載上述物件，其中上述第一側壁與上述第二側壁接觸上述物件的上述尖角的兩個側面，使得上述尖角懸空置于上述凹陷部內。

2、根據權利要求1所述的固定治具，其特征是，上述上模包含鏤空結構，當上述第一側壁及上述第二側壁接觸上述物件時，上述涂布表面透過上述鏤空結構暴露出來。

3、一種固定治具，用于承載一物件，上述物件包含尖角以及涂布表面，其特征是，上述固定治具包含：

上模，包含第一側壁；以及

下模，包含第二側壁，并與上述上模銜接以承載上述物件，凹陷部形成于上述第一側壁與上述第二側壁之間，其中上述第一側壁與上述第二側壁接觸上述物件的上述尖角的兩個側面，使得上述尖角懸空置于上述凹陷部內。

4、根據權利要求3所述的固定治具，其特征是，上述上模包含第一平面，并經由上述第一平面與上述下模銜接，上述第一側壁包含第二平面，上述第二平面接觸上述物件，上述第一平面與上述第二平面間有斷差。

5、根據權利要求3所述的固定治具，其特征是，上述上模包含鏤空結構，當上述第一側壁及上述第二側壁接觸上述物件時，上述涂布表面透過上述鏤空結構暴露出來。

6、一種涂布方法，其特征是，包含下列步驟：

(a)提供固定治具，上述固定治具包含：

上模，包含第一側壁、第二側壁以及形成于上述第一側壁與上述第二側壁之間的凹陷部；以及

下模，用以與上述上模銜接；

(b)提供物件，包含尖角以及涂布表面；

(c)將上述物件置于上述固定治具中，使得上述第一側壁與上述第二側壁接觸上述物件的上述尖角的兩個側面，且上述尖角懸空置于上述凹陷部內；

(d)在上述涂布表面上涂布一層物質；以及

(e)自上述固定治具取出上述物件。

7、根據權利要求6所述的涂布方法，其特征是，步驟(c)包含：

(c-1)將上述物件置于上述下模上；以及

(c-2)再將上述上模與上述下模銜接。

8、根據權利要求7所述的涂布方法，其特征是，上述上模包含鏤空結構，步驟(c-2)包含將上述上模與上述下模銜接后，使得上述涂布表面透過上述鏤空結構暴露出來。

9、根據權利要求6所述的涂布方法，其特征是，步驟(d)是利用濺鍍技術將上述物質沉積于上述物件的上述涂布表面上。

10、一種涂布方法，其特征是，包含下列步驟：

(a)提供固定治具，上述固定治具包含：

上模，包含第一側壁；以及

下模，用以與上述上模銜接，并包含第二側壁，凹陷部，形成于上述第一側壁與上述第二側壁之間；

(b)提供物件，包含尖角以及涂布表面；

(c)將上述物件置于上述固定治具中，使得上述第一側壁與上述第二側壁接觸上述物件的上述尖角的兩個側面，且上述尖角懸空置于上述凹陷部內；

(d)在上述涂布表面上涂布一層物質；以及

(e)自上述固定治具取出上述物件。

11、根據權利要求10所述的涂布方法，其特征是，步驟(c)包含：

(c-1)將上述物件置于上述下模上，使得上述第二側壁接觸上述物件；以及

(c-2)再將上述上模與上述下模銜接，使得上述第一側壁接觸上述物件。

12、根據權利要求11所述的涂布方法，其特征是，上述上模包含鏤空結構，步驟(c-2)包含將上述上模與上述下模銜接后，使得上述涂布表面透過上述鏤空結構暴露出來。

13、根據權利要求10所述的涂布方法，其特征是，步驟(d)是利用濺鍍技術將上述物質沉積于上述物件的上述涂布表面上。