[發明專利]圖案化光致抗蝕劑層的形成方法

無效

• 申請號: 200810092229.7
• 申請日: 2008-04-17
• 公開（公告）號: CN101561627A
• 公開（公告）日: 2009-10-21
• 發明（設計）人: 黃萌祺;林正軒;張復瑜
• 申請（專利權）人: 財團法人工業技術研究院
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00;G03F7/26;G03F7/004
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所
• 代理人: 彭久云

1.一種圖案化光致抗蝕劑層的形成方法，包括：

提供基板，該基板具有上表面及下表面；

形成光致抗蝕劑層于該基板的上表面上；

提供透光層于該光致抗蝕劑層上；

提供遮光層于該透光層上；

提供曝光源，經該遮光層及該透光層后曝光該光致抗蝕劑層；以及

顯影該光致抗蝕劑層以形成圖案化光致抗蝕劑層，且該圖案化光致抗蝕劑層與該基板具有非垂直接觸角。

2.如權利要求1所述的圖案化光致抗蝕劑層的形成方法，其中該非垂直接觸角介于15度至85度之間。

3.如權利要求1所述的圖案化光致抗蝕劑層的形成方法，其中該非垂直接觸角介于95度至165度之間。

4.如權利要求1所述的圖案化光致抗蝕劑層的形成方法，其中該非垂直接觸角為圓弧。

5.如權利要求1所述的圖案化光致抗蝕劑層的形成方法，其中該光致抗蝕劑層包括正光致抗蝕劑或負光致抗蝕劑。

6.如權利要求1所述的圖案化光致抗蝕劑層的形成方法，其中該遮光層為掩模。

7.如權利要求1所述的圖案化光致抗蝕劑層的形成方法，其中該遮光層形成于該透光層上。

8.如權利要求1所述的圖案化光致抗蝕劑層的形成方法，其中該透光層包括玻璃、銦錫氧化物、聚甲基丙酰酸甲酯、聚碳酸酯、聚苯對二甲酸乙二醇酯、或上述的組合。

9.如權利要求1所述的圖案化光致抗蝕劑層的形成方法，其中該透光層的厚度為0.1-1mm，且該非垂直接觸角介于60度至85度之間或95度至115度之間。

10.如權利要求1所述的圖案化光致抗蝕劑層的形成方法，其中該透光層為1-2mm，且該非垂直接觸角介于45度至70度之間或110度至130度之間。

11.如權利要求1所述的圖案化光致抗蝕劑層的形成方法，其中該透光層為2-3mm，且該非垂直接觸角介于30度至60度之間或120度至140度之間。

12.如權利要求1所述的圖案化光致抗蝕劑層的形成方法，其中該透光層為3-4mm，且該非垂直接觸角介于20度至50度之間或130度至150度之間。

13.如權利要求1所述的圖案化光致抗蝕劑層的形成方法，其中該透光層為4-5mm，且該非垂直接觸角介于15度至40度之間或140度至165度之間。

14.一種圖案化光致抗蝕劑層的形成方法，包括：

提供透光基板，該透光基板具有上表面及下表面；

形成光致抗蝕劑層于該透光基板的上表面上；

提供透光層于該透光基板的下表面下；

提供遮光層于該透光層下；

提供曝光源，經該遮光層、該透光層、及該透光基板后曝光該光致抗蝕劑層；以及

顯影該光致抗蝕劑層以形成圖案化光致抗蝕劑層，且該圖案化光致抗蝕劑層與該透光基板具有非垂直接觸角。

15.如權利要求14所述的圖案化光致抗蝕劑層的形成方法，其中該非垂直接觸角介于15度至85度之間。

16.如權利要求14所述的圖案化光致抗蝕劑層的形成方法，其中該非垂直接觸角介于95度至165度之間。

17.如權利要求14所述的圖案化光致抗蝕劑層的形成方法，其中該非垂直接觸角為圓弧。

18.如權利要求14所述的圖案化光致抗蝕劑層的形成方法，其中該光致抗蝕劑層包括正光致抗蝕劑或負光致抗蝕劑。

19.如權利要求14所述的圖案化光致抗蝕劑層的形成方法，其中該遮光層為掩模。

20.如權利要求14所述的圖案化光致抗蝕劑層的形成方法，其中該遮光層形成于該透光層上。

21.如權利要求14所述的圖案化光致抗蝕劑層的形成方法，其中該透光層包括玻璃、銦錫氧化物、聚甲基丙酰酸甲酯、聚碳酸酯、聚苯對二甲酸乙二醇酯、或上述的組合。