[發(fā)明專利]壓模及其制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810091699.1 | 申請日： | 2008-04-14 |
| 公開（公告）號： | CN101256354A | 公開（公告）日： | 2008-09-03 |
| 發(fā)明（設計）人： | 潘昆志;曾兆弘;朱志宏;陳文銓 | 申請（專利權）人： | 友達光電股份有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/00 | 分類號： | G03F7/00;C23C18/18;C23C18/36;C23C18/40 |
| 代理公司： | 北京三友知識產權代理有限公司 | 代理人： | 趙燕力 |
| 地址： | 臺灣省*** | 國省代碼： | 中國臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 及其 制造 方法 | ||
1.一種壓模的制造方法，該方法包含：
形成一金屬基板，其中該金屬基板的厚度介于0.1mm～2mm；
于該金屬基板上形成一非晶金屬層，其中該非晶金屬層的厚度介于0.01mm～1mm；
于該非晶金屬層上形成多個微結構。
2.如權利要求1所述的壓模的制造方法，其特征在于該方法還包含：
在形成該非晶金屬層前，去除該金屬基板表面的油脂或氧化物。
3.如權利要求1所述的壓模的制造方法，其特征在于：該金屬基板的材質為不銹鋼。
4.如權利要求3所述的壓模的制造方法，其特征在于該方法還包含：
在形成該非晶金屬層前，于該金屬基板上形成一預鍍鎳層。
5.如權利要求4所述的壓模的制造方法，其特征在于形成該非晶金屬層的步驟包含：
于該預鍍鎳層上化學鍍一非晶鎳磷合金層或者一非晶銅層。
6.如權利要求5所述的壓模的制造方法，其特征在于：該非晶鎳磷合金層包含10wt％～12wt％的磷。
7.如權利要求5所述的壓模的制造方法，其特征在于化學鍍該非晶鎳磷合金層的步驟包含：
提供一鍍浴，其中該鍍浴包含濃度5～6g/l的鎳以及濃度25～35g/l的次磷酸二氫鈉，該鍍浴的酸堿度(pH)介于4～5，該鍍浴的溫度則介于84℃～88℃；
將該金屬基板浸泡于該鍍浴中。
8.如權利要求1所述的壓模的制造方法，其特征在于：該金屬基板的材質為鎳。
9.如權利要求8所述的壓模的制造方法，其特征在于形成該非晶金屬層的步驟包含：
于該金屬基板上化學鍍一非晶鎳磷合金層或者一非晶銅層。
10.如權利要求9所述的壓模的制造方法，其特征在于：該非晶鎳磷合金層包含10wt％～12wt％的磷。
11.如權利要求9所述的壓模的制造方法，其特征在于化學鍍該非晶鎳磷合金層的步驟包含：
提供一鍍浴，其中該鍍浴包含濃度5～6g/l的鎳以及濃度25～35g/l的次磷酸二氫鈉，該鍍浴的酸堿度(pH)介于4～5，該鍍浴的溫度則介于84℃～88℃；
將該金屬基板浸泡于該鍍浴中。
12.如權利要求1所述的壓模的制造方法，其特征在于該方法還包含：
在形成所述微結構后，于該非晶金屬層上形成一金屬模；
分離該金屬模與該非晶金屬層。
13.如權利要求12所述的壓模的制造方法，其特征在于該方法還包含：在該非晶金屬層上形成該金屬模前，于該非晶金屬層上形成一氧化層。
14.如權利要求1所述的壓模的制造方法，其特征在于：該非晶金屬層的厚度介于0.05mm～0.3mm。
15.如權利要求1所述的壓模的制造方法，其特征在于：該金屬基板的厚度介于0.2mm～1mm。
16.一種壓模，其特征在于該壓模包含：
一金屬基板，該金屬基板的厚度介于0.1mm～2mm；
一非晶金屬層，覆蓋該金屬基板，其中該非晶金屬層的厚度介于0.01mm～1mm，且該非晶金屬層上具有多個微結構。
17.如權利要求16所述的壓模，其特征在于：該金屬基板的材質為不銹鋼或鎳。
18.如權利要求16所述的壓模，其特征在于：該非晶金屬層的材質為一鎳磷合金或銅。
19.如權利要求18所述的壓模，其特征在于：該鎳磷合金包含10wt％～12wt％的磷。
20.如權利要求16所述的壓模，其特征在于：該非晶金屬層的厚度介于0.05mm～0.3mm。
21.如權利要求16所述的壓模，其特征在于：該金屬基板的厚度介于0.2mm～1mm。
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