[發(fā)明專利]定影裝置,圖像形成裝置以及加熱控制方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810091194.5 | 申請日: | 2008-04-09 |
| 公開(公告)號: | CN101286030A | 公開(公告)日: | 2008-10-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 長曾我部紀(jì)理子 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社理光 |
| 主分類號: | G03G15/20 | 分類號: | G03G15/20;G03G15/00 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 | 代理人: | 邵亞麗 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 定影 裝置 圖像 形成 以及 加熱 控制 方法 | ||
1.一種定影裝置,其特征在于,包括:
加熱單元,通過對其供給交流電力,使其被加熱;
加熱控制單元,在所述交流電力的至少半波期間實行相位控制,,僅以接通幅度以對所述加熱單元供給交流電力;
存儲單元,存儲用于計算所述接通幅度的參數(shù);
所述加熱控制單元基于所述參數(shù)計算所述接通幅度,并且以計算出的所述接通幅度實行所述相位控制。
2.根據(jù)權(quán)利要求1中記載的定影裝置,其特征在于:
所述參數(shù)包括工作增量與增量次數(shù),所述工作增量用于規(guī)定所述接通幅度的增加量,所述增量次數(shù)用于規(guī)定加入所述工作增量的所述半波期間的次數(shù)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2中記載的定影裝置,其特征在于:
所述參數(shù)進(jìn)一步包括重復(fù)次數(shù),所述重復(fù)次數(shù)用于規(guī)定以與計算出的所述接通幅度相同的接通幅度重復(fù)所述半波期間的次數(shù)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2中記載的定影裝置,其特征在于:
所述參數(shù)進(jìn)一步包括第一工作,所述第一工作用于規(guī)定最初的所述半波期間的接通幅度。
5.根據(jù)權(quán)利要求3中記載的定影裝置,其特征在于:
所述參數(shù)進(jìn)一步包括第一工作,所述第一工作用于規(guī)定最初的所述半波期間的接通幅度。
6.根據(jù)權(quán)利要求1中記載的定影裝置,其特征在于:
所述參數(shù)包括第一工作與重復(fù)次數(shù),所述第一工作用于規(guī)定最初的所述半波期間的接通幅度,所述重復(fù)次數(shù)用于規(guī)定以與計算出的所述接通幅度相同的接通幅度重復(fù)所述半波期間的次數(shù)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1中記載的定影裝置,其特征在于:
所述參數(shù)包含工作增量以及相位控制期間,所述工作增量用于規(guī)定所述接通幅度的增加量,所述相位控制期間用于規(guī)定所述相位控制的實行期間;
所述加熱控制單元基于所述相位控制期間以及所述半波期間,計算加入所述工作增量的半波期間的次數(shù),并且基于計算出的次數(shù)以及所述工作增量,計算所述接通幅度。
8.根據(jù)權(quán)利要求7中記載的定影裝置,其特征在于:
所述參數(shù)進(jìn)一步包括最后工作,所述最后工作用于規(guī)定所述接通幅度的閾值;
所述加熱控制單元,在計算出的所述接通幅度超過所述最后工作的情況下,以所述最后工作實行所述相位控制。
9.根據(jù)權(quán)利要求7中記載的定影裝置,其特征在于:
所述參數(shù)進(jìn)一步包括第一工作,所述第一工作用于規(guī)定最初的所述半波期間的接通幅度。
10.根據(jù)權(quán)利要求8中記載的定影裝置,其特征在于:
所述參數(shù)進(jìn)一步包括第一工作,所述第一工作用于規(guī)定最初的所述半波期間的接通幅度。
11.根據(jù)權(quán)利要求1中記載的定影裝置,其特征在于:
所述參數(shù)包括用于規(guī)定所述相位控制的實行期間的相位控制期間、用于規(guī)定所述接通幅度的閾值的最后工作、以及用于規(guī)定最初的所述半波期間的接通幅度的第一工作;
所述加熱控制單元基于所述相位控制期間、所述最后工作、所述第一工作、以及所述半波期間,計算所述接通幅度的增加量以及加入所述增加量的半波期間的次數(shù),并且基于計算出的所述增加量以及所述次數(shù),計算所述接通幅度。
12.根據(jù)權(quán)利要求1中記載的定影裝置,其特征在于:
所述加熱控制單元在最初的所述半波期間不實行所述相位控制,在第二次所述半波期間以后實行所述相位控制。
13.根據(jù)權(quán)利要求1中記載的定影裝置,其特征在于:
所述加熱控制單元在各所述半波期間的零交叉開始實行所述相位控制。
14.根據(jù)權(quán)利要求1中記載的定影裝置,其特征在于:
所述加熱控制單元從各所述半波期間的零交叉開始經(jīng)過一定期間后開始實行所述相位控制。
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G03G15-02 .用于沉積均勻電荷的,即感光用的;電暈放電裝置
G03G15-04 .曝光用的,即將原件圖像光學(xué)投影到光導(dǎo)記錄材料上而進(jìn)行圖像曝光
G03G15-05 .用于圖像充電,例如,光敏控制屏、光觸發(fā)充電裝置
G03G15-054 .用X射線,例如,電放射術(shù)
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