[發明專利]光學裝置及其校正方法無效
| 申請號: | 200810090983.7 | 申請日: | 2008-04-08 |
| 公開(公告)號: | CN101554328A | 公開(公告)日: | 2009-10-14 |
| 發明(設計)人: | 包又菘;李揚漢 | 申請(專利權)人: | 碩頡科技股份有限公司 |
| 主分類號: | A61B5/1455 | 分類號: | A61B5/1455 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人: | 周國城 |
| 地址: | 臺灣省*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學 裝置 及其 校正 方法 | ||
1.一種光學裝置,其特征在于,包括:
一光源模塊,輸出一光,該光經由一介質傳遞,該光學裝置基于該光受該介質的影響,調整該光學裝置的組件所使用的參數。
2.如權利要求1所述的光學裝置,其特征在于,該光源模塊還包括:
一測量光源,輸出一測量光,其中該測量光經由該介質傳遞至一待測物,其中,該光學裝置基于該測量光經由該介質所產生的變異,調整該光學裝置內部組件所使用的參數,以校正該光學裝置在使用該測量光測量該待測物時的受該介質影響所產生的變異。
3.如權利要求1所述的光學裝置,其特征在于,該光源模塊還包括:
一測量/校正光源,分時輸出一測量光以及一校正光,該測量光經由該介質傳遞至一待測物,其中,該光學裝置基于該校正光經由該介質所產生的變異,調整光學裝置內部組件所使用的參數,以校正該光學裝置在使用該測量光測量該待測物時受該介質影響所產生的變異。
4.如權利要求1所述的光學裝置,其特征在于,該光源模塊還包括:
至少一測量光源,至少輸出一測量光,該測量光經由該介質傳遞至一待測物;以及
至少一校正光源,輸出一校正光,其中該光學裝置基于該校正光經由該介質所產生的變異,調整光學裝置內部組件所使用的參數,以校正該光學裝置在使用該測量光測量該待測物時受該介質影響所產生的變異。
5.如權利要求4所述的光學裝置,其特征在于,還包括:
一光感測模塊,包括至少一光傳感器,該光傳感器感測該測量光以及該校正光,以分別得到一測量信號以及一校正信號。
6.如權利要求5所述的光學裝置,其特征在于,還包括:
一校正模塊,根據該校正信號校正該測量信號。
7.如權利要求6所述的光學裝置,其特征在于,該校正模塊還包括:
一濾波單元,用以對該測量信號以及該校正信號進行一濾波動作后輸出;
一信號放大單元,將該濾波單元所輸出的信號放大后輸出;
一模擬/數字轉換單元,模擬數字轉換由該信號放大單元所輸出的信號后輸出;
一光源驅動單元,用以驅動該測量光源以及該校正光源;
一查窗體元,提供一查表數據;
一數據庫,可存取一使用者信息;以及
一運算單元,根據該查表數據以及該使用者信息,對由該模擬數字轉換單元所輸出的信號進行運算,以調整該濾波單元、該信號放大單元、模擬/數字轉換單元,以及該光源驅動單元所使用的參數。
8.如權利要求5所述的光學裝置,其特征在于,該校正模塊,包括:
一緩沖模塊,用于承載該待測物,其中根據該測量信號以及該校正信號,決定該緩沖模塊的高度、該測量光源與該光傳感器的距離,以及該測量光與該校正光射出的角度。
9.如權利要求8所述的光學裝置,其特征在于,該緩沖模塊包括兩緩沖器,該些緩沖器設置于可穩固承載該待測物的兩側。
10.如權利要求8所述的光學裝置,其特征在于,該緩沖器包括膠體或彈性體。
11.如權利要求5所述的光學裝置,其特征在于,該光源模塊為兩測量光源搭配一校正光源,該光感測模塊則具有三光傳感器。
12.如權利要求1所述的光學裝置,其特征在于,該光的波長介于300nm~600nm之間。
13.如權利要求1所述的光學裝置,其特征在于,該介質包括一空氣與一皮膚組織。
14.如權利要求1所述的光學裝置,其特征在于,該介質包括一光纖。
15.一種光學裝置的校正方法,其特征在于,包括:
輸出一光,該光經由一介質傳遞;以及
基于該光受該介質的影響,調整該光學裝置的組件所使用的參數。
16.如權利要求15所述的光學裝置的校正方法,其特征在于,輸出該光,該光經由該介質傳遞的步驟還包括:
輸出一測量光以及一校正光,該測量光經由該介質傳遞至一待測物。
17.如權利要求16所述的光學裝置的校正方法,其特征在于,基于該光受該介質的影響,調整該光學裝置的組件所使用的參數的步驟還包括:
基于該校正光經由該介質所產生的變異,調整光學裝置內部組件所使用的參數,以校正該光學裝置在使用該測量光測量該待測物時受該介質影響所產生的變異。
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