[發(fā)明專利]用于再現(xiàn)信息的光盤裝置和方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810090302.7 | 申請日: | 2008-03-28 |
| 公開(公告)號: | CN101276607A | 公開(公告)日: | 2008-10-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 藤田五郎;齊藤公博 | 申請(專利權(quán))人: | 索尼株式會社 |
| 主分類號: | G11B7/0065 | 分類號: | G11B7/0065 |
| 代理公司: | 中國國際貿(mào)易促進委員會專利商標事務(wù)所 | 代理人: | 高青 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 再現(xiàn) 信息 光盤 裝置 方法 | ||
1.一種根據(jù)記錄在盤狀體積型記錄介質(zhì)上的駐波來再現(xiàn)信息的光盤裝置,包括:
第一焦點位置調(diào)節(jié)部件,用于在第一光束的光軸方向上調(diào)節(jié)所述第一光束聚焦在體積型記錄介質(zhì)內(nèi)部的記錄層內(nèi)部的焦點位置;
第二焦點位置調(diào)節(jié)部件,用于在第二光束的光軸方向上調(diào)節(jié)所述第二光束聚焦在所述記錄層內(nèi)部的焦點位置;
控制部件,用于控制第一焦點位置調(diào)節(jié)部件和第二焦點位置調(diào)節(jié)部件,使得當在體積型記錄介質(zhì)上記錄駐波時,所述第一光束聚焦在記錄層內(nèi)部,以及透過記錄層然后由預定反射表面反射的所述第二光束在與第一光束聚焦的相同位置上聚焦,以及當根據(jù)體積型記錄介質(zhì)上的駐波來再現(xiàn)信息時,第一光束聚焦在記錄層內(nèi)部的焦點位置和第二光束聚焦在記錄層內(nèi)部的焦點位置彼此不同,由此根據(jù)互不相同的駐波來生成第一和第二再現(xiàn)光束;以及
第一和第二檢測部件,用于檢測所述第一和第二再現(xiàn)光束。
2.如權(quán)利要求1所述的光盤裝置,其中,
所述第一和第二檢測部件使得其中混合有第一和第二再現(xiàn)光束的混合再現(xiàn)光束會聚,并且使用在第一或第二再現(xiàn)光束的焦點位置提供的針孔,來有選擇地檢測第一或第二再現(xiàn)光束。
3.如權(quán)利要求1所述的光盤裝置,還包括:
物鏡控制部件,用于把預定的第三光束經(jīng)由物鏡照射到體積型記錄介質(zhì),同時使第三光束的光軸與第一光束的光軸對準,并且根據(jù)來自體積型記錄介質(zhì)中所提供的定位層的返回光束來控制物鏡的位置。
4.如權(quán)利要求3所述的光盤裝置,其中,
所述定位層具有指示駐波的記錄位置的光道,以及
所述物鏡控制部件在根據(jù)返回光束識別出所述光道之后,控制物鏡的位置。
5.如權(quán)利要求3所述的光盤裝置,其中,
所述第三光束具有不同于第一和第二光束的波長,以及
具有波長選擇能力的所述定位層使得第一和第二光束被透射并且使得第三光束被反射,以及
所述物鏡控制部件使得第三光束照射到體積型記錄介質(zhì)并由定位層反射。
6.如權(quán)利要求3所述的光盤裝置,其中,
所述第三光束具有與第一和第二光束相同的波長,
其透射系數(shù)被調(diào)節(jié)的所述定位層使得第一和第二光束以預定比例被透射,并且使得第三光束以預定比例被反射,以及
所述物鏡控制部件使得第三光束照射到體積型記錄介質(zhì)并以預定比例被所述定位層反射。
7.如權(quán)利要求1所述的光盤裝置,還包括:
再現(xiàn)信號生成部件,用于通過集成第一和第二檢測部件的檢測結(jié)果來生成再現(xiàn)信號。
8.如權(quán)利要求7所述的光盤裝置,其中,
所述控制部件每隔預定單位劃分信息,并且使用第一和第二光束把每個分段作為駐波記錄在所述記錄層上,以及
所述再現(xiàn)信號生成部件通過集成基于分別從第一和第二光束生成的第一和第二再現(xiàn)光束的檢測結(jié)果,根據(jù)劃分信息之后記錄的駐波來生成被恢復為原始信息的再現(xiàn)信號。
9.一種信息再現(xiàn)方法,通過經(jīng)由預定物鏡向記錄在盤狀體積型記錄介質(zhì)上的駐波照射第一或第二光束來生成再現(xiàn)光束,所述方法包括如下步驟:
控制第一焦點位置調(diào)節(jié)部件,以便在第一光束的光軸方向上調(diào)節(jié)所述第一光束聚焦在預定記錄層內(nèi)部的焦點位置,并且控制第二焦點位置調(diào)節(jié)部件,以便在第二光束的光軸方向上調(diào)節(jié)所述第二光束聚焦在所述記錄層內(nèi)部的焦點位置,使得當在體積型記錄介質(zhì)上記錄駐波時,第一光束聚焦在記錄層內(nèi)部的焦點位置與第二光束在透過記錄層然后被預定反射表面反射之后聚焦的焦點位置對準;
控制第一焦點位置調(diào)節(jié)部件和第二焦點位置調(diào)節(jié)部件,使得當生成再現(xiàn)光束時,第一光束聚焦在記錄層內(nèi)部的焦點位置與第二光束聚焦在記錄層內(nèi)部的焦點位置不同,由此分別根據(jù)互不相同的駐波來生成第一和第二再現(xiàn)光束;以及
檢測所述第一和第二再現(xiàn)光束。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于索尼株式會社,未經(jīng)索尼株式會社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
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