[發明專利]輥機構及成像裝置有效
| 申請號: | 200810090221.7 | 申請日: | 2008-04-01 |
| 公開(公告)號: | CN101369109A | 公開(公告)日: | 2009-02-18 |
| 發明(設計)人: | 池田賢治;佐藤博昭;木林進;西田徹;前后武志 | 申請(專利權)人: | 富士施樂株式會社 |
| 主分類號: | G03G15/00 | 分類號: | G03G15/00;G03G15/01 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司 | 代理人: | 黨曉林 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 機構 成像 裝置 | ||
1.一種輥機構,該輥機構包括:
一對輥,它們彼此相對,將片材傳送路徑夾在中間,并設置成能增加和減小它們的軸間距離;以及
施力單元,該施力單元沿著使該對輥的軸間距離減小的方向向該對輥中的至少一個輥施加施力,并通過該對輥擠壓所述片材,所述施力隨著該對輥的軸間距離的增加而增加,隨著所述輥對的軸間距離在擠壓片材時的變化范圍內的增加,所述施力單元非線性地增加所述施力,且使所述施力的增加率下降。
2.根據權利要求1所述的輥機構,其中,所述施力單元包括:
第一施力件,該第一施力件沿著使所述一對輥的軸間距離減小的方向向該對輥中的至少一個輥施加第一施力,所述第一施力隨著該對輥的軸間距離在擠壓片材時的變化范圍內的增加而線性增加;以及
第二施力件,該第二施力件沿著使所述一對輥的軸間距離增加的方向向該對輥中的至少一個輥施加第二施力,該第二施力隨著所述一對輥的軸間距離的增加而減小,隨著該對輥的軸間距離在擠壓片材時的變化范圍內的增加,所述第二施力件非線性地降低所述第二施力,且使所述第二施力的減小率下降。
3.根據權利要求2所述的輥機構,其中
所述第一施力件包括彈性件,而且
所述第二施力件包括
第一磁體,其設置在所述一對輥中的一個輥處,以及
第二磁體,其設置在所述一對輥中的另一個輥處,以與所述第一磁體相對,在所述第一磁體和所述第二磁體之間產生磁性斥力。
4.根據權利要求3所述的輥機構,其中,所述第一磁體和所述第二磁體的相互相對的部分構造成具有相同的極性。
5.根據權利要求3或4所述的輥機構,其中,所述第一磁體的與所述第二磁體相對的部分以及所述第二磁體的與所述第一磁體相對的部分都以不同極性交錯布置的方式構造。
6.根據權利要求3所述的輥機構,其中,所述彈性件包括螺旋彈簧。
7.根據權利要求1所述的輥機構,其中,所述一對輥擠壓所述片材,并在所述輥和所述片材之間產生摩擦力,并通過所述摩擦力傳送所述片材。
8.根據權利要求1所述的輥機構,其中,所述一對輥將載有圖像的圖像承載體壓靠到所述片材上,以將所述圖像承載體上載有的圖像轉印到所述片材上。
9.根據權利要求1所述的輥機構,其中,所述一對輥擠壓載有圖像的片材以將圖像定影到所述片材上。
10.一種輥機構,該輥機構包括:
一對輥,它們彼此相對,將片材傳送路徑夾在中間,并設置成能增加和減小它們的軸間距離;
彈性件,該彈性件沿著減小所述軸間距離的方向向該對輥施力,并通過所述一對輥擠壓所述片材;
第一磁體,該第一磁體設置在該對輥中的一個輥處,以及
第二磁體,該第二磁體設置在該對輥中的另一個輥處,以與所述第一磁體相對,在所述第一磁體和所述第二磁體之間產生磁性斥力。
11.根據權利要求10所述的輥機構,其中,所述第一磁體和所述第二磁體的相互相對的部分構造成具有相同的極性。
12.根據權利要求10或11所述的輥機構,其中,所述第一磁體的與所述第二磁體相對的部分以及所述第二磁體的與所述第一磁體相對的部分都以不同極性交錯布置的方式構造。
13.根據權利要求10所述的輥機構,其中,所述彈性件包括螺旋彈簧。
14.根據權利要求10所述的輥機構,其中,所述一對輥擠壓所述片材,并在所述輥和所述片材之間產生摩擦力,并通過所述摩擦力傳送所述片材。
15.根據權利要求10所述的輥機構,其中,所述一對輥將載有圖像的圖像承載體壓靠到所述片材上,以將所述圖像承載體上載有的圖像轉印到所述片材上。
16.根據權利要求10所述的輥機構,其中,所述一對輥擠壓載有圖像的片材以將圖像定影到所述片材上。
17.一種成像設備,該成像設備包括:
成像單元,該成像單元在片材上形成圖像;以及
輥機構,
所述輥機構包括:
一對輥,它們彼此相對,將片材傳送路徑夾在中間,并設置成能增加和減小它們的軸間距離;以及
施力單元,該施力單元沿著使該對輥的軸間距離減小的方向向該對輥中的至少一個輥施加施力,并通過該對輥擠壓所述片材,所述施力隨著該對輥的軸間距離的增加而增加,隨著所述輥對的軸間距離在擠壓片材時的變化范圍內的增加,所述施力單元非線性地增大所述施力,且使所述施力的增大率下降。
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