[發(fā)明專利]無機(jī)組合物物品

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200810089515.8
• 申請日: 2008-04-03
• 公開（公告）號: CN101279818A
• 公開（公告）日: 2008-10-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 后藤直雪;八木后剛
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社小原
• 主分類號: C03C10/04
• 分類號: C03C10/04;C03C10/10;C03C10/14;C03C21/00;G11B5/84;G02B5/20;H05K1/03
• 代理公司: 北京匯智英財(cái)專利代理事務(wù)所
• 代理人: 苗凌

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種無機(jī)組合物物品，本發(fā)明特別是涉及一種用于各種信息磁記錄裝置的磁記錄媒體用基板，尤其是用于垂直磁記錄媒體中的兼具表面超平滑性、清潔性、高強(qiáng)度的圓盤狀信息記錄媒體用基板的無機(jī)組合物物品。

背景技術(shù)

本發(fā)明中所謂“信息記錄媒體”，是指可用于作為個(gè)人電腦的硬盤而使用的固定型硬盤、移動型硬盤、或卡型硬盤，數(shù)碼攝像機(jī)、數(shù)碼像機(jī)、或音頻用硬盤，汽車導(dǎo)航系統(tǒng)用硬盤，移動電話用硬盤或者各種電子設(shè)備用硬盤的信息磁記錄媒體。

近年來，為了適應(yīng)個(gè)人電腦的多媒體化，并且數(shù)碼攝像機(jī)及數(shù)碼像機(jī)需要處理影像及聲音等大數(shù)據(jù)，因此必須有大容量的信息磁記錄裝置。其結(jié)果是，為了增大面記錄密度，傾向于增加信息磁記錄媒體的位密度(bitdensity)及磁道密度(track?density)，從而縮小存儲單元(bit?cell)的尺寸。因此，磁頭必須更加接近于磁盤表面而運(yùn)作。

另外，如果記錄密度超過100Gb/in²，那么如此小的磁化單元變得對熱不穩(wěn)定，因此對于超過100Gb/in²的高記錄密度化的要求來說，面內(nèi)記錄方式已達(dá)到物理極限。

對此，一直是用垂直磁記錄方式。此垂直磁記錄方式將易磁化軸作為垂直方向，因此可極大地減小存儲點(diǎn)尺寸(bit?size)，而且通過具有所期望的媒體膜厚(面內(nèi)記錄方式的5～10倍)也可以獲得減小退磁場(demagnetizingfield)或者獲得形狀磁各向異性(shape?magnetic?anisotropy)的效果，因此可解決在以前的面內(nèi)方向的磁記錄方式的高密度化中所產(chǎn)生的記錄能量減少或?qū)岵环€(wěn)定的問題，從而可以比水平磁記錄(Longitudinal?MagneticRecording)方式更加格外地實(shí)現(xiàn)記錄密度增加。因此，在垂直磁記錄方式中，實(shí)用水平達(dá)到100Gb/in²以上的記錄密度已可以達(dá)到大量生產(chǎn)的水平，而對于超過300Gb/in²的記錄密度的研究也正在進(jìn)行中。

近年來的信息磁記錄裝置中，是以CSS(接觸起停，Contact?Start?Stop)方式運(yùn)行的，此CSS方式是重復(fù)進(jìn)行磁頭在裝置啟動前與信息磁記錄媒體磁盤基板接觸，而在裝置啟動時(shí)浮在信息磁記錄媒體磁盤基板上的動作。此時(shí)，如果兩者的接觸面超出必要而成為鏡面，則會因?yàn)橛晌揭鸬哪Σ料禂?shù)增大，而發(fā)生旋轉(zhuǎn)啟動不順利、信息磁記錄媒體表面受損等問題。這樣一來，對信息磁記錄媒體磁盤基板有如下要求：隨著記錄容量增大而使磁頭低上浮化及防止磁頭吸附在信息磁記錄媒體磁盤基板上的相反要求。對于這些相反要求，業(yè)界正在開發(fā)在信息磁記錄媒體磁盤基板的特定區(qū)域制造磁頭的啟動及停止部的停放區(qū)(landing?zone)的技術(shù)。

另一方面，對應(yīng)于所述停放區(qū)技術(shù)，業(yè)界也開發(fā)了完全接觸磁頭、在啟動停止時(shí)使磁頭從信息磁記錄媒體磁盤基板上離開的斜坡加載(ramp?load)技術(shù)(磁頭的接觸式記錄)，因而防止磁頭吸附于磁盤基板上的凹凸變得不再必要。因此，通過將基板的表面制成超平滑面，可在顯著接近于信息記錄媒體表面的狀態(tài)下運(yùn)作，從而可縮小存儲單元的尺寸并可提高記錄密度。

而且，如果隨著記錄密度的提高而磁頭上浮高度為15nm以下，那么垂直磁記錄媒體也有低上浮化的傾向，進(jìn)一步有接近式記錄(near?contactrecording)或接觸式記錄化的傾向。另一方面，因?yàn)閷⒚襟w表面有效地用作數(shù)據(jù)區(qū)域，所以從以前設(shè)置停放區(qū)域的方式，變?yōu)闊o停放區(qū)域的斜坡加載方式。因此，為了降低此上浮高度或者可進(jìn)行接觸式記錄，磁盤表面的數(shù)據(jù)區(qū)域或基板表面的整個(gè)面必須為超平滑面。

而且，因?yàn)榘殡S記錄密度的增加，磁頭及媒體的定位要求具有高精度，所以對磁盤基板或磁信息記錄裝置的各構(gòu)成部件要求具有高尺寸精度。而且，也不可忽視對于這些構(gòu)成部件的平均線性熱膨脹系數(shù)差的影響，所以必須極力減小這些平均線性熱膨脹系數(shù)差。進(jìn)一步嚴(yán)格地講，大多是優(yōu)選磁盤基板的平均線性熱膨脹系數(shù)也極小程度地大于這些構(gòu)成部件的平均線性熱膨脹系數(shù)。特別是小型磁信息記錄媒體中所使用的構(gòu)成部件的平均線性熱膨脹系數(shù)為+90～+100(×10-7·℃-1)左右的構(gòu)成部件被充分地使用，而存在如下缺點(diǎn)：磁盤基板也必須具有此程度的熱膨脹系數(shù)，即使熱膨脹系數(shù)稍有偏離，也會產(chǎn)生寫入誤差。