[發明專利]光柵薄片的三維定向

無效

• 申請號: 200810089497.3
• 申請日: 2008-04-03
• 公開（公告）號: CN101280132A
• 公開（公告）日: 2008-10-08
• 發明（設計）人: 阿爾博特·阿革帝亞
• 申請（專利權）人: JDS尤尼弗思公司
• 主分類號: C09D7/12
• 分類號: C09D7/12;C09D5/00;G02B5/18
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司
• 代理人: 鄭小粵

1、一種表面上的涂層，包括：載體和多個分散在其中的薄片，其中，所述多個薄片中的每一個被準垂直于所述表面定向并具有沿著準平行于所述表面的第一方向延伸的第一組凹槽；以及其中，所述的多個薄片形成了涂層中所有光柵薄片的至少50％。

2、根據權利要求1所述的涂層，其中，所述多個薄片的至少70％是彼此準平行的。

3、根據權利要求1所述的涂層，其中，所述多個薄片的每一個在可見光譜中具有至少50％的透射率。

4、根據權利要求3所述的涂層，其中，所述多個薄片的每一個包括具有第一折射率的材料以及其中所述的載體具有第二折射率，以及其中所述的第一折射率與所述的第二折射率的比率大于1。

5、根據權利要求1所述的涂層，其中，所述多個薄片的每一個在相鄰凹槽之間具有250納米至2000納米的間隔。

6、根據權利要求1所述的涂層，其中，所述多個薄片的每一個具有沿著第二方向延伸的第二組凹槽，所述第二方向與所述第一組凹槽的所述第一方向形成至少45度的角度。

7、根據權利要求1所述的涂層，其中，所述多個薄片的每一個具有預定的形狀。

8、根據權利要求1所述的涂層，其中，所述多個薄片形成了涂層中所有光柵薄片的至少70％。

9、根據權利要求1所述的涂層，其中，所述多個薄片包括至少1000個薄片并且所述薄片在所述載體中的密度至少是每平方毫米100000個薄片。

10、一種物品，包括兩個平面和在它們之間的如權利要求1所限定的涂層，其中所述薄片在磁場或電場中是可排列的。

11、一種制造如權利要求1所限定的涂層的方法，包括以下步驟：

(a)提供所述載體到所述表面上，所述載體具有分散在其中的所述多個薄片；

(b)施加具有第一場線的第一外部的場，用以定向所述多個薄片，所述第一場線被準垂直于所述表面定向；以及

(c)施加具有第二場線的第二外部的場，用以進一步定向所述多個薄片，所述第二場線與所述表面形成了不超過30度的第二角度。

12、一種在表面上制造涂層的方法，包括以下步驟：

(a)提供載體到所述表面上，所述載體具有分散在其中的多個光柵薄片；

(b)施加具有第一場線的第一外部的場，用以定向所述多個光柵薄片，所述第一場線準垂直于所述表面；以及

(c)施加具有第二場線的第二外部的場，用以進一步定向所述多個光柵薄片，所述第二場線與所述表面形成了不超過30度的第二角度。

13、根據權利要求12所述的方法，其中，還包括步驟(d)：固化所述的載體。

14、根據權利要求13所述的方法，其中，在步驟(c)之后和步驟(d)之前，重復步驟(b)。

15、根據權利要求12所述的方法，其中，所述的第一和第二外部的場是磁場，并且所述多個光柵薄片的每一個包括磁響應材料。

16、根據權利要求12所述的方法，其中，所述的第一和第二外部的場是靜電場。