[發(fā)明專利]一種透明導(dǎo)電層結(jié)構(gòu)及其制備方法

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200810089153.2
• 申請(qǐng)日: 2008-04-01
• 公開（公告）號(hào): CN101552049A
• 公開（公告）日: 2009-10-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 謝逸弘;簡(jiǎn)永杰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東捷科技股份有限公司
• 主分類號(hào): H01B5/14
• 分類號(hào): H01B5/14;H01B13/00;C23C18/52;C23C8/12
• 代理公司: 北京律誠(chéng)同業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 梁 揮;祁建國(guó)

1.一種透明導(dǎo)電層的結(jié)構(gòu)，其特征在于，包含：

一基板，該基板的一面系為照光面；以及

一透明導(dǎo)電薄膜，使用一無電鍍析鍍工藝所形成于該基板上，用以取出電能與提升光電轉(zhuǎn)換的效率。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電層的結(jié)構(gòu)，其特征在于，該無電鍍析鍍工藝包含下列步驟：

進(jìn)行一浸漬工藝，以堿性溶液浸漬，用以浸泡該基板產(chǎn)生一負(fù)電位表面；

進(jìn)行金屬離子吸附，以庫(kù)倫力的原理使該帶負(fù)電位表面吸附帶正電的金屬離子；

進(jìn)行一還原工藝，用以還原金屬離子，并形成多個(gè)晶種層于該基板上；

進(jìn)行一鍍?cè)」に嚕越饘匐x子溶液構(gòu)成，用以浸泡該多個(gè)晶種層，使其形成一薄膜；以及

進(jìn)行一退火工藝，以氧退火方式使該薄膜氧化成透明導(dǎo)電薄膜。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電層的結(jié)構(gòu)，其特征在于，該基板選自于玻璃、石英、透明塑料、透明可撓性基板所組成族群中的任何一種材料。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電層的結(jié)構(gòu)，其特征在于，該透明導(dǎo)電膜選自銦錫氧化層、二氧化錫、氧化鋅所組成族群中的任何一種材料。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電層的結(jié)構(gòu)，其特征在于，該透明導(dǎo)電膜的結(jié)晶尺寸在2納米到15納米之間。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電層的結(jié)構(gòu)，其特征在于，該透明導(dǎo)電膜的厚度在20納米到300納米之間。

7.一種透明導(dǎo)電層的制備方法，其特征在于，包含下列步驟：

提供一基板，該基板為承載主體用；

進(jìn)行一浸漬工藝，以堿性溶液浸漬，用以浸泡該基板產(chǎn)生一負(fù)電位表面；

進(jìn)行金屬離子吸附，以庫(kù)倫力的原理使該帶負(fù)電位表面吸附帶正電的金屬離子；

進(jìn)行一還原工藝，用以還原金屬離子，并形成多個(gè)晶種層于該基板上；

進(jìn)行一鍍?cè)」に嚕越饘匐x子溶液構(gòu)成，用以浸泡該多個(gè)晶種層，使其形成一薄膜；以及

進(jìn)行一退火工藝，以氧退火方式使該薄膜氧化成透明導(dǎo)電薄膜。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的透明導(dǎo)電層的制備方法，其特征在于，該基板選自于玻璃、石英、透明塑料、透明可撓性基板所組成族群中的任何一種材料。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的透明導(dǎo)電層的制備方法，其特征在于，該浸漬工藝的堿性溶液以氫氧化銨混合雙氧水與水所組成。

10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的透明導(dǎo)電層的制備方法，其特征在于，該鍍?cè)」に嚨慕饘匐x子溶液以錫離子或鋅離子所組成族群中的任何一種離子溶液。