[發(fā)明專利]一種噴嘴的清潔方法

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200810088919.5
• 申請(qǐng)日: 2008-04-07
• 公開（公告）號(hào): CN101554624A
• 公開（公告）日: 2009-10-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 胡珂;陳耀;胡建豐;陳曉琪
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 和艦科技(蘇州)有限公司
• 主分類號(hào): B05B15/02
• 分類號(hào): B05B15/02
• 代理公司: 北京連和連知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 鄭 光

1.一種用于向晶片噴灑顯影液的噴嘴的自動(dòng)清潔方法，包括：

在晶片表面噴去離子水，并將噴嘴移動(dòng)到晶片表面，使噴嘴與所述 去離子水接觸以清潔噴嘴。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于向晶片噴灑顯影液的噴嘴的自動(dòng)清潔 方法，其特征在于，所述方法具體為：

步驟1、在晶片表面噴去離子水，并使去離子水均勻覆蓋在晶片表面；

步驟2、將噴嘴移動(dòng)到晶片表面，并使噴嘴與晶片表面的去離子水接 觸。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于向晶片噴灑顯影液的噴嘴的自動(dòng)清潔 方法，其特征在于，所述步驟1具體為：

步驟11、清潔臂移動(dòng)到晶片表面，噴去離子水以清潔晶片表面；

步驟12、晶片靜止，清潔臂將去離子水噴在靜止的晶片表面；

步驟13、將晶片旋轉(zhuǎn)，以使去離子水在晶片表面均勻覆蓋。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于向晶片噴灑顯影液的噴嘴的自動(dòng)清潔 方法，其特征在于，所述步驟2具體為：

步驟21、將噴嘴移動(dòng)到晶片表面，并使噴嘴與晶片表面的去離子水接 觸；

步驟22、晶片每隔一預(yù)設(shè)時(shí)間轉(zhuǎn)動(dòng)，以中和去離子水中的雜質(zhì)。