[發明專利]酸性與鹵素氣體處理觸媒及制造方法

無效

• 申請號: 200810088500.X
• 申請日: 2008-04-01
• 公開（公告）號: CN101549300A
• 公開（公告）日: 2009-10-07
• 發明（設計）人: 劉寶珠
• 申請（專利權）人: 劉寶珠
• 主分類號: B01J27/232
• 分類號: B01J27/232;B01J23/78;B01J27/055;B01J23/889;B01D53/86
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司
• 代理人: 白益華

技術領域

本發明是關于可處理酸性氣體與鹵素氣體的觸媒及其制造方法，特別是可分解半導體與光電面板產業制程中所產生的酸性氣體與鹵素制程氣體的觸媒及其制造方法。

背景技術

由于近年來全球氣候異常的狀況越來越顯著，各種產業所產生的廢棄物質對環境的破壞也越來越大，各先進國家與環保團體甚至尖端科技產業莫不注意各種廢棄物污染問題，尤以氣體排放所產生的影響，最為直接迅速，其中酸性氣體與鹵素氣體所產生影響更不容忽視。

酸性氣體與鹵素氣體對生態環境所造成的影響除酸雨外，還會使周遭生物無法生存、寸草不生，對人體的危害在高濃度下會造成化學性灼傷、損害呼吸系統、嚴重者甚至死亡。

因此在半導體與光電面板產業制程中大量產生的酸性氣體與鹵素氣體廢氣更需要慎重的處理以使對環境的沖擊減至最低。

目前在半導體與光電面板產業制程中所使用的廢氣處理設備主要分為水洗式、燃燒式、電熱式及干式等四大類別。水洗式由于效能較差且消耗大量水及產生不少廢水所造成的二次污染較難符合嚴格的環保標準；燃燒式所產生的大量CO₂或其它酸性氣體會衍生額外的氣體污染問題；電熱式有高耗能且效能不足的問題。故綜合各種型式仍以干式較能有滿意的處理結果，不只低耗能、高效率，且二次污染問題可得到適當控制，維修方便、停電時仍可運作等諸多優點。

而干式所使用的處理方式乃是利用某些金屬物質的催化與反應特性將酸性氣體與鹵素氣體催化與反應成較穩定的固態鹽類或無害氣體，使最終排出的尾氣能符合環保要求。

發明內容

本發明是關于可處理酸性氣體與鹵素氣體的觸媒及其制造方法，特別是可處理半導體與光電面板產業制程中所產生的酸性與鹵素制程氣體的分解觸媒及其制造方法。

本發明的觸媒可處理酸性氣體與鹵素氣體，諸如氯化氫(HCl)、氟化氫(HF)、溴化氫(HBr)、碘化氫(HI)、氟氣(F₂)、氯氣(Cl₂)、溴(Br₂)、碘(I₂)、三氟化氯(ClF₃)、磷化氫(PH₃)、三氯化磷(PCl₃)、五氯化磷(PCl₅)、三氯化氧磷(POCl₃)、五氧化二磷(P₂O₅)、砷化氫(AsH₃)、甲硅烷(SiH₄)、四氟甲硅烷(SiF₄)、四氯甲硅烷(SiCl₄)、三氯硅烷(SiHCl₃)、二氯甲硅烷(SiH₂Cl₂)、三氟化硼(BF₃)、三氯化硼(BCl₃)、四氯化鍺(GeCl₄)、單鍺烷(GeH₄)、一氧化氮(NO)、二氧化氮(NO₂)、二氧化硫(SO₂)、三氧化硫(SO₃)、六氟化硫(SF₆)等。

本發明的觸媒是包括，一或多種載體材料，例如選自活性碳、白土、硅藻土、水泥、硅砂及陶瓷材料等中的至少一者；及視情況存在或不存在的一或多種粘劑，例如選自PVA(聚乙烯醇)、水玻璃、硅溶膠等中的至少一者；及一或多種選自下列的金屬化合物：堿金屬的氫氧化物、氧化物、碳酸鹽及碳酸氫鹽，堿土金屬的氫氧化物、氧化物、碳酸鹽及碳酸氫鹽，第IIIA族金屬的氧化物，第IVA族金屬的氧化物，及過渡金屬的氧化物、氧化物水合物、硫酸鹽及碳酸鹽。

本發明的觸媒可含有約10～90％重量的載體材料、約10～90％重量的金屬化合物及約5～60％重量的粘劑。