[發(fā)明專利]光盤裝置,信息記錄方法和信息再現(xiàn)方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200810087996.9
• 申請日: 2008-03-28
• 公開（公告）號: CN101276606A
• 公開（公告）日: 2008-10-01
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 藤田五郎;齊藤公博;堀籠俊宏;林邦彥
• 申請（專利權(quán)）人: 索尼株式會社
• 主分類號: G11B7/0065
• 分類號: G11B7/0065;G11B7/135
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 李鎮(zhèn)江

1.一種光盤裝置，該光盤裝置通過基于將被記錄的信息向盤狀容積式記錄介質(zhì)上照射預定光而在多個標記層內(nèi)記錄記錄標記，該光盤裝置包含：

用于沿第一光束的光軸的方向調(diào)節(jié)第一光束在容積式記錄介質(zhì)內(nèi)聚焦的焦點的位置的第一焦點位置調(diào)節(jié)部件；

用于沿第二光束的光軸的方向調(diào)節(jié)第二光束在容積式記錄介質(zhì)內(nèi)聚焦的焦點的位置的第二焦點位置調(diào)節(jié)部件；

聚焦控制部件，該聚焦控制部件用于控制第一焦點位置調(diào)節(jié)部件和第二焦點位置調(diào)節(jié)部件，以使通過相同物鏡的第一光束和第二光束聚焦在容積式記錄介質(zhì)內(nèi)的不同標記層的相互對應的位置上；以及

記錄控制部件，該記錄控制部件用于通過在第一光束和第二光束對應于將被記錄的信息的狀態(tài)下照射第一光束和第二光束，而在各個焦點的位置處形成記錄標記。

2.根據(jù)權(quán)利要求1的光盤裝置，其中所述記錄控制部件通過以預定單位分割將被記錄的信息并且使該分割信息匹配到所述第一光束和第二光束，來形成記錄標記。

3.根據(jù)權(quán)利要求1的光盤裝置，其中所述記錄控制部件通過使該將被記錄的信息重疊地匹配到所述第一光束和第二光束，而形成記錄標記。

4.根據(jù)權(quán)利要求1的光盤裝置，該光盤裝置還包括：

物鏡控制部件，該物鏡控制部件用于在預定的第三光束的光軸與第一光束的光軸一致的狀態(tài)下通過物鏡使該第三光束照射在所述容積式記錄介質(zhì)上，并且基于來自所述容積式記錄介質(zhì)內(nèi)設(shè)置的定位層的返回光來控制物鏡的位置。

5.根據(jù)權(quán)利要求4的光盤裝置，其中所述定位層形成有指示記錄標記的記錄位置的軌道，并且所述物鏡控制部件基于返回光識別該軌道然后控制物鏡的位置。

6.根據(jù)權(quán)利要求4的光盤裝置，其中所述第三光束的波長與所述第一和第二光束不同，并且所述定位層通過使用其波長選擇性透射所述第一和第二光束而反射所述第三光束。

7.根據(jù)權(quán)利要求4的光盤裝置，其中所述第三光束的波長與所述第一和第二光束相同，并且所述定位層通過調(diào)節(jié)其透射率以預定的比率透射所述第一和第二光束，并且以另一預定比率反射波長與所述第一和第二光束相同的第三光束。

8.根據(jù)權(quán)利要求1的光盤裝置，其中所述容積式記錄介質(zhì)預先形成有均勻的全息圖，并且

當使用第一或第二光束記錄信息時，所述記錄控制部件通過局部破壞全息圖來形成記錄標記。

9.根據(jù)權(quán)利要求1的光盤裝置，其中所述容積式記錄介質(zhì)均勻地具有預定反射率，并且

當使用第一或第二光束記錄信息時，所述記錄控制部件通過局部改變所述容積式記錄介質(zhì)以改變反射率來形成記錄標記。

10.根據(jù)權(quán)利要求1的光盤裝置，其中所述容積式記錄介質(zhì)均勻地具有預定折射系數(shù)，并且

當使用第一或第二光束記錄信息時，所述記錄控制部件通過局部改變所述容積式記錄介質(zhì)以改變折射系數(shù)來形成記錄標記。

11.一種信息記錄方法，該方法通過基于將被記錄的信息向盤狀容積式記錄介質(zhì)上照射預定光以在多個標記層內(nèi)記錄記錄標記，該方法包含以下步驟：

通過沿第一光束的光軸的方向調(diào)節(jié)第一光束在容積式記錄介質(zhì)內(nèi)聚焦的焦點的位置，并沿第二光束的光軸的方向調(diào)節(jié)第二光束在容積式記錄介質(zhì)內(nèi)聚焦的焦點的位置，來執(zhí)行聚焦控制以使通過相同物鏡的第一光束和第二光束聚焦在容積式記錄介質(zhì)內(nèi)的不同標記層的相互對應的位置上；并且

通過在第一光束和第二光束對應于將被記錄的信息的狀態(tài)下照射第一光束和第二光束，來執(zhí)行記錄控制以便在各個焦點位置處形成記錄標記。