[發(fā)明專利]防護(hù)薄膜組件的制造方法及防護(hù)薄膜組件無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810087646.2 | 申請日: | 2008-03-25 |
| 公開(公告)號: | CN101281363A | 公開(公告)日: | 2008-10-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 白崎享 | 申請(專利權(quán))人: | 信越化學(xué)工業(yè)株式會社 |
| 主分類號: | G03F1/14 | 分類號: | G03F1/14 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 | 代理人: | 張波 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 防護(hù) 薄膜 組件 制造 方法 | ||
1.一種防護(hù)薄膜組件的制造方法,該防護(hù)薄膜組件用于半導(dǎo)體制造用曝光裝置或液晶制造用曝光裝置,且具有由氟樹脂所構(gòu)成的防護(hù)薄膜,該制造方法的特征為:
將該防護(hù)薄膜從形成該薄膜的基板剝離后,予以加熱。
2.如權(quán)利要求1的防護(hù)薄膜組件的制造方法,其中,
加熱的溫度未達(dá)防護(hù)薄膜的玻璃轉(zhuǎn)變點(diǎn)的溫度。
3.一種防護(hù)薄膜組件,用于半導(dǎo)體制造用曝光裝置或是液晶制造用曝光裝置,其特征為:
具有抗拉強(qiáng)度為390kgf/cm2以上的防護(hù)薄膜。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學(xué)臨近校正(OPC)設(shè)計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準(zhǔn)或測試的特殊涂層或標(biāo)記;其制備
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