[發(fā)明專利]抗反射膜、偏振片和圖像顯示裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200810087604.9
• 申請(qǐng)日: 2008-03-20
• 公開（公告）號(hào): CN101285898A
• 公開（公告）日: 2008-10-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 朝倉(cāng)徹也;鈴木貴登
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 富士膠片株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G02B1/11
• 分類號(hào): G02B1/11;G02B5/30;G02F1/1335
• 代理公司: 永新專利商標(biāo)代理有限公司
• 代理人: 于輝

1.一種抗反射膜，其依以下順序包括：

透明襯底膜；

中折射率層；

高折射率層；和

低折射率層，

其中

所述中折射率層是(A)在波長(zhǎng)550nm下折射率為1.60-1.64和厚度為55.0-65.0nm的中折射率層，

所述高折射率層是(B)在波長(zhǎng)550nm下折射率為1.70-1.74和厚度為105.0-115.0nm的高折射率層，和

所述低折射率層是(C)在波長(zhǎng)550nm下折射率為1.32-1.37和厚度為85.0-95.0nm的低折射率層。

2.如權(quán)利要求1所述的抗反射膜，其中

所述低折射率層包括至少一種無機(jī)細(xì)粒。

3.如權(quán)利要求1所述的抗反射膜，其中

所述低折射率層包括至少一種折射率為1.17-1.40的中空顆粒。

4.如權(quán)利要求1所述的抗反射膜，其中

所述低折射率層是通過固化包括含氟可固化樹脂的組合物形成的層，所述含氟可固化樹脂具有熱固化性或/和電離輻射固化性。

5.如權(quán)利要求1所述的抗反射膜，其中

所述低折射率層是通過固化包括至少有機(jī)甲硅烷基化合物的水解產(chǎn)物或所述水解產(chǎn)物的部分縮合物的組合物形成的層，所述有機(jī)甲硅烷基化合物由下式(1)代表：

式(1)：R¹¹_mSi(X¹¹)_n

其中

X¹¹代表-OH、鹵原子、-OR¹²基團(tuán)或-OCOR¹²基團(tuán)，

R¹¹代表烷基、烯基或芳基，

R¹²代表烷基，

m+n為4，并且

m和n分別是正整數(shù)。

6.如權(quán)利要求1所述的抗反射膜，其中

通過以下步驟形成所述高折射率層和所述中折射率層中的至少一層：

涂布涂布組合物，所述涂布組合物包括無機(jī)細(xì)粒，所述無機(jī)細(xì)粒含有選自Ti、Zr、In、Zn、Sn、Sb和Al中的至少一種金屬的氧化物；具有三官能的或更多官能的可聚合基團(tuán)的可固化樹脂；溶劑；和聚合引發(fā)劑，

干燥所述溶劑，和

通過加熱和電離輻射照射中的一種或二種固化所述涂布組合物。

7.如權(quán)利要求6所述的抗反射膜，其中

在所述高折射率層和所述中折射率層中的至少一層中所含的無機(jī)細(xì)粒主要包括平均粒徑為1nm-120nm的鋯氧化物。

8.如權(quán)利要求1所述的抗反射膜，其中

所述中折射率層、所述高折射率層和所述低折射率層中的至少一層是電阻值(SR)滿足下式(4)的導(dǎo)電層：

式(4)：Log?SR≤12。

9.如權(quán)利要求1所述的抗反射膜，還包括：

在所述透明支持體與所述中折射率層之間的導(dǎo)電層，其電阻值(SR)滿足下式(4)：

式(4)：Log?SR≤12。

10.如權(quán)利要求1所述的抗反射膜，還包括：

在所述透明支持體與所述中折射率層之間的厚度為1μm-30μm的硬涂層。

11.一種偏振片，包括：

偏振器；和

兩個(gè)表面保護(hù)膜，它們之間夾持著所述偏振器，

其中所述兩個(gè)表面保護(hù)膜之一是如權(quán)利要求1所述的抗反射膜。

12.如權(quán)利要求11所述的偏振片，其中

所述兩個(gè)表面保護(hù)膜中的另一個(gè)是光學(xué)補(bǔ)償膜。

13.一種圖像顯示裝置，包括：

如權(quán)利要求1所述的抗反射膜。

14.一種圖像顯示裝置，包括：

如權(quán)利要求11所述的偏振片，

其中所述圖像顯示裝置是TN-、STN-、VA-、ECB-、IPS-或OCB-模式的透射型、反射型或透反型的液晶顯示裝置。