[發明專利]顯影裝置和成像設備

有效

• 申請號: 200810087516.9
• 申請日: 2008-03-19
• 公開（公告）號: CN101271305A
• 公開（公告）日: 2008-09-24
• 發明（設計）人: 前澤宜宏;相本豐賀;前田智弘
• 申請（專利權）人: 夏普株式會社
• 主分類號: G03G15/08
• 分類號: G03G15/08;G03G15/00
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司
• 代理人: 蔡勝有;顧晉偉

1.一種顯影裝置，所述顯影裝置在使用兩組分顯影劑的成像處理中，將承載在靜電潛像承載構件上的靜電潛像轉換成可視圖像，所述顯影裝置包括：

顯影劑承載構件，其在承載兩組分顯影劑的同時旋轉并且將所述兩組分顯影劑傳送到與所述靜電潛像承載構件相對的顯影區域；

磁體，其固定地設置在所述顯影劑承載構件的內部并具有多個磁極；和

顯影劑調節構件，其相對于所述顯影劑承載構件的旋轉方向在所述顯影區域的上游側位置處與所述顯影劑承載構件相對，同時在它們之間提供間隙，

其中，所述顯影劑調節構件至少包含磁性構件，并且所述磁性構件沿所述顯影劑承載構件的所述旋轉方向的厚度為0.2～0.4mm，并且其中：

如果在所述顯影劑承載構件上，從與所述磁性構件沿所述旋轉方向的中心相對的位置到最接近所述位置設置的該磁極的磁性最大的位置的距離稱為L(mm)，并且所述顯影劑承載構件的直徑稱為D(mm)，則所述磁性構件設置在0≤L/D≤0.044關系成立的范圍內。

2.根據權利要求1的顯影裝置，其中，

由所述磁性構件沿所述旋轉方向的厚度乘以所述磁性構件沿所述顯影劑承載構件的徑向的高度計算得到的所述磁性構件的截面面積為1.0～2.1mm²，

并且，所述磁性構件的磁導率為300～495。

3.根據權利要求2的顯影裝置，其中所述磁性構件由包含1％以下比例的鎳的不銹鋼材料制成。

4.根據權利要求1的顯影裝置，其中所述磁性構件通過蝕刻處理而制造。

5.根據權利要求4的顯影裝置，其中，所述磁性構件通過在其相對于所述旋轉方向設置在上游側的表面及其設置在下游側的表面上進行雙側蝕刻處理而制造。

6.根據權利要求1的顯影裝置，其中所述顯影劑承載構件的表面粗糙度為5～12μm。

7.根據權利要求1的顯影裝置，其中所述顯影劑承載構件由非磁性不銹鋼材料制成。

8.根據權利要求1的顯影裝置，其中在所述顯影區域中，所述顯影劑承載構件從下往上傳送顯影劑。

9.一種成像設備，包括：

承載靜電潛像的靜電潛像承載構件；和

在使用兩組分顯影劑的成像處理中將承載在靜電潛像承載構件上的靜電潛像轉換成可視圖像的顯影裝置，

其中，所述顯影裝置包括：

顯影劑承載構件，其在承載兩組分顯影劑的同時旋轉并且將所述兩組分顯影劑傳送到與所述靜電潛像承載構件相對的顯影區域；

磁體，其固定地設置在所述顯影劑承載構件的內部并具有多個磁極；和

顯影劑調節構件，其相對于所述顯影劑承載構件的旋轉方向在所述顯影區域的上游側位置處與所述顯影劑承載構件相對，同時在它們之間提供間隙，

其中，所述顯影劑調節構件至少包含磁性構件，并且所述磁性構件沿所述顯影劑承載構件的所述旋轉方向的厚度為0.2～0.4mm，并且其中：

如果在所述顯影劑承載構件上，從與所述磁性構件沿所述旋轉方向的中心相對的位置到最接近所述位置設置的該磁極的磁性最大的位置的距離稱為L(mm)，并且所述顯影劑承載構件的直徑稱為D(mm)，則所述磁性構件設置在0≤L/D≤0.044關系成立的范圍內。