[發明專利]超導濾波器裝置

有效

• 申請號: 200810087408.1
• 申請日: 2008-03-27
• 公開（公告）號: CN101276953A
• 公開（公告）日: 2008-10-01
• 發明（設計）人: 山中一典;赤瀨川章彥;栗原和明
• 申請（專利權）人: 富士通株式會社
• 主分類號: H01P1/203
• 分類號: H01P1/203;H01P7/08
• 代理公司: 隆天國際知識產權代理有限公司
• 代理人: 張龍哺

1、一種超導濾波器裝置，其特征在于：

電介質基底；

補丁型諧振器圖案，由超導材料制成，位于所述基底上；以及

饋線，在所述諧振器圖案的鄰近處延伸；

其中所述饋線包括：

傳輸線部，用于信號輸入和信號輸出之一，所述傳輸線部向所述諧振器圖案延伸；

對面部，從所述傳輸線部彎折以面向所述諧振器圖案；

端部，向背離所述諧振器圖案的方向從所述對面部彎折。

2、如權利要求1所述的超導濾波器裝置，其特征在于，所述饋線包括一對饋線，用于所述信號輸入和所述信號輸出，所述成對饋線相對于所述諧振器圖案呈線性對稱設置。

3、如權利要求1所述的超導濾波器裝置，其特征在于，在所述饋線中的所述對面部的線寬大于所述傳輸線部的線寬。

4、如權利要求1所述的超導濾波器裝置，其特征在于，在所述饋線中La+Lb＝λ/4，其中La為所述端部的長度，Lb為所述對面部的長度，而λ為有效波長。

5、如權利要求4所述的超導濾波器裝置，其特征在于，在所述饋線中0.2≤La/Lb≤0.9。

6、如權利要求1所述的超導濾波器裝置，其特征在于，在所述饋線中W1＜W3≤W2，其中W1為所述傳輸線部的線寬，W2為所述對面部的線寬，而W3為所述端部的線寬。

7、如權利要求1所述的超導濾波器裝置，其特征還在于：

附加諧振器圖案，位于所述基底上，并緊鄰所述諧振器圖案；

附加饋線，與所述饋線配對，所述附加饋線在所述附加諧振器圖案附近延伸；

其中所述成對饋線相對于所述兩個諧振器圖案呈點對稱和旋轉對稱中的一種設置。

8、如權利要求1所述的超導濾波器裝置，其特征在于，所述饋線是有角的字母C形圖案。

9、如權利要求1所述的超導濾波器裝置，其特征在于，所述饋線具有微帶型結構和三平板型結構中的一種。

10、如權利要求1所述的超導濾波器裝置，其特征在于，所述饋線包括超導材料和金屬材料中的一種。