[發明專利]光記錄媒體及其制造方法無效
| 申請號: | 200810087228.3 | 申請日: | 2008-03-24 |
| 公開(公告)號: | CN101271707A | 公開(公告)日: | 2008-09-24 |
| 發明(設計)人: | 酒井武光;佐飛裕一;池田悅郎 | 申請(專利權)人: | 索尼株式會社 |
| 主分類號: | G11B7/243 | 分類號: | G11B7/243 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 | 代理人: | 馬高平 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 記錄 媒體 及其 制造 方法 | ||
技術領域
本發明涉及光記錄媒體及其制造方法。詳細說就是涉及具有無機記錄膜的光記錄媒體。
背景技術
近年來期待有能夠記錄大容量信息的高密度記錄的光記錄媒體。例如為了適應該要求而策劃有蘭光盤(Blu-ray?Disc(注冊商標):BD,以下被叫做BD)的規格,能夠把高清晰度圖象向光記錄媒體上錄象、保存。若把高清晰度的通常再生速度設定為一倍速時,則在BD-R(Blu-rayDisc-Recordable)的規格ver1.1中已經對應到達兩倍速的記錄。
作為能夠對應上述規格的光記錄媒體,例如提案有具備由包含鈦(Ti)的第一記錄膜和包含鍺(Ge)的氧化物的第二記錄膜構成的無機記錄膜的光記錄媒體(例如參照專利文獻1)。該光記錄媒體由四層膜的少的層數構成,并且由四層膜構成的同時還具有寬的功率界限和非常高的耐久性。
專利文獻1:日本特開2006-281751號公報
但該光記錄媒體在作為0.1mm厚度的光透射層而使用紫外線固化樹脂(以下叫做UV樹脂)時,有耐久性惡化的問題。這被認為是由以下所示的理由造成。由形成光透射層的UV樹脂的收縮等而以被記錄變形的部分作為起點,產生有多數微細裂紋,大氣中的水分從這些裂紋侵入,在存在有水的部位鍺(Ge)就擴散并凝聚。當無機記錄膜中的鍺(Ge)擴散并凝聚,則無機記錄膜的惡化進展。
發明內容
因此,本發明的目的在于提供一種能夠提高耐久性的光記錄媒體及其制造方法。
本發明者等為了提高具有無機記錄膜的光記錄媒體的耐久性而進行了銳意研究,結果發現把錫(Sn)作為添加劑向包含鍺(Ge)的氧化物的第二記錄膜中添加則能夠提高耐久性,以致完成本發明。
本發明的第一發明是具有無機記錄膜的光記錄媒體,其中,
無機記錄膜具備:
包含鈦(Ti)的第一記錄膜、
包含鍺(Ge)和錫(Sn)的氧化物的第二記錄膜。
本發明的第二發明是具有無機記錄膜的光記錄媒體的制造方法,其中,具備:
形成包含鈦(Ti)的第一記錄膜的工序、
形成包含鍺(Ge)和錫(Sn)的氧化物的第二記錄膜的工序。
本發明中,當照射記錄光,則第二記錄膜所含有的氧分離,在第一記錄膜與第二記錄膜的界面處形成氧含有量多的Ge層。即第二記錄膜被分離成光學常數不同的保存穩定性高的穩定的兩層。由此,在照射再生光時則被記錄光照射過的部分和沒被記錄光照射的部分的反射光量有變化,所以能夠得到良好的信號特性。第一記錄膜在記錄前后幾乎沒有物理特性的變化,出現促進與第二記錄膜的界面處的反應的所謂催化的作用。
如以上說明的那樣,根據本發明,由于第二記錄膜包含鍺(Ge)和錫(Sn)的氧化物,所以能夠提高光記錄媒體的耐久性。
附圖說明
圖1是表示本發明第一實施例光記錄媒體一結構例的概略剖面圖;
圖2是表示本發明第二實施例光記錄媒體一結構例的概略剖面圖;
圖3是表示本發明第三實施例光記錄媒體一結構例的概略剖面圖;
圖4是表示比較例1-1、實施例1-1~1-6的Sn含有量與記錄靈敏度Pwo、功率界限的關系的曲線;
圖5是表示比較例1-1、實施例1-1~1-6的Sn含有量與2T信號的振幅值R8H*I2pp/I8H的關系的曲線;
圖6是表示實施例2-1~2-6的SnO2膜的膜厚度與功率界限的關系的曲線;
圖7是表示實施例3-1~3-6的SnO2膜的膜厚度與功率界限的關系的曲線。
符號說明
1基板?????????2無機記錄膜???????2a第一記錄膜?????2b第二記錄膜
3電介體膜?????3a第一電介體膜????3b第二電介體膜???4光透射層
5透明導電膜???10光記錄媒體??????11凹凸面
Gin凹槽???????Gon凸槽
具體實施方式
以下參照附圖說明本發明的實施例。
(1)第一實施例
光記錄媒體的結構
圖1是表示本發明第一實施例光記錄媒體一結構例的概略剖面圖。該光記錄媒體10是所謂的追記型光記錄媒體,具有在基板1上順次層合無機記錄膜2、電介體膜3和光透射層4的結構。
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