[發(fā)明專利]定影裝置以及使用該定影裝置的圖像形成裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200810086635.2
• 申請日: 2008-03-24
• 公開（公告）號: CN101271311A
• 公開（公告）日: 2008-09-24
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 上野智志;石井賢治;小川禎史;伊藤明子;瀬尾洋
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社理光
• 主分類號: G03G15/20
• 分類號: G03G15/20;G03G15/00
• 代理公司: 北京紀凱知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 趙蓉民

1.一種定影裝置，其包括設(shè)有發(fā)熱層的發(fā)熱回轉(zhuǎn)體，該發(fā)熱層通過磁通發(fā)熱，通過所述發(fā)熱回轉(zhuǎn)體的發(fā)熱，使得圖像定影在記錄介質(zhì)上；

所述定影裝置的特征在于，包括：

整磁層，其與所述發(fā)熱層分別形成；

保護層，形成在所述整磁層的內(nèi)面，以覆蓋所述整磁層的損傷部分，所述損傷部分是在所述整磁層的加工過程中產(chǎn)生。

2.一種定影裝置，其包括設(shè)有發(fā)熱層的發(fā)熱回轉(zhuǎn)體，該發(fā)熱層通過磁通發(fā)熱，通過所述發(fā)熱回轉(zhuǎn)體的發(fā)熱，使得圖像定影在記錄介質(zhì)上；

所述定影裝置的特征在于，包括：

整磁層，其與所述發(fā)熱層形成一體；

保護層，形成在所述整磁層的內(nèi)面，以覆蓋所述整磁層的損傷部分，所述損傷部分是在所述整磁層的加工過程中產(chǎn)生。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2中記載的定影裝置，其特征在于：

所述整磁層是由包含鐵、鎳的合金材料制成。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-3的任意一項中記載的定影裝置，其特征在于：

所述整磁層由居里點成為100-300℃的磁性體制成。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-4的任意一項中記載的定影裝置，其特征在于：

所述保護層使得所述整磁層的加工過程中產(chǎn)生的損傷的銳利斷面形狀變得圓滑。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-5的任意一項中記載的定影裝置，其特征在于：

所述保護層是由鎳材料制成。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-5中記載的定影裝置，其特征在于：

所述發(fā)熱回轉(zhuǎn)體是輥、定影套筒、以及定影發(fā)熱帶的任意一種；

所述定影裝置還包括加壓回轉(zhuǎn)體，推壓所述發(fā)熱回轉(zhuǎn)體，并與該發(fā)熱回轉(zhuǎn)體接觸；

在通過所述發(fā)熱回轉(zhuǎn)體與所述加壓回轉(zhuǎn)體之間的記錄介質(zhì)上使得圖像定影。

8.根據(jù)權(quán)利要求7中記載的定影裝置，其特征在于：

所述發(fā)熱回轉(zhuǎn)體是加熱輥；

所述定影裝置還包括卷繞在所述加熱輥的定影帶，以及與所述加熱輥一起張架定影帶的定影回轉(zhuǎn)體。

9.一種圖像形成裝置，其特征在于：

使用權(quán)利要求1-8的任意一項中記載的定影裝置。