[發(fā)明專(zhuān)利]圖像傳感器及其制造方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200810085723.0 | 申請(qǐng)日: | 2008-03-13 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101266994A | 公開(kāi)(公告)日: | 2008-09-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 韓昌勛 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 東部高科股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L27/146 | 分類(lèi)號(hào): | H01L27/146;H01L23/522;H01L23/532;H01L21/82;H01L21/768 |
| 代理公司: | 北京律誠(chéng)同業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 徐金國(guó);梁揮 |
| 地址: | 韓國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 韓國(guó);KR |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 圖像傳感器 及其 制造 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及圖像傳感器。
背景技術(shù)
圖像傳感器是將光學(xué)圖像轉(zhuǎn)換成電信號(hào)的半導(dǎo)體器件。圖像傳感器的示例性類(lèi)型包括電荷耦合器件(CCD)圖像傳感器和互補(bǔ)型金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS)圖像傳感器(CIS)。CIS圖像傳感器在每個(gè)單位像素中可包括光電二極管和金屬氧化物半導(dǎo)體(MOS)晶體管。CIS圖像傳感器可以切換方式順序檢測(cè)各個(gè)單位像素的電信號(hào),從而實(shí)現(xiàn)圖像。CIS圖像傳感器可包括接收光學(xué)信號(hào)并將該光學(xué)信號(hào)轉(zhuǎn)換成電信號(hào)的光電二極管區(qū)域。CIS圖像傳感器可包括處理電信號(hào)的晶體管區(qū)域。CIS圖像傳感器可具有連接單位像素的浮置區(qū)域與單位像素的驅(qū)動(dòng)晶體管的金屬線。然而,該金屬線可越過(guò)單位像素的光電二極管區(qū)域,其將降低圖像傳感器的高寬比。高寬比的降低將成為圖像傳感器芯片縮減的限制,從而產(chǎn)生涉計(jì)和制造中的復(fù)雜化因素。
發(fā)明內(nèi)容
實(shí)施方式涉及一種具有增加的寬高比的圖像傳感器和圖像傳感器的制造方法。實(shí)施方式涉及一種具有相對(duì)大的工藝余量(甚至在高標(biāo)準(zhǔn)像素中)的圖像傳感器和用于制造圖像傳感器的方法,這可降低和/或消除在縮減圖像傳感器規(guī)模中的限制。
在實(shí)施方式中,圖像傳感器可包括以下至少之一:包括第一轉(zhuǎn)移晶體管的第一單位像素、包括第二驅(qū)動(dòng)晶體管的第二單位像素,電連接第一單位像素的浮置擴(kuò)散區(qū)域與第二單位像素的第二驅(qū)動(dòng)晶體管的觸點(diǎn)。
實(shí)施方式涉及一種制造圖像傳感器的方法,該方法包括以下至少之一:形成包括第一轉(zhuǎn)移晶體管的第一單位像素;形成包括第二驅(qū)動(dòng)晶體管的第二單位像素;形成電連接第一單位像素的浮置擴(kuò)散區(qū)域與第二單位像素的第二驅(qū)動(dòng)晶體管的觸點(diǎn)。
附圖說(shuō)明
圖1示例性示出了根據(jù)實(shí)施方式的圖像傳感器;
圖2A示例性示出了根據(jù)實(shí)施方式的圖像傳感器的橫截面視圖;
圖2B示例性示出了根據(jù)實(shí)施方式的圖像傳感器的橫截面視圖;
圖3A至圖3C示例性示出了根據(jù)實(shí)施方式制造圖像傳感器的工藝的橫截面視圖;以及
圖4A至圖4B示例性示出了根據(jù)實(shí)施方式制造圖像傳感器的工藝的橫截面視圖。
具體實(shí)施方式
實(shí)施方式涉及圖像傳感器和制造圖像傳感器的方法。在實(shí)施方式的說(shuō)明中,應(yīng)當(dāng)理解,當(dāng)層(或膜)稱(chēng)為在另一層或基板“之上”時(shí),其可以直接位于另一層或基板之上,或者在它們之間也可以存在中間層。另外,應(yīng)當(dāng)理解,當(dāng)層稱(chēng)為在另一層“之下”時(shí),其可以直接位于另一層之下,也可以在它們之間存在一個(gè)或多個(gè)中間層。另外,還應(yīng)當(dāng)理解,當(dāng)層稱(chēng)為在兩個(gè)層“中間”時(shí),其可以是兩個(gè)層中間的唯一層,或者在所述兩個(gè)層中間也可以存在一個(gè)或多個(gè)中間層。
示例性圖1示出了根據(jù)實(shí)施方式的圖像傳感器的平面圖。盡管已示出的實(shí)施方式示出了具有四個(gè)晶體管的CIS圖像傳感器,但是實(shí)施方式不限于具有四個(gè)晶體管的CIS圖像傳感器。本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以理解也可以實(shí)施為其它數(shù)目的晶體管。根據(jù)實(shí)施方式,圖像傳感器可包括第一單位像素100,第二單位像素200和觸點(diǎn)160。觸點(diǎn)160可電性連接第一單位像素100與第二單位像素200。第一單位像素100可以為主像素,而第二單位像素200可以為偽像素(dummy?pixel)。
根據(jù)實(shí)施方式,第一單位像素100可包括一個(gè)光電二極管110和四個(gè)晶體管120、130、140和150。例如,第一單位像素100可包括第一轉(zhuǎn)移晶體管(transfer?transistor)120、第一重置晶體管130、第一驅(qū)動(dòng)晶體管140和第一選擇晶體管150。在實(shí)施方式中,第一負(fù)載晶體管可形成于第一單位像素外面,其可讀取輸出信號(hào)。
第二單位像素200可包括一個(gè)光電二極管210和四個(gè)晶體管220、230、240和250。例如,第二單位像素200可包括第二轉(zhuǎn)移晶體管220、第二重置晶體管230、第二驅(qū)動(dòng)晶體管240和第二選擇晶體管250。
實(shí)施方式可包括觸點(diǎn)160,其電連接第一單位像素100的浮置擴(kuò)散區(qū)域125與第二單位像素200的第二驅(qū)動(dòng)晶體管240。觸點(diǎn)160可與第二驅(qū)動(dòng)晶體管240的側(cè)壁接觸。觸點(diǎn)160可與第二驅(qū)動(dòng)晶體管240的頂側(cè)接觸。根據(jù)實(shí)施方式,觸點(diǎn)160可與第二驅(qū)動(dòng)晶體管240的側(cè)壁和頂側(cè)兩者接觸。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于東部高科股份有限公司,未經(jīng)東部高科股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200810085723.0/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 上一篇:一種碳納米管納電子器件及其制備方法
- 下一篇:文本顯示方法及機(jī)頂盒
- 同類(lèi)專(zhuān)利
- 專(zhuān)利分類(lèi)
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專(zhuān)門(mén)適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專(zhuān)門(mén)適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過(guò)這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專(zhuān)門(mén)適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
- 氫燃料制造系統(tǒng)、氫燃料制造方法以及氫燃料制造程序
- 單元控制系統(tǒng)、生產(chǎn)系統(tǒng)以及控制方法
- 制造裝置及制造方法以及制造系統(tǒng)
- 一種三相異步電動(dòng)機(jī)制造工藝方法
- 制造設(shè)備、制造裝置和制造方法
- 用于監(jiān)測(cè)光學(xué)鏡片制造過(guò)程的方法
- 產(chǎn)品的制造系統(tǒng)、惡意軟件檢測(cè)系統(tǒng)、產(chǎn)品的制造方法以及惡意軟件檢測(cè)方法
- 一種面向制造服務(wù)的制造能力評(píng)估方法
- 一種基于云制造資源的制造能力建模方法
- 制造設(shè)備系統(tǒng)、制造設(shè)備以及制造方法
- 一種數(shù)據(jù)庫(kù)讀寫(xiě)分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測(cè)試終端的測(cè)試方法
- 一種服裝用人體測(cè)量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測(cè)程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)





