[發明專利]開關閥及具有該開關閥的處理裝置

有效

• 申請號: 200810085581.8
• 申請日: 2008-03-19
• 公開（公告）號: CN101270831A
• 公開（公告）日: 2008-09-24
• 發明（設計）人: 野澤俊久
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: F16K51/02
• 分類號: F16K51/02;F16K1/00;H01L21/3065;H01L21/02
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所
• 代理人: 劉新宇;張會華

技術領域

本發明涉及開關閥與具有該開關閥的處理裝置，該開關閥設置于對半導體晶圓等被處理體進行真空處理的處理裝置的腔室與排氣裝置之間。

背景技術

在半導體制造工序中，大多采用成膜處理或蝕刻處理等真空處理。在進行這樣的真空處理的處理裝置中，將作為被處理體的半導體晶圓搬入內部可進行真空排氣的腔室內，由具有真空泵的排氣裝置對腔室內進行真空排氣，并且對半導體晶圓實施規定的處理。

該處理期間，由真空泵對腔室內進行真空排氣，并且通過調整設置于腔室與真空泵之間的壓力控制閥的開度，將腔室內控制在規定壓力。

另一方面，在維護時等，有時需要在真空泵的上游側或下游側完全切斷排氣通路，因此，除了壓力控制閥之外，還設有可以完全切斷排氣通路的開關閥。

在專利文獻1(日本特開平9-89139號)中記載有這樣的開關閥。如在此所記載的那樣，一般的開關閥，由閥體與開口接觸或分離來進行閥的開閉。并且，為了使閥的關閉準確可靠，在閥體上安裝富有彈性的環狀密封構件，當閥體壓接于開口時，密封構件發生彈性變形而堵塞間隙，從而可以實現密封。

專利文獻1：日本特開平9-89139號公報

在上述以往的開關閥中，通過閥體直進與開口接觸或分離來進行打開關閉動作，因此，在閥打開狀態時，閥體位于與開口相對的位置。

但是，作為上述真空處理，例如，進行用CF氣體或氧氣等進行的清潔或等離子處理，在該期間該開關閥打開著，閥體離開開口、位于與開口相對的位置。而且，等離子氣體通過開口被排氣裝置吸引時，產生如下問題：閥體的密封構件曝露在等離子中的自由基中而老化，從而使密封能力下降，產生微粒等。因此，需要在密封構件發生老化的時刻使裝置停止，更換密封構件。

目前，隨著等離子、自由基的高能源化，為了提高耐等離子性與抗自由基性，使用高價的完全氟素化橡膠作為密封構件，但是即便如此還是會產生老化，幾個月就必需更換密封構件，密封構件成本較高，另外，為了更換密封構件需要使裝置停止，因此，存在生產率降低這樣的問題。

發明內容

本發明是鑒于這樣的問題而做成的，其目的在于提供一種可以實現密封構件的長壽命化的開關閥及具有該開關閥的處理裝置。

為了達成上述目的，本發明的第1技術方案為提供一種開關閥，該開關閥設置于腔室與對該腔室內進行真空排氣的排氣裝置之間，該腔室可將內部保持真空，該開關閥具有閥主體、閥體、密封構件、直進移動部件、閥退避部與轉動部件，該閥主體在內部形成有連通上述腔室側與上述排氣裝置側的開口，該閥體在該閥主體內與上述開口接觸分離來打開關閉開口，該密封構件設置于上述閥體，在上述閥體關閉了上述開口時密封開口，該直進移動部件使上述閥體進退，該閥退避部設置于離開上述開口的位置，供從上述開口離開的上述閥體退避，該轉動部件使上述閥體在如下兩個位置之間轉動：一個位置為與上述開口對應的位置，另一個位置為上述閥退避部或與上述閥退避部對應的位置；上述閥體從上述開口離開時，由上述直進移動部件與轉動部件將上述閥體移動到上述閥退避部。

在第1技術方案中，可以做成如下的結構：上述閥退避部設置于離開上述開口的壁部，上述閥體移動到與上述閥退避部對應的位置時，上述直進移動部件使上述閥體直進從而使上述密封構件與閥退避部壓接。

另外，在第1技術方案中，可以做成如下的結構：上述直進移動部件具有凸輪機構。或者，也可以做成如下的結構：上述凸輪機構為板狀構件表面形成有槽的板凸輪。

同樣在第1技術方案中，可以做成如下的結構：上述轉動部件使凸輪機構與上述閥體一起轉動。

另外，在第1技術方案中，可以做成如下結構：上述閥體在上述密封構件的外側具有保護密封部，上述保護密封部緊密附著在上述閥退避部時，上述密封構件被氣密地密封在上述保護密封部內。

另外，也可以做成如下結構：在上述開口的周邊形成收容上述保護密封部的凹槽，上述密封構件密封了開口時，上述保護密封部被收容在上述凹槽。