[發(fā)明專利]圓盤狀基板的制造方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810085456.7 | 申請日: | 2008-03-17 |
| 公開(公告)號: | CN101269471A | 公開(公告)日: | 2008-09-24 |
| 發(fā)明(設計)人: | 羽根田和幸;藤波聰;城之內武 | 申請(專利權)人: | 昭和電工株式會社;西鐵城精密株式會社 |
| 主分類號: | B24B7/24 | 分類號: | B24B7/24;B24B55/06 |
| 代理公司: | 北京三友知識產(chǎn)權代理有限公司 | 代理人: | 黨曉林;李艷艷 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 圓盤 狀基板 制造 方法 | ||
1、一種圓盤狀基板的制造方法,其特征在于,
在利用磨削裝置對圓盤狀基板進行磨削的工序中從上方朝下方產(chǎn)生氣流,
地板具有上側地板面和下側地板面,該上側地板面由開設有貫通孔的板以及網(wǎng)狀部件中的任一種構成,該下側地板面將所述上側地板面支撐在向上離開的位置上,在所述地板的所述上側地板面上設置所述磨削裝置,并在該下側地板面上配置水,
借助于所述氣流將所述磨削裝置產(chǎn)生的粉塵導入所述水中。
2、根據(jù)權利要求1所述的圓盤狀基板的制造方法,其特征在于,
所述上側地板面是在金屬板上連續(xù)地開設有貫通孔的板條板。
3、根據(jù)權利要求1所述的圓盤狀基板的制造方法,其特征在于,
配置在所述下側地板面上的所述水,在所述上側地板面的下方形成水流。
4、根據(jù)權利要求1所述的圓盤狀基板的制造方法,其特征在于,
磨削用的配管和配線中的任一方都在比所述磨削裝置的加工區(qū)域靠近下方的位置從裝置殼體突出。
5、根據(jù)權利要求1所述的圓盤狀基板的制造方法,其特征在于,
所述上側地板面也設置在作業(yè)人員操作所述磨削裝置的作業(yè)區(qū)域中,
隨著氣流吹到所述磨削裝置上而在所述作業(yè)區(qū)域中產(chǎn)生氣流并將粉塵導入所述水中。
6、一種圓盤狀基板的制造方法,其特征在于,
在利用研磨裝置對圓盤狀基板進行研磨的工序中從上方朝下方產(chǎn)生氣流,
地板具有上側地板面和下側地板面,該上側地板面由開設有貫通孔的板以及網(wǎng)狀部件中的任一種構成,該下側地板面將所述上側地板面支撐在向上離開的位置上,在所述地板的所述上側地板面上設置所述研磨裝置,并在該下側地板面上配置水,
借助于所述氣流將所述研磨裝置產(chǎn)生的粉塵導入所述水中。
7、根據(jù)權利要求6所述的圓盤狀基板的制造方法,其特征在于,
所述上側地板面是在金屬板上連續(xù)地開設有貫通孔的板條板。
8、根據(jù)權利要求6所述的圓盤狀基板的制造方法,其特征在于,
配置在所述下側地板面上的所述水,在所述上側地板面的下方形成水流。
9、根據(jù)權利要求6所述的圓盤狀基板的制造方法,其特征在于,
研磨用的配管和配線中的任一方都在比所述研磨裝置的加工區(qū)域靠近下方的位置從裝置殼體突出。
10、根據(jù)權利要求6所述的圓盤狀基板的制造方法,其特征在于,
所述上側地板面也設置在作業(yè)人員操作所述研磨裝置的作業(yè)區(qū)域中,
隨著氣流吹到所述研磨裝置上而在所述作業(yè)區(qū)域中產(chǎn)生氣流并將粉塵導入所述水中。
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