[發(fā)明專利]具有非晶硅多結(jié)構(gòu)層薄膜的太陽(yáng)能電池無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200810084631.0 | 申請(qǐng)日: | 2008-03-14 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101533866A | 公開(公告)日: | 2009-09-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊燕智;簡(jiǎn)永杰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 東捷科技股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L31/075 | 分類號(hào): | H01L31/075 |
| 代理公司: | 天津三元專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 | 代理人: | 錢 凱 |
| 地址: | 中國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 中國(guó)臺(tái)灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 非晶硅多 結(jié)構(gòu) 薄膜 太陽(yáng)能電池 | ||
1.一種具有非晶硅多結(jié)構(gòu)層薄膜的太陽(yáng)能電池,其特征在于,包括:
一基板,可透光;
一第一穿透電膜,是設(shè)于該基板上且可透光;
一第一光電轉(zhuǎn)換層,是由一第一P層、一第一I層及一第一N層堆疊而成,其中,該第一I層是由a-SiN構(gòu)成,而該第一光電轉(zhuǎn)換層是設(shè)于該第一穿透電膜上,且可調(diào)變的能帶寬是介于1.7ev至2.3ev之間;
一第二光電轉(zhuǎn)換層,是由一第二P層、一第二I層及一第二N層堆疊而成,其中,該第二I層是由a-Si所構(gòu)成,而該第二光電轉(zhuǎn)換層是設(shè)于該第一光電轉(zhuǎn)換層上,且可調(diào)變的能帶寬為1.7ev左右;
一第三光電轉(zhuǎn)換層,是由一第三P層、一第三I層及一第三N層堆疊而成,其中,該第三I層是由a-SiSn構(gòu)成,而該第三光電轉(zhuǎn)換層是設(shè)于該第二光電轉(zhuǎn)換層上,且可調(diào)變的能帶寬介于0.08ev至1.1ev之間,又,該第一光電轉(zhuǎn)換層的能隙是大于該第二光電轉(zhuǎn)換層的能隙,且該第二光電轉(zhuǎn)換層的能隙是大于該第三光電轉(zhuǎn)換層的能隙;
一第二穿透電膜,是設(shè)于該第三光電轉(zhuǎn)換層的上方且可透光;
一上電極,是設(shè)于該第二穿透電膜上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有非晶硅多結(jié)構(gòu)層薄膜的太陽(yáng)能電池,其特征在于:所述第一、第二及第三光電轉(zhuǎn)換層又可分別設(shè)有一第一緩沖層、一第二緩沖層及一第三緩沖層,又,所述第一光電轉(zhuǎn)換層的能隙大于所述第二光電轉(zhuǎn)換層的能隙,該第二光電轉(zhuǎn)換層的能隙大于所述第三光電轉(zhuǎn)換層的能隙。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有非晶硅多結(jié)構(gòu)層薄膜的太陽(yáng)能電池,其特征在于:
所述第一光電轉(zhuǎn)換層是以制程氣體SiH4/NH3比例調(diào)變能帶寬;
所述第二光電轉(zhuǎn)換層是以制程氣體SiH4/H2比例調(diào)變能帶寬;
所述第三光電轉(zhuǎn)換層是以濺鍍或蒸鍍方式調(diào)變能帶寬。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
- 卡片結(jié)構(gòu)、插座結(jié)構(gòu)及其組合結(jié)構(gòu)
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