[發明專利]用來調整聚焦誤差信號的光驅裝置及其方法

無效

• 申請號: 200810083633.8
• 申請日: 2008-03-12
• 公開（公告）號: CN101447198A
• 公開（公告）日: 2009-06-03
• 發明（設計）人: 辛國鼎;黃昭銘
• 申請（專利權）人: 聯發科技股份有限公司
• 主分類號: G11B7/09
• 分類號: G11B7/09
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司
• 代理人: 任默聞

1.一種能夠調整聚焦誤差信號的光驅裝置，其特征在于，所述的裝置包含有：

聚焦偏移決定單元，根據至少得到的第一聚焦偏移與第二聚焦偏移決定目標條件所對應的目標聚焦偏移；以及

調整模塊，耦接于所述的聚焦偏移決定單元，用來接收所述的聚焦誤差信號并用所述的目標聚焦偏移調整所述的聚焦誤差信號來產生調整后的聚焦誤差信號。

2.如權利要求1所述的能夠調整聚焦誤差信號的光驅裝置，其特征在于，所述的目標條件為目標激光功率、光盤上的目標位置或是與所述的光盤上位置相關的目標切線速度。

3.如權利要求1所述的能夠調整聚焦誤差信號的光驅裝置，其特征在于，所述的目標條件為目標激光功率，而所述的聚焦偏移決定單元在決定所述的目標聚焦偏移之前至少得到第一激光功率所對應的所述的第一聚焦偏移及第二激光功率所對應的所述的第二聚焦偏移。

4.如權利要求3所述的能夠調整聚焦誤差信號的光驅裝置，其特征在于，所述的聚焦偏移決定單元依據所述的第一聚焦偏移、所述的第二聚焦偏移、所述的第一激光功率、所述的第二激光功率與所述的目標激光功率執行內插運算或外插運算以得到所述的目標聚焦偏移，所述的聚焦偏移決定單元依據所述的第一聚焦偏移、所述的第二聚焦偏移、所述的第一激光功率、所述的第二激光功率與所述的目標激光功率由對照表得到所述的目標聚焦偏移，或者所述的聚焦偏移決定單元依據曲線近似并通過以所述的第一聚焦偏移、所述的第二聚焦偏移、所述的第一激光功率與所述的第二激光功率為基礎所形成的等式來得到所述的目標激光功率所對應的所述的目標聚焦偏移。

5.如權利要求3所述的能夠調整聚焦誤差信號的光驅裝置，其特征在于，所述的能夠調整聚焦誤差信號的光驅裝置另包含有：

多工器，耦接于所述的聚焦偏移決定單元與所述的調整模塊；以及

聚焦偏移調校單元，耦接于所述的多工器與所述的聚焦偏移決定單元，用來分別依據所述的第一激光功率、第二激光功率產生所述的第一聚焦偏移、第二聚焦偏移；

其中，在調校模式下，所述的聚焦偏移調校單元分別調整經由所述的多工器輸出至所述的調整模塊的不同聚焦偏移，來產生對應于不同激光功率的各自的最佳聚焦偏移，以取得對應于所述的第一激光功率的所述的第一聚焦偏移、對應于所述的第二激光功率的所述的第二聚焦偏移；以及在正常模式下，所述的聚焦偏移決定單元依據所述的聚焦偏移調校單元所產生的所述的第一聚焦偏移、第二聚焦偏移來決定出所述的目標聚焦偏移。

6.一種用于光驅以調整聚焦誤差信號的方法，所述的方法包含有：

根據至少得到的第一聚焦偏移與第二聚焦偏移決定目標條件所對應的目標聚焦偏移；以及

接收所述的聚焦誤差信號并用所述的目標聚焦偏移調整所述的聚焦誤差信號以產生調整后的聚焦誤差信號。

7.如權利要求6所述的用于光驅以調整聚焦誤差信號的方法，其特征在于，所述的目標條件為目標激光功率、光盤上的目標位置或是與所述的光盤上位置相關的目標切線速度。

8.如權利要求6所述的用于光驅以調整聚焦誤差信號的方法，其特征在于，所述的目標條件為目標激光功率，以及所述的方法另包含有：

在決定所述的目標聚焦偏移之前至少得到第一激光功率所對應的所述的第一聚焦偏移與第二激光功率所對應的所述的第二聚焦偏移。

9.如權利要求8所述的用于光驅以調整聚焦誤差信號的方法，其特征在于，所述決定所述的目標聚焦偏移的步驟包含有：

依據所述的第一聚焦偏移、所述的第二聚焦偏移、所述的第一激光功率、所述的第二激光功率與所述的目標激光功率執行內插運算或外插運算以得到所述的目標聚焦偏移，依據所述的第一聚焦偏移、所述的第二聚焦偏移、所述的第一激光功率、所述的第二激光功率與所述的目標激光功率由對照表得到所述的目標聚焦偏移，或者依據曲線近似并通過以所述的第一聚焦偏移、所述的第二聚焦偏移、所述的第一激光功率與所述的第二激光功率為基礎所形成的等式來得到所述的目標激光功率所對應的所述的目標聚焦偏移。