[發明專利]一次性寫入光學記錄介質及其缺陷管理信息的管理方法

有效

• 申請號: 200810083209.3
• 申請日: 2003-10-01
• 公開（公告）號: CN101261867A
• 公開（公告）日: 2008-09-10
• 發明（設計）人: 樸容徹;金成大
• 申請（專利權）人: LG電子株式會社
• 主分類號: G11B20/18
• 分類號: G11B20/18
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 夏凱;鐘強

1.一種在記錄介質上記錄管理信息的方法，所述記錄介質具有至少一個臨時缺陷管理區，所述方法包括：

將缺陷管理信息記錄在所述至少一個臨時缺陷管理區中的一個上；和

記錄指示所述至少一個臨時缺陷管理區中的哪個區域已滿的指示信息。

2.如權利要求1所述的方法，其中，所述指示消息包括分別對應于所述至少一個臨時缺陷管理區的至少一個指示標記，每個指示標記指示是否臨時缺陷管理區已滿。

3.如權利要求1所述的方法，其中，以預定順序使用所述至少一個臨時缺陷管理區以將所述缺陷管理信息記錄在其中，并且將所述缺陷管理信息記錄在緊跟著被指示已滿的臨時缺陷管理區之后的臨時缺陷管理區中。

4.如權利要求1所述的方法，進一步包括：

當所述至少一個缺陷管理區已滿時，最終完成所述記錄介質。

5.如權利要求4所述的方法，進一步包括：

當最終完成所述記錄介質時，在記錄介質的最終缺陷管理區上記錄最后更新的缺陷管理信息。

6.如權利要求1所述的方法，進一步包括：

將所述至少一個臨時缺陷管理區分配到所述記錄介質的導入區和數據區中的至少一個中。

7.如權利要求6所述的方法，進一步包括：

將至少一個備用區分配到所述記錄介質的所述數據區中；和

將所述至少一個臨時缺陷管理區分配到所述記錄介質的導入區和所述至少一個備用區的至少一個中。

8.一種用于管理記錄介質上的缺陷的裝置，所述記錄介質具有至少一個臨時缺陷管理區，所述裝置包括：

光學拾波器，該光學拾波器在所述記錄介質上記錄數據；和

控制器，該控制器被配置用于控制所述光學拾波器在所述至少一個臨時缺陷管理區中的一個上記錄缺陷管理信息；并且控制所述光學拾波器以記錄指示所述至少一個臨時缺陷管理區中的哪個區已滿的指示信息。

9.如權利要求8所述的裝置，其中，所述控制器被配置用于控制所述指示信息被記錄為分別對應于所述至少一個臨時缺陷管理區的至少一個指示標記，每個指示標記指示是否臨時缺陷管理區已滿。

10.如權利要求8所述的裝置，其中，所述控制器被配置用于控制將以預定順序使用的所述至少一個臨時缺陷管理區，以將所述缺陷管理信息記錄在其中，并且控制所述光學拾波器以將所述缺陷管理信息記錄在被指示已滿的臨時缺陷管理區之后的臨時缺陷管理區中。

11.如權利要求8所述的裝置，其中，所述控制器被配置用于當所有所述至少一個臨時缺陷管理區已滿時，控制所述記錄介質被最終完成。

12.如權利要求8所述的裝置，其中，所述控制器被配置用于當最終完成所述記錄介質時，控制所述光學拾波器在所述記錄介質的最終缺陷管理區上記錄最后更新的缺陷管理信息。

13.如權利要求8所述的裝置，其中，所述控制器被配置用于將所述至少一個臨時缺陷管理區分配到所述記錄介質的導入區和數據區中的至少一個中。

14.如權利要求13所述的裝置，其中，所述控制器被配置用于將所述至少一個備用區分配到所述記錄介質的所述數據區中，其中，所述控制器被配置用于將所述至少一個臨時缺陷管理區分配到所述記錄介質的導入區和所述至少一個備用區的至少一個中。

15.如權利要求13所述的裝置，進一步包括：

數據存儲器，該數據存儲器被配置用于存儲從所述至少一個臨時缺陷管理區中讀取的所述缺陷管理信息。

16.一種管理記錄介質上的缺陷的方法，所述記錄介質具有至少一個臨時缺陷管理區和至少一個最終缺陷管理區，所述方法包括：

再現指示所述至少一個臨時缺陷管理區中的哪個區域已滿的指示信息；和

將缺陷管理信息記錄到由所述指示信息指示未滿的臨時缺陷管理區中。

17.如權利要求16所述的方法，其中，所述指示信息包括分別對應于所述至少一個臨時缺陷管理區的至少一個指示標記，每個指示標記指示是否臨時缺陷管理區已滿。