[發(fā)明專利]陣列基板及其形成方法和具有陣列基板的顯示面板有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810083130.0 | 申請日: | 2008-03-07 |
| 公開(公告)號: | CN101261413A | 公開(公告)日: | 2008-09-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 鄭營培;金東煥;金鎮(zhèn)卓 | 申請(專利權(quán))人: | 三星電子株式會社 |
| 主分類號: | G02F1/1362 | 分類號: | G02F1/1362;G02F1/1343;H01L27/12;H01L21/84 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 | 代理人: | 陶鳳波 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 陣列 及其 形成 方法 具有 顯示 面板 | ||
1.一種陣列基板,包括:
底基板,包括顯示區(qū)、圍繞所述顯示區(qū)的邊界區(qū)、和圍繞所述邊界區(qū)的光阻擋區(qū);
多條柵極線,沿第一方向延伸并設(shè)置在所述底基板上;
多條數(shù)據(jù)線,沿與所述第一方向交叉的第二方向延伸并設(shè)置在所述底基板上;
多個像素部分,設(shè)置在所述顯示區(qū)中且電連接至所述柵極線和所述數(shù)據(jù)線;以及
柵極驅(qū)動部,電連接至所述柵極線,部分的所述柵極驅(qū)動部與所述邊界區(qū)重疊。
2.如權(quán)利要求1所述的陣列基板,其中部分的所述柵極驅(qū)動部設(shè)置在所述光阻擋區(qū)中。
3.如權(quán)利要求1所述的陣列基板,還包括邊界電極,所述邊界電極設(shè)置在所述柵極驅(qū)動部上方并與所述柵極驅(qū)動部重疊,對應(yīng)于所述邊界區(qū)。
4.如權(quán)利要求3所述的陣列基板,其中所述像素部分包括:
多個薄膜晶體管,電連接至所述柵極線和所述數(shù)據(jù)線;以及
多個像素電極,設(shè)置在所述顯示區(qū)中定義的像素單元區(qū)中并電連接至所述薄膜晶體管。
5.如權(quán)利要求4所述的陣列基板,還包括覆蓋所述柵極線、所述數(shù)據(jù)線、所述薄膜晶體管、和所述柵極驅(qū)動部的保護(hù)層,其中所述像素電極和所述邊界電極設(shè)置在所述保護(hù)層上。
6.如權(quán)利要求5所述的陣列基板,還包括公共電壓線,所述公共電壓線覆蓋有所述保護(hù)層,并通過延伸穿過所述保護(hù)層的邊界接觸孔電連接至所述邊界電極。
7.如權(quán)利要求6所述的陣列基板,其中所述邊界區(qū)包括:
設(shè)置在所述顯示區(qū)左側(cè)的左邊界區(qū);
設(shè)置在所述顯示區(qū)右側(cè)的右邊界區(qū);
設(shè)置在所述顯示區(qū)上側(cè)的上邊界區(qū);以及
設(shè)置在所述顯示區(qū)下側(cè)的下邊界區(qū)。
8.如權(quán)利要求7所述的陣列基板,其中所述邊界接觸孔設(shè)置在所述上邊界區(qū)和所述下邊界區(qū)中的一個中。
9.如權(quán)利要求7所述的陣列基板,其中所述邊界接觸孔設(shè)置在所述左邊界區(qū)和所述右邊界區(qū)中的一個中,且與所述柵極驅(qū)動部分開。
10.如權(quán)利要求3所述的陣列基板,其中所述邊界電極具有在整個所述邊界區(qū)上的整體的形式。
11.如權(quán)利要求3所述的陣列基板,其中所述邊界電極包括反射電極以在所述邊界區(qū)中顯示白圖像。
12.如權(quán)利要求1所述的陣列基板,其中所述柵極驅(qū)動部包括:
第一柵極驅(qū)動電路,電連接至所述柵極線的第一端部;以及
第二柵極驅(qū)動電路,電連接至所述柵極線的第二端部。
13.一種顯示面板,包括:
陣列基板,包括:
底基板,包括顯示區(qū)、圍繞所述顯示區(qū)的邊界區(qū)、和圍繞所述邊界區(qū)的光阻擋區(qū);
多條柵極線,沿第一方向延伸并設(shè)置在所述底基板上;
多條數(shù)據(jù)線,以與所述第一方向交叉的第二方向延伸并設(shè)置在所述底基板上;
多個像素部分,設(shè)置在所述顯示區(qū)中且電連接至所述柵極線和所述數(shù)據(jù)線;以及
柵極驅(qū)動部,電連接至所述柵極線,部分的所述柵極驅(qū)動部與所述邊界區(qū)重疊;
面對基板,面對所述陣列基板;以及
液晶層,夾置在所述陣列基板和所述面對基板之間。
14.如權(quán)利要求13所述的顯示面板,其中所述柵極驅(qū)動部設(shè)置在所述邊界區(qū)和所述光阻擋區(qū)中。
15.如權(quán)利要求13所述的顯示面板,
其中所述像素部分包括電連接至所述柵極線和所述數(shù)據(jù)線的多個薄膜晶體管;以及
其中所述陣列基板還包括:
保護(hù)層,覆蓋所述柵極線、所述數(shù)據(jù)線、所述薄膜晶體管、和所述柵極驅(qū)動部;以及
邊界電極,設(shè)置在所述保護(hù)層上、與所述柵極驅(qū)動部重疊并且對應(yīng)于所述邊界區(qū)。
16.如權(quán)利要求15所述的顯示面板,其中所述面對基板包括外部光阻擋層,對應(yīng)于所述陣列基板的光阻擋區(qū)設(shè)置。
17.如權(quán)利要求16所述的顯示面板,其中所述邊界電極具有在整個所述邊界區(qū)域上的整體的形式。
18.如權(quán)利要求17所述的顯示面板,其中所述邊界電極包括透射電極。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





