[發明專利]一次寫入型光盤和分配一次寫入型光盤備用區域的方法和設備有效
| 申請號: | 200810082036.3 | 申請日: | 2003-10-01 |
| 公開(公告)號: | CN101252016A | 公開(公告)日: | 2008-08-27 |
| 發明(設計)人: | 樸容徹;金成大 | 申請(專利權)人: | LG電子株式會社 |
| 主分類號: | G11B20/18 | 分類號: | G11B20/18 |
| 代理公司: | 中原信達知識產權代理有限責任公司 | 代理人: | 夏凱;鐘強 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一次 寫入 光盤 分配 備用 區域 方法 設備 | ||
1.一種在一次寫入型記錄介質上分配備用區的方法,所述記錄介 質包括具有內部區域、數據區和外圍區域的記錄層,所述內部區域包 括在其中臨時存儲缺陷管理信息的臨時缺陷管理區,所述臨時缺陷管 理區的大小為第一固定值,所述方法包括:
以零和具有16384個簇的第一最大值之間的大小分配備用區到所 述數據區;和
以零和用于在臨時缺陷管理區中臨時存儲缺陷管理信息的第二最 大值之間的大小分配暫時缺陷管理區到所述備用區,所述暫時缺陷管 理區取決于所述備用區的大小,
其中,當所述備用區的大小為零時,所述暫時缺陷管理區的大小 為零。
2.如權利要求1所述的方法,包括:
以第一大小分配第一內備用區給所述數據區;和
以零和所述第一最大值之間的大小分配第一外備用區給所述數據 區,
其中,所述第一大小是第二固定值,以及
其中,以零和具有16384個簇的第一最大值之間的大小分配的備 用區是第一外備用區。
3.如權利要求2所述的方法,其中,所述暫時缺陷管理區分配給 所述第一外備用區,并且所述暫時缺陷管理區的大小取決于所述第一 外備用區的大小。
4.如權利要求1所述的方法,其中,所述記錄介質具有第一記錄 層和第二記錄層,所述方法包括:
以第一大小分配第一內備用區和以零和第三最大值之間的大小分 配第一外備用區到所述第一記錄層;和
以零和所述第一最大值之間的大小分配第二內備用區和以零和所 述第三最大值之間的大小分配第二外備用區到所述第二記錄層,
其中,所述第一大小是第二固定值,
其中,以零和具有16384個簇的第一最大值之間的大小分配的備 用區是第二內備用區,以及
其中,所述第三最大值是8192個簇。
5.如權利要求4所述的方法,其中,所述第一外備用區和所述第 二外備用區中的每一個外備用區被分配N×256個簇的大小,其中, 0≤N≤32。
6.如權利要求4所述的方法,其中,所述暫時缺陷管理區被分配 到所述第二內備用區、所述第一外備用區和所述第二外備用區。
7.如權利要求1所述的方法,進一步包括:
將所述記錄介質的缺陷管理信息記錄到臨時缺陷管理區中直到最 終完成所述記錄介質,以及
如果所述記錄介質要最終完成,將記錄在所述臨時缺陷管理區中 的所述缺陷管理信息記錄在缺陷管理區的每個上。
8.一種在一次寫入型記錄介質上分配備用區的裝置,所述記錄介 質包括具有內部區域、數據區和外圍區域的記錄層,所述內部區域包 括在其中臨時存儲缺陷管理信息的臨時缺陷管理區,所述臨時缺陷管 理區的大小為第一固定值,所述裝置包括:
光學拾波器,該光學拾波器被配置用于向所述記錄介質寫入數據 或者從所述記錄介質讀取數據;
伺服器,該伺服器被配置為控制所述光學拾波器保持所述光學拾 波器的物鏡和所述記錄介質之間的距離,并且該伺服器被配置為控制 所述光學拾波器跟蹤在所述記錄介質上的軌道;
數據處理器,該數據處理器被配置為處理和提供輸入數據給所述 光學拾波器用于寫入,并且該數據處理器被配置為處理從所述記錄介 質中讀取的數據;
接口,該接口被配置為與外部主機交換數據;
存儲器,該存儲器被配置為存儲包含與所述記錄介質相關聯的缺 陷管理信息的信息;以及
控制器,該控制器被配置用于以零和具有16384個簇的第一最大 值之間的大小分配備用區到所述數據區;所述控制器被配置為以零和 用于在臨時缺陷管理區中臨時存儲缺陷管理信息的第二最大值之間的 大小分配暫時缺陷管理區到所述備用區,所述暫時缺陷管理區取決于 所述備用區的大小,
其中,當所述備用區的大小為零時,所述暫時缺陷管理區的大小 為零。
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