[發(fā)明專利]主動陣列基板、電極基板及液晶顯示面板有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810081825.5 | 申請日: | 2008-04-08 |
| 公開(公告)號: | CN101256328A | 公開(公告)日: | 2008-09-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 廖干煌;劉品妙;陳予潔;丁天倫;陳東佑 | 申請(專利權(quán))人: | 友達(dá)光電股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1362 | 分類號: | G02F1/1362;G02F1/1343;H01L27/12 |
| 代理公司: | 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 任默聞 |
| 地址: | 臺灣省*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 主動 陣列 電極 液晶顯示 面板 | ||
1.一種主動陣列基板,其特征在于,該主動陣列基板包含:
一基底;
多條掃描線,設(shè)置于所述的基底上;
多條數(shù)據(jù)線,與所述的掃描線垂直;
多個像素電極;
多個主動元件,各所述的主動元件對應(yīng)至所述的掃描線其中之一、所述的數(shù)據(jù)線其中之一及所述的像素電極其中之一,各所述的主動元件分別與相對應(yīng)的所述的掃描線、數(shù)據(jù)線及像素電極電性連接以界定一像素區(qū)以及一非顯示區(qū);以及
至少一輔助電極,設(shè)置于所述的基底上,并位于所述的非顯示區(qū)內(nèi),至少一所述的輔助電極用以接收一輔助電壓,其中該輔助電壓為-30伏特至30伏特。
2.如權(quán)利要求1所述的主動陣列基板,其特征在于,至少一所述的輔助電極與所述的像素電極彼此絕緣且設(shè)置于同一層,至少一所述的輔助電極的形狀為一環(huán)狀、一條狀、一U字狀及一ㄇ字狀其中之一,所述的主動陣列基板還包含一電容電極,設(shè)置于所述的基底上,所述的電容電極用以接收一電容電壓,其中該電容電壓為-30伏特至30伏特。
3.如權(quán)利要求1所述的主動陣列基板,其特征在于,該主動陣列基板還包含:
一電容電極,設(shè)置于所述的基底上,其中該電容電極與所述的至少一輔助電極電性連接。
4.如權(quán)利要求1所述的主動陣列基板,其特征在于,該主動陣列基板還包含:
一電容電極,設(shè)置于所述的基底上,其中該電容電極與所述的至少一輔助電極彼此絕緣且設(shè)置于同一層。
5.如權(quán)利要求1所述的主動陣列基板,其特征在于,所述的至少一輔助電極與所述的掃描線其中之一電性連接。
6.如權(quán)利要求1所述的主動陣列基板,其特征在于,所述的至少一輔助電極與所述的掃描線彼此絕緣,且設(shè)置于同一層。
7.一種電極基板,其特征在于,該電極基板包含:
一基底,具有多個像素區(qū)域,各所述的像素區(qū)域具有一像素寬度;以及
一共通電極,設(shè)置于所述的基底上,該共通電極具有多個狹縫,其中各所述的狹縫的一寬度為所述的像素寬度的1/20倍至1/5倍。
8.如權(quán)利要求7所述的電極基板,其特征在于,該電極基板還包含多個彩色濾光層,設(shè)置于所述的基底以及所述的共通電極之間,其中所述的狹縫的形狀為一環(huán)狀、一條狀、一U字狀及一ㄇ字狀其中之一。
9.一種電極基板,其特征在于,該點擊基板包含:
一基底;
一共通電極,設(shè)置于所述的基底上;以及
多個遮蔽結(jié)構(gòu),設(shè)置于所述的基底上,并分隔所述的共通電極為多個區(qū)塊,其中所述的遮蔽結(jié)構(gòu)的一電壓為-30伏特至30伏特。
10.如權(quán)利要求9所述的電極基板,其特征在于,該點擊基板還包含:
多個彩色濾光層,設(shè)置于所述的基底以及所述的共通電極之間。
11.如權(quán)利要求9所述的電極基板,其特征在于,所述的遮蔽結(jié)構(gòu)的材料包含金屬及不透明導(dǎo)電材料其中之一或其組合,其中所述的金屬包含鉻、鉻合金及不透明導(dǎo)電金屬其中之一或其組合,其中所述的基底具有多個像素區(qū)域,各所述的像素區(qū)域具有一像素長度及一像素寬度,各所述的遮蔽結(jié)構(gòu)的一長度為所述的像素長度的1/20倍至1倍、各所述的遮蔽結(jié)構(gòu)的一寬度為所述的像素寬度的1/20倍至1倍,以及各遮蔽結(jié)構(gòu)的一厚度為0.01微米至5微米,其中所述的共通電極用以接收一共通電壓,所述的遮蔽結(jié)構(gòu)的所述的電壓與所述的共通電壓的一差值的絕對值為2伏特與20伏特。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





