[發明專利]可偏轉結構、微機械機構和用于調節微機械結構的方法

有效

• 申請號: 200810081817.0
• 申請日: 2008-04-02
• 公開（公告）號: CN101279707A
• 公開（公告）日: 2008-10-08
• 發明（設計）人: 克里斯蒂安·德拉伯
• 申請（專利權）人: 弗勞恩霍夫應用研究促進協會
• 主分類號: B81B3/00
• 分類號: B81B3/00;B81B7/02;B81C1/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 王波波

1.一種可偏轉結構，包括：

包括第一區域(110；210)和第二區域(112)的層(102)；

在所述層(102)中的溝槽結構(104)，所述溝槽結構(104)穿透所述層(102)，并且將所述第一區域(110；210)與所述第二區域(112)分離；

所述第一區域(110；210)和所述第二區域(112)之間的第一連接點(106；206)；以及

所述第一區域(110；210)和所述第二區域(112)之間的第二連接點(108；208)；

通過施加力，所述第一區域(110；210)可以從相對于所述第二區域(112)的永久的第一位置永久地移動至相對于所述第二區域(112)的第二位置，所述第二位置相對于所述第一位置偏轉。

2.根據權利要求1所述的可偏轉結構，其中將所述第二連接點(108；208)配置為所述第一區域(110；210)和所述第二區域(112)之間的預定斷裂點，并且所述可偏轉結構在所述第一區域(110；210)中包括結構(114；114a，114b；214)，所述結構配合所述第一區域產生機械應力，以便相對于所述第二區域(112)偏置所述第一區域(110；210)，使得所述預定斷裂點(108；208)的斷裂引起從初始的第一位置到相對于所述第二區域(112)的偏轉的第二位置的移動。

3.根據權利要求2所述的可偏轉結構，其中所述結構(114，114a，114b)配置為引起沿與所述層(102)的表面(102a)平行的方向的移動。

4.根據權利要求3所述的可偏轉結構，其中所述結構(114，114a，114b)穿透所述層(102)。

5.根據權利要求2所述的可偏轉結構，其中將所述結構(214)實現為引起沿所述層(102)的表面(102a)的上面或下面方向的移動。

6.根據權利要求5所述的可偏轉結構，其中所述結構(114，114a，114b)部分地進入所述層(102)中。

7.根據權利要求2所述的可偏轉結構，其中所述結構(114，114a，114b；214)是連續結構或分段結構。

8.根據權利要求2所述的可偏轉結構，其中所述結構(114，114a，114b；214)包括由產生應力的材料制成的至少一部分(114a，114b；214)。

9.根據權利要求8所述的可偏轉結構，其中所述產生應力的材料引起張應力或壓應力。

10.根據權利要求8所述的可偏轉結構，其中所述結構(114)的所述至少一部分非對稱地設置在所述第一區域(110)中，以便引起沿所述至少一部分的縱向維度的橫向的移動。

11.根據權利要求8所述的可偏轉結構，其中所述結構(114)的所述至少一部分對稱地設置在所述第一區域(110)中，以便引起沿所述至少一部分的縱向維度方向的移動。

12.根據權利要求2所述的可偏轉結構，包括對稱地或非對稱地設置在所述第一區域(110)中的多個結構(114a、114b)。

13.根據權利要求2所述的可偏轉結構，其中所述第一區域(110；210)是環形形狀或矩形形狀的。

14.根據權利要求2所述的可偏轉結構，其中所述第一區域(110)包括在預定斷裂點(180)斷裂時偏轉的致動元件(132)，所述第一連接點(106)將所述致動元件(132)與所述層(102)的所述第二區域(112)相連。

15.根據權利要求14所述的可偏轉結構，其中所述結構(114)包括相對于所述致動元件(132)對稱地設置的多個部分。

16.根據權利要求14所述的可偏轉結構，包括在所述層中形成并且與所述致動元件(132)相連的支座結構(154)。

17.根據權利要求2所述的可偏轉結構，其中所述第一區域(110)還包括可以向其施加用于通過預定斷裂點(108)導致斷裂的力的區域(128)。