[發(fā)明專利]灰階掩模的缺陷檢查方法及裝置及其制造方法、光掩模的缺陷檢查方法、圖案轉(zhuǎn)印方法

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200810081531.2
• 申請(qǐng)日: 2008-02-28
• 公開（公告）號(hào): CN101256350A
• 公開（公告）日: 2008-09-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 中西勝彥
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: HOYA株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03F1/00
• 分類號(hào): G03F1/00;G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司
• 代理人: 李貴亮

1.?一種灰階掩模的缺陷檢查方法，所述灰階掩模具有遮光部、透過部以及半透光部，所述半透光部是調(diào)整透過量的區(qū)域，且以降低透過該區(qū)域的光的透過量來選擇性改變被轉(zhuǎn)印體上的光致抗蝕劑的膜厚為目的，所述灰階掩模的所述半透光部具有形成了在灰階掩模使用時(shí)曝光的曝光條件下的析像限度以下的細(xì)微遮光圖案的區(qū)域，

所述灰階掩模的缺陷檢查方法的特征在于：

具有：掃描所述半透光部，得到透過率信號(hào)的工序；以及將所述透過率信號(hào)與預(yù)先設(shè)定的半透光部的透過率許可值進(jìn)行比較，判定所述半透光部有無缺陷的判定工序，

在得到所述透過率信號(hào)的工序中，利用規(guī)定的光源照射所述半透光部，利用拍攝裝置拍攝在透過了所述半透光部的透過光束的作用下從正聚焦位置以規(guī)定量散焦后的圖像，從該拍攝圖像得到透過率信號(hào)。

2.?如權(quán)利要求1所述的灰階掩模的缺陷檢查方法，其特征在于：

在所述拍攝時(shí)，對(duì)應(yīng)于所述半透光部的圖案形狀或尺寸，或?qū)?yīng)于檢查機(jī)的能力，或?qū)?yīng)于掩模使用時(shí)的曝光條件，或?qū)?yīng)于掩模曝光后的處理工序條件，決定所述散焦量。

3.?如權(quán)利要求1或2所述的灰階掩模的缺陷檢查方法，其特征在于：

決定所述散焦量的條件是：在拍攝所述半透光部?jī)?nèi)的正常的所述細(xì)微遮光圖案形成區(qū)域時(shí)，排列的拍攝裝置的像素中相鄰的像素的光強(qiáng)度差在5％以下。

4.?如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的灰階掩模的缺陷檢查方法，其特征在于：

所述拍攝裝置的像素大小與所述細(xì)微遮光圖案形成區(qū)域中的遮光圖案或透光圖案的線寬之比，為1/2～2的范圍。

5.?如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的灰階掩模的缺陷檢查方法，其特征在于：

所述半透光部的透過率許可值的設(shè)定范圍是如下兩個(gè)判定結(jié)果不同的范圍，即其一是利用所述拍攝裝置在不進(jìn)行散焦的情況下對(duì)灰階掩模的半透光部的細(xì)微遮光圖案形成區(qū)域進(jìn)行拍攝，對(duì)該拍攝圖像進(jìn)行信號(hào)平坦化用的圖像處理而得到透過率信號(hào)，在利用這樣得到的透過率信號(hào)的情況下的判定結(jié)果；其二是進(jìn)行所述散焦來進(jìn)行拍攝而得到透過率信號(hào)，利用這樣得到的透過率信號(hào)的情況下的判定結(jié)果。

6.?一種光掩模的缺陷檢查方法，是具有細(xì)微圖案部的光掩模上的細(xì)微圖案部的缺陷檢查方法，

其特征在于，

具有：掃描所述細(xì)微圖案部，得到透過率信號(hào)的工序；以及將所述透過率信號(hào)與預(yù)先設(shè)定的細(xì)微圖案部的許可透過率值進(jìn)行比較，判定所述細(xì)微圖案部有無缺陷的判定工序，

在得到所述透過率信號(hào)的工序中，利用規(guī)定的光源照射所述細(xì)微圖案部，利用拍攝裝置拍攝在透過了所述細(xì)微圖案部的透過光束的作用下從正聚焦位置以規(guī)定量散焦后的圖像，從該拍攝圖像得到透過率信號(hào)。

7.?一種灰階掩模的缺陷檢查裝置，所述灰階掩模具有：遮光部、透過部以及半透光部，所述半透光部是調(diào)整透過量的區(qū)域，且以降低透過該區(qū)域的光的透過量來選擇性改變被轉(zhuǎn)印體上的光致抗蝕劑的膜厚為目的，

其特征在于，

具有：

利用平行光源以及受光透鏡掃描在所述掩模內(nèi)形成的圖案，接受透過光束的光學(xué)系統(tǒng)；

拍攝接受的透過光的拍攝裝置；以及

利用從該拍攝裝置的拍攝圖像得到的透過率信號(hào)，與預(yù)先設(shè)定的半透光部的透過率許可值進(jìn)行比較，判定所述半透光部有無缺陷的判定裝置，

所述光學(xué)系統(tǒng)及/或所述拍攝裝置具有散焦裝置，所述散焦裝置使所述透過光束產(chǎn)生的像從正聚焦位置以規(guī)定量散焦后形成的像由拍攝裝置進(jìn)行拍攝。

8.?如權(quán)利要求7所述的灰階掩模的缺陷檢查裝置，其特征在于：

具有控制裝置，該控制裝置對(duì)應(yīng)于所述半透光部的圖案形狀或尺寸、或檢查機(jī)的能力、或掩模使用時(shí)的曝光條件、或與掩模曝光后的處理工序條件相關(guān)的散焦量的決定要素?cái)?shù)據(jù)的輸入，將所述光學(xué)系統(tǒng)或所述拍攝裝置驅(qū)動(dòng)至滿足該散焦量的位置，并進(jìn)行維持。

9.?如權(quán)利要求7或8所述的灰階掩模的缺陷檢查裝置，其特征在于：

所述判定裝置中預(yù)先存儲(chǔ)有所述半透光部的透過率許可值范圍、所述透光部的透過率許可范圍、所述遮光部的透過率許可范圍，進(jìn)行與所述透過率信號(hào)的比較。

10.?一種灰階掩模的制造方法，其特征在于：

具有利用權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的缺陷檢查方法進(jìn)行缺陷檢查的缺陷檢查工序。

11.?一種圖案轉(zhuǎn)印方法，其特征在于：

對(duì)通過權(quán)利要求10所述的制造方法得到的灰階掩模照射曝光光，將在所述灰階掩模上形成的圖案轉(zhuǎn)印到被轉(zhuǎn)印體上。