[發明專利]光刻裝置以及器件制造方法

無效

• 申請號: 200810081442.8
• 申請日: 2005-12-01
• 公開（公告）號: CN101241316A
• 公開（公告）日: 2008-08-13
• 發明（設計）人: J·J·M·巴塞曼斯;S·N·L·多德斯;C·A·霍根達姆;J·J·S·M·梅坦斯;J·C·H·穆肯斯;B·斯特里克
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/027
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 王波波

1.一種光刻投影裝置，包括：

設置成可調節輻射光束的照明系統；

設置成可保持圖案形成裝置的支撐結構，所述圖案形成裝置設置成可賦予光束的橫截面某一圖案；

設置成可保持襯底的襯底臺；

設置成可將所述圖案化的輻射光束投射到所述襯底的目標部分上的投影系統；和

液體供給系統，其包括設置成可將液體供給到所述投影系統與所述襯底之間的空間中的入口，以及設置成可去除至少部分所述液體的出口，所述液體供給系統設置成可使所述入口、所述出口或這兩者圍繞基本上垂直于所述襯底的曝光面的軸線而旋轉；以及

一個或多個電動機，設置成可使所述入口、所述出口或這兩者圍繞所述軸線沿著逆時針方向和順時針方向而旋轉；和

控制器，設置成可根據襯底和/或襯底臺的運動方向來控制所述一個或多個電動機。

2.根據權利要求1所述的裝置，其中所述控制器可以前饋方式操作。

3.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述液體供給系統包括構造成至少部分地將所述液體約束在所述空間內的液體約束結構，所述液體約束結構包括所述入口和所述出口，并且構造成可圍繞所述軸線旋轉。

4.根據權利要求3所述的裝置，其特征在于，所述入口和出口分別位于曝光場的相對側上，所述圖案化光束可通過所述曝光場來投影。

5.根據權利要求3所述的裝置，其特征在于，所述液體約束結構支撐在與所述裝置的底座或地面相連的框架上，所述液體約束結構包括一個或多個電動機，其配置成可使所述液體約束結構相對于所述框架旋轉。

6.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述液體在所述空間內的流動方向與所述襯底的運動方向基本上一致。

7.根據權利要求6所述的裝置，其特征在于，所述液體在所述空間內的流動方向與所述襯底的掃描運動方向基本上一致。

8.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述控制器，其設置成可通過所述入口、所述出口或這兩者的旋轉，而將所述空間內液體的流動方向保持與所述襯底的運動方向基本上一致，而無論所述襯底在何時運動。

9.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述入口、所述出口或這兩者構造成可旋轉小于或等于360度。

10.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述入口、所述出口或這兩者構造成可旋轉小于或等于200度。

11.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述控制器設置成可驅動所述入口、所述出口或這兩者僅僅旋轉至這樣的位置，其中從所述入口至所述出口的方向基本上平行于所述襯底的掃描運動且處于同一方向上。

12.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述液體供給系統包括多個入口、多個出口或者這兩者，并且構造成可使所述入口、所述出口或這兩者旋轉。

13.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述空間內液體的流動方向基本上垂直于所述襯底的運動方向。

14.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述液體供給系統構造成可使所述入口僅僅圍繞基本上垂直于所述襯底的曝光面的軸線而旋轉。

15.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述液體供給系統構造成可使所述出口僅僅圍繞基本上垂直于所述襯底的曝光面的軸線而旋轉。

16.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述液體供給系統構造成可使所述入口和出口圍繞基本上垂直于所述襯底的曝光面的軸線而旋轉。

17.一種光刻投影裝置，包括：

設置成可調節輻射光束的照明系統；

設置成可保持圖案形成裝置的支撐結構，所述圖案形成裝置設置成可賦予光束的橫截面某一圖案；

設置成可保持襯底的襯底臺；

設置成可將所述圖案化的輻射光束投射到所述襯底的目標部分上的投影系統；和

液體供給系統，其包括設置成可將液體供給到所述投影系統與所述襯底之間的空間中的入口，以及設置成可去除至少部分所述液體的出口，所述液體供給系統設置成可使所述入口和出口根據所述襯底的運動變化，而一前一后地圍繞基本上平行于所述投影系統光軸的軸線旋轉。