[發(fā)明專利]化學(xué)處理方法和化學(xué)處理裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810081328.5 | 申請日: | 2003-08-21 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101307443A | 公開(公告)日: | 2008-11-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 山本充彥;米村正雄;澤瀉由果;前原智子 | 申請(專利權(quán))人: | 卡西歐邁克羅尼克斯株式會(huì)社;村田株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | C23F1/00 | 分類號(hào): | C23F1/00 |
| 代理公司: | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人: | 于輝 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 化學(xué) 處理 方法 裝置 | ||
1.化學(xué)處理方法,使用該方法將待成膜的材料上形成的金屬膜刻蝕成預(yù)定圖案,所述金屬膜是由選自鉻、鈦、鎢、鈀和鉬中的一種金屬或者含有鉻、鈦、鎢、鈀和鉬中的至少一種的合金形成的,其特征在于所述金屬膜被浸泡在含有鹵素離子的酸性處理溶液中,并以浸泡在所述酸性處理溶液中的金屬膜作為陰極進(jìn)行電解還原。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的方法,其特征在于鹵素離子是氯離子。
3.化學(xué)處理裝置,使用該裝置將待成膜的材料上形成的金屬膜刻蝕成預(yù)定圖案,所述金屬膜是由選自鉻、鈦、鎢、鈀和鉬中的一種金屬或者含有鉻、鈦、鎢、鈀和鉬中的至少一種的合金形成的,其特征在于其包括電解設(shè)備,該電解設(shè)備將金屬膜浸泡在含有鹵素離子的酸性處理溶液中,并對作為陰極的金屬膜進(jìn)行電解還原處理。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于卡西歐邁克羅尼克斯株式會(huì)社;村田株式會(huì)社,未經(jīng)卡西歐邁克羅尼克斯株式會(huì)社;村田株式會(huì)社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
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