[發明專利]測量目標方位和距離的激光雷達設備

有效

• 申請號: 200810081225.9
• 申請日: 2008-02-20
• 公開（公告）號: CN101435870A
• 公開（公告）日: 2009-05-20
• 發明（設計）人: 岡田匡憲;鴻巢光司;田中秀幸
• 申請（專利權）人: 電裝波動株式會社
• 主分類號: G01S7/481
• 分類號: G01S7/481;G01S17/02
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司
• 代理人: 王 英

1.一種測量目標的距離和到所述目標的方位的激光雷達設備， 所述目標位于從所述激光雷達設備開始的測量范圍中，包括：

激光束產生裝置，用于產生具有軸的激光束，并向所述測量范圍 發射所述激光束；

光檢測裝置，用于檢測位于所述測量范圍中的所述目標反射回來 的反射激光束；

反射鏡組件，包括：

通孔，貫通所述反射鏡組件，與從所述激光束產生裝置發射 的所述激光束的軸同軸，并且透射從所述激光束產生裝置發射的所述 激光束；以及

反射表面，設置為與從所述激光束產生裝置發射的所述激光 束的所述軸成預定的角度，并且向所述光檢測裝置反射由所述目標反 射回來的反射激光束；

光偏轉裝置，用于偏轉從所述激光束產生裝置發射的所述激光 束，以及偏轉位于所述測量范圍中的所述目標反射回來的所述激光 束，所述光偏轉裝置具有旋轉軸和焦點，并且包括反射鏡表面，所述 反射鏡表面包括具有平坦反射鏡表面的平坦反射部分和具有凹面形 反射鏡表面的凹面反射部分；

旋轉驅動裝置，用于繞所述光偏轉裝置的旋轉軸旋轉所述光偏轉 裝置，使得所述光偏轉裝置的所述凹面反射部分的所述凹面形反射鏡 表面和所述平坦反射部分的所述平坦反射鏡表面轉向所述測量范圍 的方向，

其中，所述光偏轉裝置的所述焦點位于所述光偏轉裝置的旋轉軸 上，

光偏轉裝置向所述測量范圍偏轉從所述激光束產生裝置發射的 所述激光束，以及向所述反射鏡組件偏轉由位于所述測量范圍中的所 述目標反射回來的所述激光束。

2.如權利要求1所述的設備，還包括：

激光束會聚裝置，用于將所述目標反射回來的所述激光束匯聚到 所述光檢測裝置。

3.如權利要求1所述的設備，其中

所述光偏轉裝置的所述平坦反射部分的所述平坦反射鏡表面被 所述凹面反射部分的所述凹面形反射鏡表面包圍。

4.如權利要求1所述的設備，其中：

所述通孔的周邊表面具有投影圖像，該投影圖像是通過向與所述 激光束產生裝置發射的激光束的軸垂直的平面投影所述通孔的所述 周邊表面而獲得的，并且所述通孔的所述周邊表面具有圓形的形狀， 以及

所述平坦反射部分的所述平坦反射鏡表面的外部邊緣具有投影 圖像，該投影圖像是通過向與所述激光束產生裝置發射的激光束的軸 垂直的平面投影所述平坦反射部分的所述平坦反射鏡表面的外部邊 緣而獲得的，并且所述平坦反射部分的所述平坦反射鏡表面的所述外 部邊緣具有圓形的形狀。

5.如權利要求1所述的設備，還包括：

光束改變裝置，用于將從所述激光束產生裝置發射的所述激光束 改變為具有預定投影圖案的改變的激光束，

其中，所述光束改變裝置嵌在所述光偏轉裝置的所述反射鏡表面 的所述平坦反射部分中，使得從所述激光束產生裝置發射的所述激光 束改變為在測量范圍具有所述預定投影圖案，并且改變的激光束的橫 截面覆蓋比所述激光束產生裝置發射的所述激光束的橫截面更大的 面積。

6.如權利要求5所述的設備，其中

所述光束改變裝置包括衍射光柵。

7.如權利要求5所述的設備，其中

所述預定投影圖案包括亮區和所述亮區包圍的暗區，其中，相比 所述暗區有更多量的光照射在所述亮區上。

8.如權利要求5所述的設備，其中

所述預定投影圖案包括一對亮區和該對亮區之間的暗區。

9.如權利要求8所述的設備，其中

所述預定投影圖案的設計使得該對亮區以預定間隔位于所述光 偏轉裝置的旋轉軸上。