[發明專利]液晶顯示面板與光學補償膜的制造方法無效
| 申請號: | 200810080881.7 | 申請日: | 2008-02-19 |
| 公開(公告)號: | CN101515090A | 公開(公告)日: | 2009-08-26 |
| 發明(設計)人: | 李娟如;邱苓芝;黃彥余 | 申請(專利權)人: | 中華映管股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/13363 | 分類號: | G02F1/13363;G02F1/1333 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 | 代理人: | 陳 亮 |
| 地址: | 臺灣省臺北*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 液晶顯示 面板 光學 補償 制造 方法 | ||
1.一種液晶顯示面板,包括:
一第一基板,具有一第一反應性介相層與配置于該第一反應性介相層上的一第一配向膜;
一第二基板,配置于該第一基板的對向,且該第二基板具有一第二反應性介相層與配置于該第二反應性介相層上的一第二配向膜;以及
一液晶層,配置于該第一配向膜與該第二配向膜之間。
2.如權利要求1所述的液晶顯示面板,其特征在于,該第一反應性介相層與該第二反應性介相層的相位差值分別是介于340納米至380納米。
3.如權利要求1所述的液晶顯示面板,其特征在于,該第一反應性介相層與該第二反應性介相層的厚度分別是介于1微米至40微米之間。
4.如權利要求3所述的液晶顯示面板,其特征在于,該第一反應性介相層與該第二反應性介相層的厚度分別是介于2微米至5微米之間。
5.一種液晶顯示面板,包括:
一第一基板,具有一第一反應性介相層與配置于該第一反應性介相層上的一第一配向膜;
一第二基板,配置于該第一基板的對向,且該第二基板具有一第二反應性介相層與配置于該第二反應性介相層上的一第二配向膜;以及
一液晶層,配置于該第一配向膜與該第二配向膜之間;
其中該第一反應性介相層與該第二反應性介相層的材質包括化學式(I)所示的化合物:
6.一種液晶顯示面板,包括:
一第一基板,具有一第一反應性介相層與配置于該第一反應性介相層上的一第一配向膜;
一第二基板,配置于該第一基板的對向,且該第二基板具有一第二反應性介相層與配置于該第二反應性介相層上的一第二配向膜;以及
一液晶層,配置于該第一配向膜與該第二配向膜之間;
其中該第一反應性介相層與該第二反應性介相層的材質包括化學式(II)所示的化合物:
式(II)中,R2表示官能基的統稱。
7.如權利要求6所述的液晶顯示面板,其特征在于,該第一反應性介相層與該第二反應性介相層的R2官能基包括氫基、氧基、烷基。
8.一種液晶顯示面板,包括:
一第一基板,具有一第一反應性介相層與配置于該第一反應性介相層上的一第一配向膜;
一第二基板,配置于該第一基板的對向,且該第二基板具有一第二反應性介相層與配置于該第二反應性介相層上的一第二配向膜;以及
一液晶層,配置于該第一配向膜與該第二配向膜之間;
其中該第一反應性介相層與該第二反應性介相層的材質包括化學式(III)所示的化合物:
9.一種液晶顯示面板,包括:
一第一基板,具有一第一反應性介相層與配置于該第一反應性介相層上的一第一配向膜;
一第二基板,配置于該第一基板的對向,且該第二基板具有一第二反應性介相層與配置于該第二反應性介相層上的一第二配向膜;以及
一液晶層,配置于該第一配向膜與該第二配向膜之間;
其中該第一反應性介相層與該第二反應性介相層的材質包括化學式(IV)所示的化合物:
10.一種光學補償膜的制造方法,適于在一液晶顯示面板的一基板上形成一光學補償膜,該補償膜的制造方法包括:
提供一基板;
在該基板上形成一液態的反應性介相層;以及
交聯化該液態的反應性介相層,以形成一反應性介相層。
11.如權利要求10所述的光學補償膜的制造方法,其特征在于,在交聯化該液態的反應性介相層之前,還包括對于該液態的反應性介相層進行一退火制程或一干燥制程。
12.如權利要求10所述的光學補償膜的制造方法,其特征在于,交聯化該液態的反應性介相層的方法包括一紫外光交聯化制程或一熱交聯化制程。
13.如權利要求12所述的光學補償膜的制造方法,其特征在于,該紫外光交聯化制程所使用紫外光的波長介于200納米至400納米。
14.如權利要求10所述的光學補償膜的制造方法,其特征在于,形成該液態的反應性介相層的方法包括一旋轉涂布制程或一刮刀涂布制程。
15.如權利要求10所述的光學補償膜的制造方法,其特征在于,該基板包括一薄膜晶體管陣列基板或一彩色濾光基板。
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