[發(fā)明專利]棋盤式高電壓垂直晶體管布局有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810080745.8 | 申請日: | 2008-02-18 |
| 公開(公告)號: | CN101246905A | 公開(公告)日: | 2008-08-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | V·帕塔薩拉蒂;S·巴納吉;M·H·曼利 | 申請(專利權(quán))人: | 電力集成公司 |
| 主分類號: | H01L29/78 | 分類號: | H01L29/78;H01L29/06;H01L27/088 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 張雪梅;劉春元 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 美國;US |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 棋盤式 電壓 垂直 晶體管 布局 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及用于制造高電壓晶體管的半導(dǎo)體器件結(jié)構(gòu)和工藝。
背景技術(shù)
在半導(dǎo)體領(lǐng)域中高電壓場效應(yīng)晶體管(HVFET)已是公知的。很多HVFET采用的器件結(jié)構(gòu)包括延伸的漏極區(qū),當(dāng)器件處于“截止”狀態(tài)時(shí),該延伸的漏極區(qū)支持或阻斷所施加的高電壓(例如幾百伏)。在常規(guī)的垂直HVFET結(jié)構(gòu)中,半導(dǎo)體材料的臺或柱形成用于導(dǎo)通狀態(tài)中的電流的延伸的漏極或漂移區(qū)。在襯底頂部附近、與臺的側(cè)壁區(qū)域相鄰地形成溝槽柵極結(jié)構(gòu),在臺處將本體區(qū)設(shè)置在延伸的漏極區(qū)上方。向柵極施加適當(dāng)?shù)碾妷弘妱菅刂倔w區(qū)的垂直側(cè)壁部分形成導(dǎo)電溝道,使得電流可以垂直流過半導(dǎo)體材料,即,從設(shè)置源極區(qū)的襯底頂表面向下流到設(shè)置漏極區(qū)的襯底底部。
在常規(guī)布局中,垂直HVFET由長的連續(xù)硅柱結(jié)構(gòu)構(gòu)成,該硅柱結(jié)構(gòu)跨越半導(dǎo)體管芯延伸,并且該柱結(jié)構(gòu)在垂直于柱長度的方向上重復(fù)。不過,該布局引起的問題在于,在高溫處理步驟期間硅晶片容易產(chǎn)生大的翹曲。在很多工藝中,翹曲是永久性的且足夠大,防礙了在下一處理步驟中用工具加工晶片。
發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例,提供一種晶體管,包括:半導(dǎo)體管芯;被組織成多個(gè)部分的多個(gè)晶體管段,所述部分基本跨越所述半導(dǎo)體管芯設(shè)置,每個(gè)部分基本為方形,每個(gè)晶體管段具有具有長度和寬度的跑道形狀,每個(gè)晶體管段包括:包括延伸漏極區(qū)的柱,所述延伸漏極區(qū)通過所述半導(dǎo)體管芯沿垂直方向延伸;分別設(shè)置在所述柱的相對側(cè)上的第一和第二介電區(qū)域,所述第一介電區(qū)域由所述柱橫向包圍,并且所述第二介電區(qū)域橫向包圍所述柱;分別設(shè)置在所述第一和第二介電區(qū)域中的第一和第二場板;其中第一部分包括設(shè)置成并排關(guān)系且長度沿第一橫向取向的晶體管段,以及第二部分包括設(shè)置成并排關(guān)系且長度沿基本與所述第一方向正交的第二橫向取向的晶體管段,所述第一部分與所述第二部分相鄰設(shè)置。
根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例,提供一種晶體管,包括:半導(dǎo)體管芯;被組織成多個(gè)部分的多個(gè)晶體管段,每個(gè)晶體管段具有長度和寬度,所述長度大于所述寬度至少20倍,每個(gè)晶體管段包括:半導(dǎo)體材料柱,所述柱包括沿垂直方向通過所述管芯延伸的延伸漏極區(qū);分別設(shè)置在所述柱的相對側(cè)上的第一和第二介電區(qū)域,所述第一介電區(qū)域由所述柱橫向包圍,并且所述第二介電區(qū)域橫向包圍所述柱;分別設(shè)置在所述第一和第二介電區(qū)域中的第一和第二場板;所述部分基本跨越所述半導(dǎo)體管芯設(shè)置成行和列,行或列中的相鄰部分被取向成使得所述相鄰部分的第一個(gè)中的晶體管段的長度沿第一方向延伸,并且所述相鄰部分的第二個(gè)中的晶體管段的長度沿第二方向延伸,所述第一方向基本正交于所述第二方向。
根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例,提供一種半導(dǎo)體晶片,包括:襯底;在所述襯底上布置成行和列的多個(gè)管芯,每個(gè)管芯包括具有多個(gè)晶體管段的晶體管,每個(gè)晶體管段具有基本跨越所述管芯延伸的長度和寬度,每個(gè)管芯的晶體管段基本跨越所述管芯沿所述寬度布置成并排關(guān)系,每個(gè)晶體管段包括:半導(dǎo)體材料柱,所述柱包括設(shè)置在所述管芯的頂表面附近的源極區(qū),以及沿垂直方向通過所述襯底延伸的延伸漏極區(qū),所述柱沿第一和第二橫向延伸以形成跑道形環(huán)或橢圓;分別設(shè)置在所述柱的相對側(cè)上的第一和第二介電區(qū)域,所述第一介電區(qū)域由所述柱橫向包圍,并且所述第二介電區(qū)域橫向包圍所述柱;分別設(shè)置在所述第一和第二介電區(qū)域中的第一和第二場板;行或列中的相鄰管芯被取向?yàn)槭沟盟鱿噜徆苄镜牡谝粋€(gè)中的晶體管段的長度沿第一方向延伸,以及所述相鄰管芯的第二個(gè)中的晶體管段的長度沿第二方向延伸,所述第一方向基本正交于所述第二方向。
根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例,提供一種晶體管,包括:半導(dǎo)體管芯;被組織成多個(gè)部分的多個(gè)跑道形晶體管段,每個(gè)晶體管段具有長度和寬度,所述長度大于所述寬度至少20倍,每個(gè)部分的晶體管段沿所述寬度被布置成并排關(guān)系,每個(gè)晶體管段包括:沿垂直方向延伸的半導(dǎo)體材料柱,所述柱具有設(shè)置在所述管芯的頂表面附近的源極區(qū),延伸漏極區(qū)以及將源極和延伸漏極區(qū)垂直分開的本體區(qū);分別設(shè)置在所述柱的相對側(cè)上的第一和第二介電區(qū)域,所述第一介電區(qū)域由所述柱橫向包圍,并且所述第二介電區(qū)域橫向包圍所述柱;分別設(shè)置在所述第一和第二介電區(qū)域中的第一和第二場板;所述部分基本跨越所述半導(dǎo)體管芯設(shè)置成行和列,行或列中的相鄰部分被取向成使得所述相鄰部分的第一個(gè)中的晶體管段的長度沿第一方向延伸,并且所述相鄰部分的第二個(gè)中的晶體管段的長度沿第二方向延伸,所述第一方向基本正交于所述第二方向。
附圖說明
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于電力集成公司,未經(jīng)電力集成公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200810080745.8/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個(gè)電位躍變勢壘或表面勢壘的半導(dǎo)體器件;具有至少一個(gè)電位躍變勢壘或表面勢壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導(dǎo)體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過對一個(gè)不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過施加于器件的磁場變化可控的





